一种废水回收系统技术方案

技术编号:8467585 阅读:230 留言:0更新日期:2013-03-24 10:14
本实用新型专利技术公开了一种废水回收系统,包括水槽,该水槽通过第一隔板分为过滤槽和抽水槽;其中,过滤槽与硅片清洁机的排水口连通,抽水槽通过设置于其内的抽水系统与预清洗水槽连通。由于在清洗过程中通过溢流来保持水的洁净程度,清洗机的进水口一直处于打开状态,因此废水经由排水口不断流入水槽的过滤槽内。废水在过滤槽过滤沉淀后水位达到第一隔板高度时,相对清洁的水由第一隔板流入抽水槽,再经由抽水槽内的抽水系统将过滤后的水抽入硅片预清洗槽内待喷淋使用。该废水回收系统,将清洗机所排的废水全部利用,抽入预清洗槽内进行粗略喷淋使用,并且因为由清洗机排出的废水水温适中,预清洗硅片时无需再次加热,从而实现了节能减排的目的。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能光伏发电领域,特别涉及一种废水回收系统
技术介绍
太阳能是一种新型能源,具有环保、节能、取之不尽用之不竭、不受时间、空间限制等特点。目前,在世界范围内资源紧缺的环境下,太阳能以其固有的特点博得了多数使用者的青睐。在太阳能光伏产业中,硅片作为产业链中的重要组成部分,硅片的表面清洁度对高质量的硅器件的质量尤为重要。如果表面质量达不到要求,无论其他工艺步骤控制的多么优秀,也不可能获得高质量的半导体器件。因此硅片的清洗工艺在其整个生产工艺中具有举足轻重的地位。目前,传统的硅片清洗系统分为两个工序,即硅片预清洗工序与硅片清洗工序。I.硅片预清洗工序的作用是,将线锯切出的带有大量切割浆料的晶棒粗略冲洗干净,使晶棒上的硅片与玻璃脱离。由于预清洗后的水含有大量的切割浆料,因此不进行回收利用而是直接排出。2.硅片清洗工序作用是,将硅片每片分开后,再加入药剂进行彻底清洗,在清洗机的最后三个槽内使用清水进行漂洗。清洗过程中为了一直保持水槽中的洁净程度,而使进水管一直处于打开状态,进行溢流。综上所述,清洗硅片用水量巨大,且硅片清洗工序后水较为干净且含有药剂等化学物质,如果直接排出将会造成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种废水回收系统,其特征在于,包括水槽,所述水槽通过第一隔板分为过滤槽和抽水槽;其中,所述过滤槽与硅片清洁机的排水口连通,所述抽水槽通过设置于其内的抽水系统与硅片预清洗水槽连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:崔盼高世超
申请(专利权)人:蠡县英利新能源有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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