【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种塑料表面处理方法,尤其是涉及一种塑料基材表面具有光催化自清洁功能的表面处理方法,其可应用于卫浴、汽车、家电等领域。
技术介绍
液相沉积Liquid-Phase Deposition (LPD)从属于半导体生长工艺的液相外延技术。利用LDP工艺生长SiO2是新近发展起来的技术。溶液采用过饱和的氟硅酸溶液,利用其和水的如下反应H2SiF6+H20 — Si02+6HF根据如上反应,当H2SiF6的浓度、H2O的含量增加或是HF的浓度降低时,便发生SiO2的沉积。目前,已有采用向溶液中添加H3B03、A1或水的方式来加快SiO2的沉积。沉积的速率在O. OOfO. 007nm/s,这取决于溶液的组成。其速率远小于热氧化的生长速率((100))面,1000°C时大约O. lnm/s。当前,已可以采用LPD沉积的金属的氧化物有T1、Sn、Zr、V、Cd、Zn、N1、Fe、Al等。与其他氧化物工艺相比,LPD有自己的优势低温,廉价,基底的多样性等;热氧化生成的氧化膜的综合质量较好,但较高的氧化温度导致的热应力也会造成缺陷态的存在;电化学沉积过程中电流通路的 ...
【技术保护点】
一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于包括以下步骤:1)对塑料基材表面进行除油处理;2)对经过步骤1)处理的塑料基材进行喷涂漆层;3)对经过步骤2)处理的塑料基材进行物理气相沉积等离子体改性后,再进行物理气相沉积金属铬层;4)对经过步骤3)处理的塑料基材进行常压等离子辉光处理,使其金属铬层表面具有亲水性;5)对经过步骤4)处理的塑料基材进行液相沉积纳米锐钛矿型的二氧化钛透明薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于包括以下步骤 1)对塑料基材表面进行除油处理; 2)对经过步骤I)处理的塑料基材进行喷涂漆层; 3)对经过步骤2)处理的塑料基材进行物理气相沉积等离子体改性后,再进行物理气相沉积金属铬层; 4)对经过步骤3)处理的塑料基材进行常压等离子辉光处理,使其金属铬层表面具有亲水性; 5)对经过步骤4)处理的塑料基材进行液相沉积纳米锐钛矿型的二氧化钛透明薄膜。2.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤2)中,所述喷涂漆层为紫外光固化漆、聚氨酯漆中的至少一种。3.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤2)中,所述漆层的厚度为10 30 μ m。4.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤3)中,所述物理气相沉积等离子体改性的工艺条件为离子源电流O. 3 O. 6A,偏压20 80V,占空比40% 80%,氩...
【专利技术属性】
技术研发人员:张先超,余水,李明仁,
申请(专利权)人:厦门建霖工业有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。