清洗过滤器的循环装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种清洗过滤器的循环装置，包括过滤器和供给泵，所述过滤器第一端连接所述供给泵，所述过滤器的第二端连接一需求设备，所述清洗过滤器的循环装置还包括：供液管道、第一阀门、第二阀门、第三阀门、第四阀门和排液管道；所述供液管道第一端通过第一阀门连接到供给泵的第一端，所述供给泵的第一端通过第二阀门连接到需求设备，所述供给泵的第二端连接到所述过滤器的第一端，所述过滤器的第二端通过第三阀门连接到需求设备，所述过滤器的第二端通过第四阀门连接到排液管道，所述过滤器的第二端还连接到供液管的第二端。通过采用本实用新型专利技术的清洗过滤器的循环装置可以显著降低更换过滤器的频率，同时减少专业对应人员数量和对应时间，从而有效的降低了生产成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

清洗过滤器的循环装置
本技术涉及半导体制造
，特别涉及一种清洗过滤器的循环装置。
技术介绍
在半导体的制造工艺中，经常需要刻蚀去除部分金属材料、绝缘材料以及半导体 材料，从而形成一定形状的图形。刻蚀设备通常分为湿法刻蚀设备和干法刻蚀设备。对于 湿法刻蚀设备，经常需要使用各种刻蚀液。另外，在半导体制造工艺中，经常使用的设备还 有清洗设备。为了保证各种刻蚀液和清洗液的洁净度，通常在刻蚀液和清洗液的供给系统 中设置过滤器。过滤器的核心部件是过滤器的过滤芯，过滤器使用一段时间后，过滤芯内会沉积 一定堵塞物，沉积的堵塞物过多时，会堵塞过滤器的网眼，导致液体在过滤前后的压力差增 大，流速下降。为了保证刻蚀液和清洗液的正常流速，需要定时清洗过滤器或者更换过滤 器。如图1所示，以刻蚀氧化硅的湿刻设备为例，过滤器101 —端连接一供给泵102，供 给泵102连接湿刻设备的磷酸循环槽103，过滤器101的另一端连接一湿刻设备的磷酸的 供液槽104。当上述设备中的磷酸经过一段时间刻蚀之后，磷酸刻蚀去除的氧化硅会逐渐 聚集到过滤器101的过滤芯内，将其堵塞，这时就需要更换过滤器101，其更换频本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗过滤器的循环装置，包括过滤器和供给泵，所述过滤器第一端连接所述供给泵，所述过滤器的第二端连接一需求设备，其特征在于，所述清洗过滤器的循环装置还包括：供液管道、第一阀门、第二阀门、第三阀门、第四阀门和排液管道；所述供液管道的第一端通过第一阀门连接到所述供给泵的第一端，所述供给泵的第一端还通过第二阀门连接到所述需求设备，所述供给泵的第二端连接到所述过滤器的第一端，所述过滤器的第二端通过第三阀门连接到需求设备，所述过滤器的第二端还通过第四阀门连接到所述排液管道，所述过滤器的第二端还连接到供液管的第二端。

【技术特征摘要】
1.一种清洗过滤器的循环装置，包括过滤器和供给泵，所述过滤器第一端连接所述供给泵，所述过滤器的第二端连接一需求设备，其特征在于，所述清洗过滤器的循环装置还包括供液管道、第一阀门、第二阀门、第三阀门、第四阀门和排液管道；所述供液管道的第一端通过第一阀门连接到所述供给泵的第一端，所述供给泵的第一端还通过第二阀门连接到所述需求设备，所述供给泵的第二端连接到所述过滤器的第一端，所述过滤器的第二端通过第三阀门连接到需求设备，所述过滤器的第二端还通过第四阀门连接到所述排液管道， 所述过滤器的第二端还连接到供液管的第二端。2.如权利要求1所述的清洗过滤器的循环装置，其特征在于，所述供液管道内设置传感器，所述传感器的信号用于触发所述供给泵。3.如权利要求1所述的清洗过滤器的循环装置，其特征在于，在所述过滤器和第一阀门之间设置流量计和...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈峰，沈雪松，卫金荣，倪尧，肖方，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：实用新型
国别省市：