本实用新型专利技术公开了一种防指纹保护膜,所述防指纹保护膜包括离型膜、第一基膜和第二基膜,所述离型膜设置在所述第一基膜的下端面,所述第二基膜设置在所述第一基膜的上端面;所述防指纹保护膜还包括防指纹硬化处理层,所述防指纹硬化处理层设置在所述第一基膜和所述第二基膜之间。采用本技术方案的有益效果是:有效改善保护膜的透光率,加强了保护膜的硬度,提高抗刮花特性,增加了防指纹功能,改善了触摸屏产品的外观,增加了防细菌特性,可以更健康更放心的使用,同时拥有良好的触摸手感。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种防指纹保护膜,具体涉及一种防细菌的防指纹保护膜。
技术介绍
现有技术中,市场上的贴膜产品繁多,质量上更是杂乱无章,很多次品充斥市场,如背胶类保护膜,因其成本低廉,一度受到商户推崇,但由于其背胶会伤害到手机屏幕,以及贴上就难于取下和残胶的特性,所以现在更多是静电粘贴保护膜,但是非常容易粘指纹;手感不好;非常容易刮花;触摸屏电子产品长期使用造成细菌大量残留。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术的目的在于提供一种防指纹保护膜,有效改善保护膜的透光率,加强了保护膜的硬度,提高抗刮花特性,增加了防指纹功能,改善了触摸屏产品的外观,增加了防细菌特性,可以更健康更放心的使用,同时拥有良好的触摸手感。为达到上述目的,本技术的技术方案如下一种防指纹保护膜,所述防指纹保护膜包括离型膜、第一基膜和第二基膜,所述离型膜设置在所述第一基膜的下端面,所述第二基膜设置在所述第一基膜的上端面;所述防指纹保护膜还包括防指纹硬化处理层,所述防指纹硬化处理层设置在所述第一基膜和所述第二基膜之间。优选的,所述防指纹硬化处理层由含有杀菌银离子的材料制成。优选的,所述防指纹保护膜还包括第一胶水层,所述第一胶水层设置在所述离型膜与所述第一基膜之间。优选的,所述防指纹保护膜还包括第二胶水层,所述第二胶水层设置在所述第一基膜与所述第二基膜之间。优选的,所述离型膜、第一基膜、第二基膜为PET材料制成的膜。优选的,所述第一胶水层为硅胶材料制成的胶水层。优选的,所述第二胶水层为硅胶材料制成的胶水层。优选的,所述防指纹硬化处理层的厚度为3-4微米。采用本技术方案的有益效果是有效改善保护膜的透光率,加强了保护膜的硬度,提高抗刮花特性,增加了防指纹功能,改善了触摸屏产品的外观,增加了防细菌特性,可以更健康更放心的使用,同时拥有良好的触摸手感。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例技术中的技术方案,下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图。图中数字和字母所表示的相应部件名称1.离型膜2.第一基膜3.第二基膜4.防指纹硬化处理层5.第一胶水层6.第二月父水层。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。实施例1如图1所示,本技术的一种防指纹保护膜,所述防指纹保护膜包括离型膜1、第一基膜2和第二基膜3,离型膜I设置在第一基膜2的下端面,第二基膜3设置在第一基膜2的上端面;防指纹保护膜还包括防指纹硬化处理层4,防指纹硬化处理层4设置在第一基膜2和第二基膜3之间。防指纹硬化处理层4由含有杀菌银离子的材料制成。防指纹保护膜还包括第一胶水层5,第一胶水层5设置在离型膜I与第一基膜2之间。防指纹保护膜还包括第二胶水层6,第二胶水层6设置在第一基膜2与第二基膜3之间。离型膜1、第一基膜2、第二基膜3为PET材料制成的膜。第一胶水层5为硅胶材料制成的胶水层。第二胶水层6为硅胶材料制成的胶水层。离型膜I用于保护膜第一基膜2的第一胶水层5不受污染。第一基膜2使用在触摸屏产品上,第一胶水层5粘贴在触摸屏产品的屏幕,具有快速排气泡功能。第二基膜3为主要用于保护第一基膜2的表面不受外界环境的污染。第一基膜2上设有防指纹硬化处理层4,进行特殊的防指纹、防细菌及硬化处理,处理后的保护膜表面硬度可以达到2-3H,有效的避免膜被刮花,改善了触摸手感。紫外线热固化处理强化了 PET基膜的表面硬度,防止被硬物划伤。改善了保护膜的透光率,一般保护膜为88、0%的透光率,本技术的保护膜可以达到92、3% ;加强了保护膜的硬度,一般保护膜硬度为1H,本技术的保护膜能够达到2 3H,有很好的抗刮花特性;增加了防指纹功能,改善了触摸屏产品的外观;增加了防细菌特性,可以更健康更放心的使用;优秀的触摸手感。本实施例中,防指纹硬化处理层4的厚度为3. 5微米,离型膜I的厚度为50微米,第一胶水层5的厚度为20微米,第一基膜2的厚度为100微米,第二胶水层6的厚度为10微米,第二基膜3的厚度为50微米。实施例2其余与实施例1相同,不同之处在于,防指纹硬化处理层4的厚度为3微米,离型膜I的厚度为50微米,第一胶水层5的厚度为20微米,第一基膜2的厚度为100微米,第二胶水层6的厚度为10微米,第二基膜3的厚度为50微米。实施例3其余与实施例1相同,不同之处在于,防指纹硬化处理层4的厚度为4微米,离型膜I的厚度为50微米,第一胶水层5的厚度为20微米,第一基膜2的厚度为100微米,第二胶水层6的厚度为10微米,第二基膜3的厚度为50微米。采用本技术方案的有益效果是有效避免太阳光照射而产生的反射,有效的避免指纹的残留,有效防止被硬物划伤;同时拥有良好的触摸手感。对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防指纹保护膜,其特征在于,所述防指纹保护膜包括离型膜、第一基膜和第二基膜,所述离型膜设置在所述第一基膜的下端面,所述第二基膜设置在所述第一基膜的上端面;所述防指纹保护膜还包括防指纹硬化处理层,所述防指纹硬化处理层设置在所述第一基膜和所述第二基膜之间。
【技术特征摘要】
1.一种防指纹保护膜,其特征在于,所述防指纹保护膜包括离型膜、第一基膜和第二基膜,所述离型膜设置在所述第一基膜的下端面,所述第二基膜设置在所述第一基膜的上端面;所述防指纹保护膜还包括防指纹硬化处理层,所述防指纹硬化处理层设置在所述第一基膜和所述第二基膜之间。2.根据权利要求1所述的ー种防指纹保护膜,其特征在于,所述防指纹硬化处理层由含有杀菌银离子的材料制成。3.根据权利要求2所述的ー种防指纹保护膜,其特征在干,所述防指纹保护膜还包括第一胶水层,所述第一胶水层设置在所述离型膜与所述第一基膜之间。4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:栾万勇,
申请(专利权)人:纳诺电子化学苏州有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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