足浴盆制造技术

技术编号:8329846 阅读:229 留言:0更新日期:2013-02-14 16:35
本实用新型专利技术涉及卫浴,具体地说是涉及一种足浴盆,它具有一个扁平的腔体,腔体上面具有开口,所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿,所述的足浴盆是陶瓷制成的,所述的足浴盆下侧部具有第一开口,所述的足浴盆上部具有第二开口,这样的足浴盆具有在使用较少水的情况下能够浸泡较高的部位、经久耐用、不易老化、排水给水方便的优点。?(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及卫浴,具体地说是涉及一种足浴盆
技术介绍
现有技术中,足浴盆一般是塑料制成的,这样的足浴盆具有移动方便的优点,它还具有不耐使用,容易老化的缺点,另外现有技术中的足浴盆具有一个扁平的腔体,开口部分没有向上延伸的外沿,在使用同样水的情况下淹没的比较低,不会浸泡较高的腿部部位,具有使用不便的缺点。
技术实现思路
本技术的目的就是针对上述缺点,提供一种在使用较少水的情况下能够浸泡较高的部位、经久耐用、不易老化的足浴盆。本技术所采取的技术方案是:足浴盆,具有一个扁平的腔体,腔体上面具有开口,其特征是:所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿,所述的足浴盆是陶瓷制成的。进一步的讲,所述的足浴盆下侧部具有第一开口。进一步的讲,所述的足浴盆上部具有第二开口。本使用新型的有益效果是:由于本技术采取了以上结构,使得这样的足浴盆具有在使用较少水的情况下能够浸泡较高的部位、经久耐用、不易老化、排水给水方便的优点。附图说明图1是本技术的剖面结构示意图。其中:1、腔体   2、开口   3、外沿   4、第一开口  5、第二开口。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的描述。如图1所示,足浴盆,具有一个扁平的腔体1,腔体1上面具有开口2,其特征是:所述的开口2部分周围具有向上延伸的外沿3,所述的足浴盆是陶瓷制成的。进一步的讲,所述的足浴盆下侧部具有第一开口4,这个开口可以作为排水口。进一步的讲,所述的足浴盆上部具有第二开口5,这个开口可以作为进水口。 -->本文档来自技高网...

【技术保护点】
足浴盆,具有一个扁平的腔体,腔体上面具有开口,其特征是:所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿,所述的足浴盆是陶瓷制成的。

【技术特征摘要】
1.足浴盆,具有一个扁平的腔体,腔体上面具有开口,其特征是:所述的开口部分周围具有向上延伸的外沿,所述的足浴盆是陶瓷制成的。
2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:张延伟
申请(专利权)人:长葛市新大都瓷业有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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