具有像差校正防护罩的成像系统技术方案

一种具有像差校正防护罩的成像系统，包括：像差校正防护罩、内置成像系统，其特征在于：所述像差校正防护罩内表面和外表面均为非球面形状，所述内置成像系统依次包括：焦距为f1第一透镜，焦距为f2的第二透镜，用于承接图像的图像传感器芯片，第一透镜与第二透镜的使用材料的折射率为1.5至1.7，且该第一透镜满足关系式：-9＜f1/f＜-0.4，第二透镜满足关系式：1.2＜f2/f＜4.8；f为整个光学系统的焦距。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及信息
，具体涉及一种安全监控装置，特别是一种具有像差校正防护罩的成像系统。
技术介绍
安全监控技术涉及生活生产的方方面面，例如地铁、公路交通、宾馆、银行等。现有技术中公开了一种监控成像系统的安装结构，包括成像系统挂座和成像系统，成像系统的顶部设置有一连接柱体，所述的成像系统挂座的一端为一个圆柱形的成像系统挂柱适配端,成像系统挂柱适配端的内部为一个可容纳所述连接柱体的空腔,所述的 连接柱体设置有一穿孔。本新型安装简易，只需把位置对应好，利用连接柱体挤压弹性按钮，通过弹性按钮与封闭卡条之间的结构使封闭卡条弹出、穿过连接柱体的穿孔，使卡口与成像系统挂柱适配端之间的空隙封闭，随即把成像系统固定，当需要拆卸时，用较大压力移动成像系统带动连接柱体再次挤压弹性按钮，封闭卡条随即从穿孔收回，成像系统即可拆卸。但是现有技术中的监控成像系统多数体积过大，安装不便、容易被人发现，破坏，而且受外部防护罩的影响，成像质量不高。另外难以兼顾体积和成像质量。
技术实现思路
为解决现有技术的缺陷和不足，本专利技术提供一种具有像差校正防护罩的成像系统，能够解决现有技术中的诸多不足与缺陷，具有多方面的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有像差校正防护罩的成像系统，包括：像差校正防护罩、内置成像系统，其特征在于：所述像差校正防护罩内表面和外表面均为非球面形状，所述内置成像系统依次包括：焦距为f1第一透镜，焦距为f2的第二透镜，用于承接图像的图像传感器芯片，第一透镜与第二透镜的使用材料的折射率为1.5至1.7，且该第一透镜满足关系式：？9＜f1/f＜？0.4，第二透镜满足关系式：1.2＜f2/f＜4.8；f为整个光学系统的焦距。

【技术特征摘要】
1.一种具有像差校正防护罩的成像系统，包括像差校正防护罩、内置成像系统，其特征在于所述像差校正防护罩内表面和外表面均为非球面形状，所述内置成像系统依次包括焦距为fl第一透镜，焦距为f2的第二透镜，用于承接图像的图像传感器芯片，第一透镜与第二透镜的使用材料的折射率为I. 5至I. 7，且该第一透镜满足关系式-9 < fl/f<-O. 4，第二透镜满足关系式1. 2 < f2/f < 4. 8 ；f为整个光学系统的焦距。2.如权利要求I所述的具有像差校正防护罩的成像系统，在所述防护罩的表面涂设有正面反光反面透明的光学功能涂层。3.如权利要求2所述的具有像差校正防护罩的成像系统，还包括枢转机构，所述内置成像系统安装在该枢...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑莉华，吴少智，张江泓，吴跃，
申请(专利权)人：无锡成电科大科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：