将特征的重复图案写到基板制造技术

用于将特征（106、160）的重复图案写到诸如数据存储介质等基板（102、142）的方法（200、240）和装置（140、260）。根据一些实施例，要写入基板的不同大小（162、164、166、182、184、186、188、190、222、224、226、228、230）的离散特征的多维图案被分割为多个邻接的区域（206、232、244）。唯一的补偿值集合被分配给每一区域（208、246）。写系统（140、270）的写束被用于响应于所述唯一的补偿值集合将特征写到的基板，使得在至少一个区域中的具有相同大小的所有特性采用来自相关组（212、250）的相同的补偿值来写入。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】将特征的重复图案写到基板
技术介绍
数据存储介质被用来以快速且有效的方式存储和重新取得大量的数字编码数据。在商业上，这样的介质已以许多不同的形式被提供，这些形式例如为磁、光和固态形式(例如，闪存等)等。通过将ニ维(2D)阵列的离散特征写到诸如可记录的盘或半导体设备的基板，可以产生所谓的图案化的介质(patterned media)。写处理可以利用写束(诸如来自电子束记录器(Electron Beam Recorder, EBR)的粒子束)撞击基板上的局部化区域，以形成所需的特征图案。可以对该基板进行后续处理，如平版印刷操作，以产生具有所写图案的多个复制介质。 这些以及其他类型的写处理可提供有时被称为邻近效应的效应，该邻近效应大体上描述了围绕着束的焦点的相邻区不期望地受到束的影响的现象。例如，EBR束可提供对在围绕着束的影响区内的反向散射电子的某种度量。这些反向散射电子可以通过例如使得所述特征的过渡边界模糊或朦胧而改变先前写的特征。其他类型的写束，诸如激光束、磁记录束等，也可具有相应的影响区。
技术实现思路
本专利技术的各实施例大体上涉及用于将重复的特征图案写到基板的方法和装置，所述基板例如为但本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：道格拉斯·M·卡尔森，
申请(专利权)人：道格卡森联合公司，
类型：
国别省市：