改进的流动罐制造技术

一种清洗系统，包括一个罐，设置有清洗区，用以接收要清洗的物品；一个进口组件，其安装在罐的第一端，清洗介质从中流入清洗区；一个出口组件，其具有安在罐的第二端的流量控制板；所述流量控制板具有多个孔，并且设置成使清洗介质从清洗区流过所述孔；所述流量控制板设置为使得所述罐的总流出面积与孔的总面积相等；其中，总流出面积占流量控制板的比例与所述罐的深度成反比。

【技术实现步骤摘要】
改进的流动罐
本专利技术涉及对例如硬盘驱动器的高精密物品进行清洗，以便在组装前去除碎屑。特别地，本专利技术涉及通过清洗和漂洗去除这些碎屑。
技术介绍
在组装硬盘驱动器之前需要对盘进行清洗，以避免不必要的损伤并增加组装后的装置的寿命。一旦清洗过程结束，必须漂洗漂洗盘以去除可能粘附在盘上面的任何漂浮微粒。假设在制造过程中有大量的硬盘需要被清洗和漂洗，清洗和漂洗步骤将以连续过程或分批过程完成，并且在最终组装前通过相流动罐。结果，漂洗介质，例如水，将来自前面一批的悬浮微粒保持在相流动罐中。因此相流动罐就需要持续更换漂洗介质，以去除悬浮微粒并避免对后一批的交叉污染。已经发现，对于相流动罐来说，在去除一显著比例的悬浮微粒的同时，通过涡流和其他间断的紊流特征会在罐中产生“死区”，导致微粒保持在相流动罐中。因此需要频繁更换相流动罐中的漂洗介质以避免交叉污染。这可导致在更换漂洗介质时漂洗介质的大量浪费，以及丧失使相流动罐离线地呈现的容量。
技术实现思路
本专利技术的一个方面提供一种清洗系统，包括一个罐，该罐具有：清洗区用以接纳要清洗的物品；安装在罐的第一端的进口组件，通过该进口组件清洗介质流入清洗区；具有安在罐的第二端的流量控制板的出口组件；所述流量控制板具有多个孔，并且设置成使清洗介质从清洗区流过所述孔；所述流量控制板设置成使得所述罐的总出口面积与孔的总面积相等；其中，总出口面积占流量控制板的比例与所述罐的深度成反比。通过引入具有一排孔的流量控制板以产生受控制的出口流量，可以控制罐中的流量并避免“死区”或漩涡。由于清洗介质流过流量控制板的面积在板上不均衡地分布，特别地反比于深度，因此可使得流量不依赖于深度。例如，在板的顶部附近集中有多数孔面积，此处的压位差最小，在板的底部孔面积较少，此处压位差较大，这样就有可能使得出口流量分布更均衡。进一步，可能在清洗区达到层流以避免与紊流相关的困难。在另一个实施例中，流量控制板可被校准以在罐中漂洗介质的各离散深度提供特定的流量。例如，在特定深度的流量被设置为在预期流量的某一容差的范围内。进一步，可以设置出口板以在每个深度提供均衡的流量，从而在罐中不依赖于深度地提供一致的流量。应该意识到，如果流量不依赖于深度而相对一致，那么紊流就会最小化而可能导致层流。在另一个实施例中，流量控制板制造为使出口孔的直径随深度而变化。可替代地，一行中的孔的数目随深度而变化。进一步，流量控制板内的孔的行数可以使每个孔的流量递增改变，以配置成提供均一的流量。更具体地，总出口面积的比例是在流量控制板特定深度下的流量的函数。为此，孔可设置在沿流量控制板在各离散深度下的预定数量的水平行上。进一步，每行的累积流量在平均累积流量的±10％-20％范围内。在另一个实施例中，流量控制板包括一个堰，以保持清洗介质的最大深度。进口部可能包括扩散组件，该扩散组件可具有至少一个流量调节板，该流量调节板具有一排供清洗介质流过的孔。可替换地，进口部可以包括多个流量调节板，每个流量调节板都具有一排供清洗介质流过的孔，所述流量调节板间隔开以在相邻板之间提供一空隙。出口组件可以包括在通过流量控制板的流径上收集清洗介质的出口箱，出口箱处在低于罐的位置，所述出口组件包括在出口箱和流量控制板之间的气隙以确保所述清洗介质的重力流。在另一个实施例中，进口组件可以包括在流量调节板上游的进口室。进而，在所述进口室的底部具有进入流，如此进口室在清洗介质通过流量调节板流出进口室之前从进入流中接收清洗介质。如前面提到的，为了达到总的孔面积的预期分布，每行中孔的数目可以是相同的，而且每个孔的面积在至少一些行之间是变化的。可替换地，每个孔的面积是相同的，而且孔的数量在至少一部分行之间是变化的。附图说明以下参照阐述本专利技术可能的实施方式的附图进一步描述本专利技术。本专利技术其他的实施方式也是可行的，因此附图的特征不能理解为对本专利技术一般性说明的替代。图1A和1B为根据本专利技术一个实施例的相流动罐的等距视图和分解的等距视图；图2A、2B和2C是根据本专利技术另一个实施例的扩散组件的各种等距视图；图3A和3B是根据本专利技术另一个实施例的相流动罐的流动路径的等距视图；图4A是根据本专利技术另一个实施例的流量控制板的正视图；图4B是示出孔的效果的图表；图5A、5B是根据本专利技术另一个实施例的出口箱的各种视图；图6是根据本专利技术另一个实施例的相流动罐系统的示意图。具体实施方式对于低粘度不可压缩流体，例如水，不可压缩伯努利方程描述了其流量。将该方程式应用于其开始于顶部自由表面并从出口流出的“流线”，得到：注意，流出的流体喷射流也经历与自由表面(patm)相同的压力。对流体喷射流流速求解得到，流体的非零粘度会减弱流体的机械能(将其转变为贴近喷管壁的边界层中的热量)，因此，超出喷管出口的流体喷射流的直径略小于喷管直径。该特征可通过排量系数C表征，该值通常在0.90到0.98之间。体积流量Q来自喷射流速度与横截面积的乘积。Q＝AjetVjet＝CAspoutVjet图1A和1B示出根据本专利技术一个实施例的清洗系统，该清洗系统包括一个相流动罐5。该罐5包括进口组件10，清洗区40和出口组件20。将要被清洗和/或漂洗的物品被放置在清洗区40中，清洗介质的进入流进入进口组件10，通过清洗区40并清洗或漂洗物品，以在与悬浮微粒一起流经出口组件20并进入出口箱35之前移除微粒。可以看出，清洗系统可以用于清洗或漂洗或二者兼顾。为此，“清洗系统”的表述意指使用同一专利技术进行漂洗或清洗。此外，“清洗介质”和“漂洗介质”可互换地使用并且不构成对专利技术的限定，而仅仅是表示同一专利技术可以适用于两个过程。再进一步，由于任一过程中水都是常用介质，这也可可互换地使用而不会影响专利技术的范围。依照本专利技术，相流动罐5的关键部分是使用流量控制板25，设置该流量控制板25是为了不依赖于水的深度地控制通过出口组件20的水的流量。因此，在底部流出流量控制板25的水的流量与其顶部附近的流量基本相等。这样，可以在清洗区40中保持更均一的流速，这能防止在罐内形成“死区”和漩涡，并由此使流过清洗区的漂洗介质去除微粒的效果最佳化。实践中，不可能使得每一行的流速都精确匹配，由于使用不同数量的行，在各行之间，孔的数目或孔面积也呈阶梯函数。为此，在获得本专利技术范围内的均一流量中，10％到20％的公差仍然是可以接受的。图1B进一步示出了扩散组件45，该扩散组件45用于控制通过一系列流量调节板进入罐内的水的流量。因而确保进入清洗区40的水是均一的且具有最小紊流。进一步，通过提供出口箱35连通作为出口部20的一部分，流经流量控制板25的水流属于重力流，并因此没有压力。通过避免成为压力流，可以避免清洗区40内由撤去施加的压力而引起的紊流。图2A到2C示出本专利技术的另一个实施例。进口组件10包括具有至少一个流量调节板的扩散板组件45，此处具有四个这样的板。如前所述，扩散板组件45通过使进水通过一系列流量调节板55、65、70、75从而使流量变得“均衡”。通过使水流过每个板上的孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗系统，包括：罐，所述罐具有清洗区，用以接收要清洗的物品；进口组件，所述进口组件安装在罐的第一端，清洗介质从中流入清洗区；出口部，所述出口部具有安装在罐的第二端的流量控制板；所述流量控制板具有多个孔，并设置成使清洗介质从清洗区流过所述孔；所述流量控制板设置为使得所述罐的总出口面积与孔的总面积相等；其中，总出口面积占流量控制板的比例与所述罐的深度成反比。

【技术特征摘要】
2010.11.23 SG 201008672-61.一种清洗系统，包括：罐，所述罐具有清洗区，用以接收要清洗的物品；进口组件，所述进口组件安装在罐的第一端，清洗介质从中流入清洗区；出口组件，所述出口组件具有安装在罐的第二端的流量控制板；所述流量控制板具有多个孔，并设置成使清洗介质从清洗区流过所述孔；所述流量控制板设置为使得所述罐的总出口面积与孔的总面积相等；其中，总出口面积占流量控制板的比例与所述罐的深度成反比；其特征在于，所述出口组件包括在通过所述流量控制板的流径上聚集清洗介质的出口箱，所述出口箱的位置低于所述罐，所述出口组件包括在所述出口箱和所述流量控制板之间的气隙以确保所述清洗介质的重力流。2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，总出口面积的比例是在所述流量控制板的特定深度处的流量的函数。3.根据权利要求1或2所述的清洗系统，其特征在于，所述孔设置在沿所述流量控制板在各离散深度下的预定数量的水平行上。4.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，每行的累积流量在平均累积流量的±20％范围内。5.根据权利要求4所述的清洗系统，其特征在于，每行的累积流量在平均累积流量的±10％范围内。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：L·赵，
申请(专利权)人：JCS越后私人有限公司，
类型：发明
国别省市：