【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体清洗
，特别涉及一种化学液存储装置。
技术介绍
在半导体硅片湿法清洗工艺中会用到各种化学液，这些化学液或呈酸性、碱性或者具有强烈的腐蚀性，又或者粘度较高。某些情况下，化学液是可以循环使用的，其工作寿命可以达到每30L化学液连续清洗3天或者可以清洗3000片硅片，因此，化学液需要存储在化学容器中，如槽或罐里面，非工艺时间可实现化学液在管路与容器间的自循环，而工艺过后可使化学液经管路回到储存化学液的容器中。但是，如果没有特殊的引流装置，工艺过后回收的旧化学液因粘度较高无法与化 学容器中的自循环回的相对新鲜的化学液混合均匀，就会使得下次工艺时所使用的化学液或者大多为自循环回的化学液，也可能大多为回收的旧液，这样就会影响工艺效果。目前，对于自循环与回收的化学液间的均匀混合，尚没有成熟的措施，通常是化学液自循环管路与化学液回收管路简单的、相互独立的分布在化学容器中，造成容器中化学液混合不均，影响工艺效果。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是，针对现有技术的不足，提供一种化学液存储装置，通过化学液回收管路的特殊布局最终达到...
【技术保护点】
一种化学液存储装置，其特征在于，包括：化学液回收管路，所述回收管路呈螺旋状并伸入化学液存储容器中，其管壁均匀分布小孔并且末端封堵；化学液循环管路，所述循环管路贯穿于呈螺旋状的所述回收管路中并且伸入化学液存储容器中，其管壁均匀分布小孔并且末端封堵。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王营营，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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