滤波器容性交叉耦合结构制造技术

技术编号:8440767 阅读:165 留言:0更新日期:2013-03-18 01:27
本实用新型专利技术涉及一种滤波器容性交叉耦合结构,包括滤波器腔体和盖板,所述滤波器腔体和盖板之间的空腔内设有多个装有谐振杆的谐振腔,非相邻的两个谐振腔之间设有容性交叉耦合装置,所述容性交叉耦合装置为设有微带线的PCB板,所述微带线与非相邻两个谐振腔中的谐振杆对应位置处的圆盘和侧壁之间形成容性交叉耦合。与现有技术所用的电介质金属杆或片相比,本实用新型专利技术所用的微带线通过印制板上设计,其成本低,安装方便,扩展性好。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种滤波器容性交叉耦合结构,包括滤波器腔体和盖板,所述滤波器腔体和盖板之间的空腔内设有多个装有谐振杆的谐振腔,非相邻的两个谐振腔之间设有容性交叉耦合装置,其特征在于:所述容性交叉耦合装置为设有微带线的PCB板,所述微带线与非相邻两个谐振腔中的谐振杆对应位置处的圆盘和侧壁之间形成容性交叉耦合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖桅
申请(专利权)人:武汉凡谷电子技术股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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