【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种气态汞缓释装置，属资源环境及烟气净化领域。主要用于实验室及工业需求的含汞气体的发生和配置，如用于大气或工业废气中汞测量所需要的汞标气制备、固定浓度含汞气体的配置等。
技术介绍
传统简易汞渗透源，一般直接采用液态汞挥发，汞的挥发渗透量难以控制，在试验研究及生产应用中难以控制所需要的相对精确的汞释放量及浓度。而且现有的汞标源渗透装置在配汞气时，还易出现汞渗漏等情况。
技术实现思路
本技术根据现有技术状况，提供一种气态汞缓释装置，该装置结构简单，设计巧妙，实现了液态汞的缓慢均匀释放，释放速率稳定。本技术的目的是通过以下措施实现的气态汞缓释装置，该装置包括盛放液态汞的容器，及封装于容器口部的缓释膜，该缓释膜上设有二次微调缓释结构。二次微调缓释结构采用可拆卸的附贴于缓释膜表面的密封胶条，由多根条状密封胶条平行并列排布并与缓释膜相适配。二次微调缓释结构还可以采用多根平行排列的毛细管形成的毛细管组，各毛细管下口与缓膜连通，各毛细管上口封闭。缓释膜采用石英缓释膜或陶瓷缓释膜，孔径范围10-200 μ m。容器为圆形管、方管或半球形管。容器采用微型石英试管。试管口部的顶...
【技术保护点】
气态汞缓释装置，该装置包括盛放液态汞的容器，及封装于容器口部的缓释膜，该缓释膜上设有二次微调缓释结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许月阳，薛建明，王宏亮，管一明，王小明，王铮，
申请(专利权)人：国电环境保护研究院，
类型：实用新型
国别省市：
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