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足部步态压力中心线微调矫正片制造技术

技术编号:8111621 阅读:249 留言:0更新日期:2012-12-22 01:52
一种足部步态压力中心线微调矫正片,设有一特定长度且为大曲度的弧线部,弧线部两端以一小曲度的弦线部连接,以共同形成一设定大小片体;且弧线部朝向弦线部的断面最好以连续式渐缩厚度构成连续式平滑斜面积及设定长度的斜向区域段。从而可将此一矫正片方便的组装于一矫正装置本体适当位置,供进行精确微调。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术关于一种足部微调矫正片设计,尤指可方便而精确的将其组装于矫正装置本体所欲选择的区域进行足部步态微调至所需的压力中心线。技术背景·一般,人体足部行走时有内旋(pronation)或外旋(supination)现象时,此种现象会使相关的胚骨(tibia)作相对的内转(internal rotation)或外转(externalrotation)运动,这些互有关联性的相对运动是足部对身体其他部位产生影响的重要机制。当足部构造异常时,以高弓足或扁平足之类异常足弓为例,即因为会产生异常步态,造成过度的代偿运动,容易使身体相关部位产生病痛现象。在足部行走时的正常完整步态周期中,足部先以足跟外侧接地,也即,足部先做内旋(pronation)运动及降低足弓以吸收接地冲击力,此时胚骨相对内转(internalrotation)。而在进入站立末期时,脚跟开始离地,此时足部做外旋(supination)运动,足弓升高,胚骨则相对外转(external rotation)。上述内旋或外旋运动会在不同阶段重复进行,如果外旋过度时容易产生高弓足,即空凹足的足型,高弓足在足部着地瞬间可能会产生过大的胫本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述矫正片设有一特定长度的弧线部,所述弧线部两端以弦线部连接以共同形成一含有相对触压面及组接面的设定大小片体;所述的弧线部朝向弦线部的断面渐缩厚度。

【技术特征摘要】
1.一种足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述矫正片设有一特定长度的弧线部,所述弧线部两端以弦线部连接以共同形成一含有相对触压面及组接面的设定大小片体;所述的弧线部朝向弦线部的断面渐缩厚度。2.根据权利要求I所述足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,以一连续式斜面来形成所述渐缩厚度的状态。3.根据权利要求2所述足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述连续式斜面是连续式平滑斜面及设定长度的斜向区域段。4.根据权利要求I或2或3所述足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述弧线部具有大曲度,且所述弦线部具有比所述弧线部的曲度小的曲度。5.根据权利要求I或2或3所述足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述矫正片组装于一矫正装置本体,并经由一偏离压力线微调向一压力中心线。6.根据权利要求5所述足部步态压力中心线微调矫正片,其特征在于,所述矫正片组接面设有组接部,所述矫正装置本体则设有与所述组接部相配的成排多个间隔的装配部。7.根据权利要求6所述足...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈升环
申请(专利权)人:陈升环
类型:实用新型
国别省市:

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