【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻领域,光学成像领域,信息存储领域和粒子加速领域,特别是ー种产生超分辨光斑和超长焦深的装置。
技术介绍
随着微纳技术的飞速发展,光存储技术,光刻技术,光学成像技术,光学制造技术都面临着突破衍射极限的问题。通过缩短激光波长到GaN激光器的405nm和増大光学镜头的数值孔径到0.95,由衍射光斑大小公式:D = 0.61 A /N..A.可知,衍射光斑也只能达到0.5 u m左右,在米用可见光波长和远场光学系统下,依靠传统的缩短激光波长和增大光学镜头的数值孔径的方法已经走向极限。如何打破光的衍射极限使光斑达到纳米量级是当前面临的瓶颈问题。如今,在一定条件下,径向偏振光比线偏振光或圆偏振光都能获得相对更小的聚焦光斑,越来越被广泛的应用在上述领域中。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于提供一种获得具有超长焦深的超分辨光斑的装置,该装置具有制作相对简单,可实施性强和廉价的优点,能使一束线偏振光通过后在所述的物镜的焦面形成具有超分辨光斑和超长焦深的光强分布。本专利技术的技术解决方案是:一种产生超分辨光斑和超长焦深的装置,特点在于其构成:沿光束前进方向依 ...
【技术保护点】
一种产生超分辨光斑和超长焦深的装置,特征在于其构成:沿光束前进方向依次是将入射的线偏振光转化为径向偏振光的液晶偏振模式转化器(1),中心第一环被遮挡的五环纯相位型超分辨相位板(2)和数值孔径为NA=0.95的物镜,所述的五环纯相位型超分辨相位板(2)自内向外的第一环、第二环、第三环、第四环和第五环的归一化半径依次为:r1=0.8875,r2=0.8965,r3=0.9191,r4=0.9481,r5=1;其中第二环、第三环、第四环和第五环相应的位相分别为:φ1=π,φ2=0,φ3=π,φ4=0;所述的物镜(3)与所述的五环纯相位型超分辨相位板(2)紧贴。
【技术特征摘要】
1.一种产生超分辨光斑和超长焦深的装置,特征在于其构成:沿光束前进方向依次是将入射的线偏振光转化为径向偏振光的液晶偏振模式转化器(I),中心第一环被遮挡的五环纯相位型超分辨相位板(2)和数值孔径为NA=0.95的物镜,所述的五环纯相位型超分辨相位板(2)自内向外的第一环、第二环、第三环、第四环和...
【专利技术属性】
技术研发人员:查一昆,魏劲松,干福熹,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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