抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂制造技术

本发明专利技术属于口腔清洁护理用品领域，特别适用于减轻人体牙本质敏感，本发明专利技术所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品，主要为：牙膏、牙粉、口腔用贴膜剂、口腔用软膏剂、口腔用糊剂等，其所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品中含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子，由于微米级羟基磷灰石在牙本质的牙小管空隙中形成稳定的结晶状羟基磷灰石沉积层，从而发生封闭牙小管的作用，产生迅速且长期地降低牙本质过敏现象；复配的钾离子，可以阻止牙髓神经纤维的去极化作用，使牙神经麻痹，降低牙神经的敏感作用。上述双重作用途径同时发挥效果，比两种单一物质中任何一种单独使用都带来更好的抗牙本质敏感作用，本发明专利技术使用方便，经临床实验证明效果非常好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于口腔清洁护理用品领域，特别适用于减轻人体牙本质敏感的制剂。
技术介绍
牙本质敏感为口腔常见病和多发病，在全球35岁以上人群中，80%以上的人存在牙本质过敏现象，牙本质过敏的主要机理是由于牙釉质的损伤及牙龈萎缩等原因导致牙本质外露，外露的牙本质在受到外界冷、热、酸、甜、压力等的刺激下，牙小管中生物液压发生变化，这种压力的变化传递到与牙小管相连的牙神经，使人们感到疼痛、酸胀等不同程度的牙齿不适反应。
技术实现思路
本专利技术的目的旨在于克服现有技术的缺陷，提供一种能够减轻乃至解决牙本质敏感现象，防止由于外界刺激给人们带来的不适和痛苦而提供便捷有效的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂。本专利技术所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，它是由重量比为3%_25%的微米级羟基磷灰石材料、1%-5%钾离子和余量的辅料组成。所述的微米级轻基磷灰石的直径范围是0.5um_5um。 所述的钾离子为含有钾离子的盐类。所述的含有钾离子的盐类为硝酸钾。本专利技术所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙膏。本专利技术所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材本文档来自技高网...

【技术保护点】
抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于，由重量比为3%?25%的微米级羟基磷灰石材料、1%?5%钾离子和余量的辅料组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高鹰，张秋霞，刘萍，宁科功，
申请(专利权)人：云南白药集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：