用于对气相进行二次分布的分布装置及精馏塔制造方法及图纸

技术编号:8691187 阅读:120 留言:0更新日期:2013-05-13 02:20
本实用新型专利技术公开了一种用于对气相进行二次分布的分布装置及精馏塔。本实用新型专利技术的用于对气相进行二次分布的分布装置包括溢流堰,所述溢流堰内设置有第一气相分布盘和第二气相分布盘,所述第一气相分布盘上开设有若干气孔,且沿其周向设置有挡板,所述挡板与所述溢流堰内壁围合成供液体流出的降液管,所述第二气相分布盘设置在所述第一气相分布盘的下方,且其上设置有升气管和液相喷淋点。本实用新型专利技术的用于对气相进行二次分布的分布装置及具有该分布装置的精馏塔能够有效提高塔效率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种化工生产的精馏设备的部件,尤其涉及一种用于对气体进行二次分布的分布装置及具体该分布装置的精馏塔。
技术介绍
在精馏、吸收、解吸填料塔中,气体和液体的分布对填料塔的分离效果有很大的影响。但由于所述填料塔中填料的各处阻力不同,往往导致气相从阻力较小处通过,而液相则由逐渐向塔壁集中的趋势,以致造成塔壁附近的液流量较大以及液相分布不均的现象,从而影响填料塔的塔效率。通常情况下,液体收集和再分布装置,只考虑对液相的二次分布,而未考虑气相的再分布。因此,需要设计一种可对气相进行二次收集和再分布的装置。
技术实现思路
有鉴于此,本技术提供一种用于对气体进行二次分布的分布装置及精馏塔,通过对精馏塔的分布装置的结构的改进,以解决现有不能够对气相进行再分布而影响塔效率的技术问题。本技术通过以下技术手段解决上述技术问题:本技术的一种用于对气相进行二次分布的分布装置,包括溢流堰,所述溢流堰内设置有第一气相分布盘和第二气相分布盘,所述第一气相分布盘上开设有若干气孔,且沿其周向设置有挡板,所述挡板与所述溢流堰内壁围合成供液体流出的降液管,所述第二气相分布盘设置在所述第一气相分布盘的下方,且其上设置有升气管和液相喷淋点。进一步地,所述挡板顶部沿径向设置有溢流槽。进一步地,所述升气管上设置有溢流孔。基于上述的用于对气相进行二次分布的分布装置,本技术还提供一种精馏塔,包括塔体,以及设置在所述塔体内的上述的任意一种用于对气相进行二次分布的分布>J-U ρ α装直。本技术的有益效果:本技术的用于对气相进行二次分布的分布装置及精馏塔,通过设置第一气相分布盘,且其周向设置挡板,因此当被收集的液相可在该第一气相分布盘上保持一定高度,即在第一气相分布盘上形成一层液层,使得上升的气相在相同液层压力作用下进行均匀的二次分布;同时,由该溢流堰溢流的液体通过降液管流向第二气相分布盘,并通过液相喷淋管进行液相二次分布,从而提高了塔效率。以下结合附图和实施例对本技术作进一步描述。附图说明图1为本技术的用于对气相进行二次分布的分布装置的一实施例的结构示意图。具体实施方式以下将结合附图对本技术进行详细说明。参见图1,为本技术的用于对气相进行二次分布的分布装置的一实施例的结构示意图。具体实施时,本实施例的该用于对气相进行二次分布的分布装置包括溢流堰1,该溢流堰I内设置有第一气相分布盘2和第二气相分布盘3。其中,第一气相分布盘2上开设有若干气孔20,且沿其周向设置有挡板4,该挡板4与上述的溢流堰I内壁围合成供液体流出的降液管5 ;第二气相分布盘3设置在第一气相分布盘2的下方,其上设置有升气管31和液相喷淋点。本实施例中,该第一气相分布盘2上的气孔数目和大小,根据液相流量设计;第二气相分布盘3上升气管31和液相喷淋点的数目和大小,根据液相流量设计;第二气相分布盘3上的升气管31的闻度根据液相流量设计;第二气相分布盘3的升气管31上的溢流孔32根据液相流量设计。参见图1,为了便于第一气相分布盘2内的液体流出,具体实施时,本实施例中,在挡板4的顶部沿径向设置有溢流槽。具体实施时,该溢流槽可为间隔设置的“V”形槽,或者连续设置的“V”形槽(即设置成锯齿状)。参见图1,为了加快液体流出,本实施例中还可在升气管31的管壁上设置有溢流孔32。基于上述实施例的用于对气相进行二次分布的分布装置,本具体实施方式还提供一种精馏塔。具体实施时,本实施例的精馏塔包括塔体,以及设置在该塔体内的上述实施例的用于对气相进行二次分布的分布装置。最后说明的是,以上实施例仅用以说明本技术的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本技术进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本技术的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本技术技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本技术的权利要求范围当中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对气相进行二次分布的分布装置,包括溢流堰(1),其特征在于,所述溢流堰(1)内设置有第一气相分布盘(2)和第二气相分布盘(3),所述第一气相分布盘(2)上开设有若干气孔(20),且沿其周向设置有挡板(4),所述挡板(4)与所述溢流堰(1)内壁围合成供液体流出的降液管(5),所述第二气相分布盘(3)设置在所述第一气相分布盘(2)的下方,且其上设置有升气管(31)和液相喷淋点。

【技术特征摘要】
1.种用于对气相进行二次分布的分布装置,包括溢流堰(I),其特征在于,所述溢流堰(I)内设置有第一气相分布盘(2)和第二气相分布盘(3),所述第一气相分布盘(2)上开设有若干气孔(20),且沿其周向设置有挡板(4),所述挡板(4)与所述溢流堰(I)内壁围合成供液体流出的降液管(5),所述第二气相分布盘(3)设置在所述第一气相分布盘(2)的下方...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈奎张健荣何震曾小梅
申请(专利权)人:重庆恒远晋通科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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