清洗系统、清洗装置及使用清洗装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种清洗装置、清洗装置及使用清洗装置的方法，该清洗装置包括一上层部、一中层部以及一底层部。前述上层部具有一第一开口，前述中层部连接上层部，具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中入口位于中层部的一侧边，环状通道与入口相连通，且第二开口与第一开口相连通，前述底层部连接中层部，具有一贮液池以及一第三开口，其中第三开口与第二开口以及贮液池相连通。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洗装置，特别涉及一种提供给工艺设备(制程设备)使用的清洗装置，其中前述的工艺设备还使用一工艺用液体。
技术介绍
传统的工艺设备，例如旋转涂布设备，通常包含许多引导工艺用流体的管路。图I表示一个与排液管P2及排出管Pl连接的公知的旋转涂布设备C，在如光微影工艺的半导体工艺中，可将一基板S装设于旋转涂布设备C的夹盘上。如图I中的箭号A1、A2所示，当基板S开始转动时，含有光阻剂和清洗剂(例如光阻稀释剂)的流体会被冲离基板S的表面，并经由排出管Pl排出旋转涂布设备C。一般来说，排液管P2可经由管夹装置P12而与旋转涂布设备C的排出管Pl相连。然而，由于排液管P2很长，光阻剂往往会在管内结晶及沉淀，如此将容易造成排液管P2在图I中的区域Rl的阻塞。在排液管P2内剩余的液体随后流入排泄槽T，并经由一弯管P3排入管路设备系统。然而，光阻剂仍可能在弯管P3内产生结晶及沉淀，进而造成弯管P3在区域R2的阻塞。有鉴于此，本专利技术针对工艺设备提供了一种清洗装置，以改善前述管路内所产生的阻塞问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种清洗装置，包括一上层部、一中层部以及一底层部。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，包括：一上层部，具有一第一开口；一中层部，连接该上层部，具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中该入口设置于该中层部的一侧边，该环状通道与该入口相连通，且该第二开口与该第一开口相连通；以及一底层部，连接该中层部，具有一贮液池以及一第三开口，其中该第三开口与该第二开口以及该贮液池相连通。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：彭彦韶，薛家皓，邓国星，
申请(专利权)人：采钰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：