【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。更具体而言,本专利技术涉及能够实现精细线宽的。本申请要求了于2010年8月16日向KIPO提交的韩国专利申请第10-2010-0078973号的优先权,其公开的内容以引用的方式全部并入本文。
技术介绍
关于形成图形的方法,存在间接图形形成方法(例如光刻法)和直接图形形成方法(例如其中将图形直接印刷在目标基板上的方法)。可以通过下面的过程实施所述间接图形形成方法。首先,通过在基板上形成的膜上均匀地涂布光刻胶,以及使光刻胶选择性地曝光和显影来形成光刻胶图形。接着,通过使 用光刻胶图形作为掩膜蚀刻上述膜而转印图形。此后,通过剥离溶液除去所述光刻胶。除了膜(在其上形成图形)之外,所述间接图形形成方法使用光刻胶材料和剥离溶液,由于光刻胶材料和剥离溶液的成本和除去光刻胶材料和剥离溶液的成本,因而提高了加工成本。此外,还存在由除去上述材料而污染环境的问题。此外,由于所述间接方法具有很多的步骤并且复杂,需要大量的时间和高成本,以及在其中光刻胶材料没有充分剥离的情况下,存在的问题在于在最终的产品中存在缺陷。同时,在用于直接印刷图形的方法的情况下,在印刷过程中的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:全相起,黄仁晳,李东郁,孙镛久,
申请(专利权)人:LG化学株式会社,
类型:
国别省市:
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