一种多轴同步运动控制系统及其控制方法技术方案

本发明专利技术提供了一种多轴同步运动控制系统，包括：上位机；同步信号模块；主机箱，主机箱与上位机通讯连接，主机箱包括：主板卡和多个次级板卡，主板卡通过背板分别与多个次级板卡进行通讯传输，主板卡与上位机通讯连接，每个次级板卡之间连接同步信号模块；多个次级机箱，各个次级机箱之间以及各个次级机箱与主机箱之间连接同步信号模块。本发明专利技术还提供了一种多轴同步运动控制系统的控制方法。本发明专利技术所提供的多轴同步运动控制系统的结构简单，层次化清晰，且易于维修、更换、重用和扩展。该控制系统可以满足各种复杂的控制算法、轨迹规划等的计算量要求，为控制轴数的扩展提供了保障。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及计算机控制领域，尤其涉及。
技术介绍
多轴同步运动控制包含两个层面的意思，一是多轴，包括多个速度、位置的控制，为几个甚至几十个传感器和执行器的统一体；二是同步，具体而言，是执行器运动的时间保持一致，在指定的时间开始运动，在指定的时间达到某个位置。现在大型的数控设备或光刻设备要求同步控制的轴数达到十几轴甚至几十轴，同时控制算法越来越复杂，而同步时间却要求越来越精确。光刻是集成电路加工过程中最关键的工序，因此光刻机是集成电路加工过程中最关键的设备。在步进扫描光刻机中，光束通过一个狭缝并透过照明系统投影到掩膜面上，掩膜以设定的匀速通过这束光。同时，硅片在透镜的下方以相反方向运动。承载硅片的工件台和承载掩膜的掩膜台都能够实现高速运动，使得步进扫描光刻机具有很高的生产率，从而更好地满足了市场对半导体芯片加工的需求。步进扫描光刻机需要非常注意同步的问题，这是因为(I)对所有涉及的子模块，扫描必须在相同的时间段内完成。具体来说，工件台和掩膜台必须在完全相同的时间段内通过事先规划好的轨迹；照明系统必须在相同的时间段内提供均匀分布的正确剂量；狭缝控制系统必须与掩膜台同步地打开和关闭它的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多轴同步运动控制系统，包括：上位机；同步信号模块；主机箱，所述主机箱与所述上位机通讯连接，所述主机箱包括：主板卡和多个次级板卡，所述主板卡通过背板分别与多个所述次级板卡进行通讯传输，所述主板卡与所述上位机通讯连接，每个所述次级板卡之间连接所述同步信号模块；多个次级机箱，所述各个次级机箱之间以及所述各个次级机箱与所述主机箱之间连接所述同步信号模块。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢仁飚，方欣，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：