抑制多孔钛基掺硼金刚石薄膜电极中碳化钛生成的方法技术

技术编号:8188444 阅读:253 留言:0更新日期:2013-01-10 00:05
一种抑制多孔钛基掺硼金刚石薄膜电极中碳化钛生成的方法,采用在电解质溶液中的阳极氧化技术,使多孔钛衬底表面形成钝化层,步骤如下:1)将多孔钛基底分别用丙酮和去离子水超声清洗后干燥;2)将金刚石粉末均匀涂抹在多孔钛基底表面,用砂纸轻度均匀打磨后用去离子水超声清洗;3)以多孔钛基底作为阳极,以不锈钢片作为阴极,将两个电极置入电解质溶液中,接通10V恒定直流电压进行阳极氧化即可在多孔钛基底表面形成钝化层。本发明专利技术的优点是:通过阳极氧化的方法使基底表面形成可以有效阻挡碳化钛生成的钝化层,提高金刚石薄膜与多孔钛基底的附着特性,延长薄膜使用寿命;该方法操作简单、易于实施、成本低廉。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金刚石薄膜的制备,特别是关于一种。
技术介绍
金刚石特殊的晶体结构使其具有许多优异的性能。在众多无机材料中具有特别优异的力学、电学、热学和光学特性,是一种不可替代的特殊多功能材料。将金刚石薄膜用在电化学领域中是近些年来的研究热点。金刚石薄膜电极有着优良的电化学特性,如宽电势窗口、低背景电流、耐腐蚀能力强、自身不消耗等。这使得金刚石薄膜电极有着广泛的应用前景。化学气相沉积是制备金刚石薄膜的主要方法,主要有微波等离子体化学气相沉积、热丝化学气相沉积、直流电弧等离子体喷射化学气相沉积等等。制备薄膜时,基底选择很重要。钛基底由于成本较低,比强度高,并且常温下抗腐蚀能力较强,开始受到人们关注。但·是,钛属于强碳化物形成材料,在金刚石薄膜沉积过程中,由于在形核阶段薄膜并未连续,碳原子首先与钛表面接触反应,不可避免地生成碳化钛,这种化合物为多孔结构,较为疏松,使膜基间附着特性下降。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对上述存在问题,提供一种,该方法采用在电解质溶液中的阳极氧化技术,使多孔钛衬底表面形成钝化层,抑制碳化钛过渡层的生成,从而改善金刚石薄膜与钛基底的附着特性。本专利技术的技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抑制多孔钛基掺硼金刚石薄膜电极中碳化钛生成的方法,其特征在于:采用在电解质溶液中的阳极氧化技术,使多孔钛衬底表面形成钝化层,步骤如下:1)将多孔钛基底用丙酮超声清洗10?15分钟以去除表面和空洞中的油脂等杂质,再用去离子水超声清洗10?15分钟,然后干燥;2)将金刚石粉末均匀涂抹在上述多孔钛基底表面,用砂纸轻度均匀打磨3?5分钟,然后用去离子水超声清洗10?15分钟;3)以多孔钛基底作为阳极,以不锈钢片作为阴极,将两个电极置入电解质溶液中,接通10V恒定直流电压进行阳极氧化,时间为300分钟,即可在多孔钛基底表面形成钝化层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓伟田成璐常明
申请(专利权)人:天津理工大学
类型:发明
国别省市:

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