一类小分子阻垢剂及其制备方法技术

一类小分子阻垢剂及其制备方法，小分子阻垢剂分子结构为：其中：1，2，3；m=0，1；n=1，2，3制备方法是以三聚氯氰、氨基双羧酸二钠、氨基化合物、缚酸剂为主要原料，利用三聚氯氰分子中三个氯的取代反应差异性，合成一类含多羧酸根的化合物，此类化合物易溶于水，在弱碱性条件下具有很强的金属离子螯合能力，能起到很好的缓蚀、阻垢作用，可应用于工业冷却循环水处理领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于精细化学品合成和水处理领域，具体涉及。
技术介绍
现代工业生产中，为了节约冷却用水，工厂通常采用冷却水循环使用技术。随着冷却水循环次数的增加，冷却水中的碳酸钙、磷酸钙等难溶盐的浓度会大大超过其饱和溶解度，从水中析出，而沉淀形成水垢。水垢的形成会降低水冷器的换热效率，甚至堵塞管路，严重影响生产的正常运行。冷却水中加入的阻垢剂能有效螯合、分散钙、镁等金属离子，减缓碳酸钙等难溶物晶体的生长，使晶体保持在微晶状态，进而防止水垢的形成。阻垢剂的种类非常丰富，按照发展历程及起主要作用的官能团，大致分为天然聚合物阻垢剂、含磷类阻垢剂、共聚合物阻垢剂和绿色新型聚合物阻垢剂。其中，小分子阻垢剂主要是含磷类阻垢剂，如三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、N，N-二甲基甲叉二膦酸(DMMP)、羟基亚乙基二膦酸(HEDP)、乙二胺四甲叉膦酸(EDTMP)等。但是，含磷物质会使水体富营养化，促进藻菌滋生，带来环保问题，且这些含磷小分子阻垢剂中所含的官能团少，阻垢效果还有待提闻。杨宝贵从动力学角度较为深入、全面地研究了并优化了三聚氯氰与氨基化合物的反应条件,制备出多臂引发核2TDETA、2TTETA、2TTEPA、3TDETA、4TTETA和5TTEPA。此研究为本专利技术提供了可靠的理论基础。目前，以三聚氯氰为原料合成的多羧酸小分子阻垢剂的相关报道较为少见。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的缺点，本专利技术旨在提供，该类阻垢剂不含磷，不会使水体富营养化，使用量小，且对碳酸钙、磷酸钙等的阻垢效率闻。为了达到上述目的，本专利技术采取的技术方案为一类小分子阻垢剂，其结构通式为

【技术保护点】
一类小分子阻垢剂，其特征在于，结构通式为：其中1，2，3；m=0，1；n=1，2，3。FDA00002600531000011.jpg,FDA00002600531000012.jpg

【技术特征摘要】
1.ー类小分子阻垢剂，其特征在于，结构通式为2.根据权利要求1所述的ー类小分子阻垢剂，其特征在于，制备方法包括以下步骤 1)向装有搅拌器和温度计的四ロ烧瓶中加入18.5 46.1份质量份数三聚氯氰和30 60份质量份数冰水，在0 5°C条件下滴加63. 7 171. 0份质量份数质量浓度30%的氨基双羧酸ニ钠水溶液，用质量浓度10%的缚酸剂水溶液调节并控制体系pH=5. 5 6. 5，加完反应物后反应2. 5 4. Oh,得到混合物A ； 2)将混合物A升温至35 45°C，滴加10.0 31. 6份质量份数质量浓度30%的氨基化合物水溶液，用质量浓度10%的缚酸剂水溶液调节并控制体系pH=7. 0 8. 0，加完反应物后反应4. 0 6. Oh,得到混合物B ； 3)将混合物B升温至80 90°C，滴加63.7 171. 0份质量份数质量浓度30%的氨基双羧酸ニ钠水溶液，用质量浓度10%的缚酸剂水溶液调节并控制体系pH=7....

【专利技术属性】
技术研发人员：强西怀，薛强，张辉，李希青，盛祖涵，
申请(专利权)人：陕西科技大学，
类型：发明
国别省市：