【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及成像设备和成像方法，具体涉及完美的成像领域。背景 大约1870年，德国耶拿大学物理学家恩斯特 阿贝(Ernst Abbe)建立了光学成像理论并且推导出透镜的分辨率极限。在阿贝之前，制造好的透镜是件反复试验的事情。阿贝理论使他和他的合作者-光学仪器制造者Carl Zeiss和企业家Otto Schott,能够创建现代光学产业。超过一百年后Carl Zeiss Jena仍然是家喻户晓的名字。所有传统的透镜具有有限的分辨率。即使用最强的显微镜也不能看到原子、分子或纳米结构；需要这种电子或原子力显微镜。光的波长设定分辨率极限，半微米用于可见光。在2000年，伦敦帝国学院的Sir John Pendry发表了一项卓越的理论结果[Pendry JB 2000 Phys. Rev. Lett. 85 3966]:由负折射材料制成的透镜(即在与正折射材料相反的方向上使光弯曲的透镜)在理论上是完美的-即由负折射材料制成的平面透镜[Veselago VG 1968 Sov. Phys. -Usp. 10 509]可以,在原理上,用无限分辨率使光成像,超越阿贝极限。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.09.23 GB 0916727.11.ー种成像设备，包括a.透镜，其具有根据预定的折射率分布变化的折射率；b.源；c.出口，其用于将波从所述设备解耦；以及d.反射体，其被设置在所述透镜、所述源和所述出口的周围，其中所述反射体和所述透镜的所述折射率分布被一起布置成将在多个方向的任何一个上从所述源发射的波导引至所述出ロ。2.如权利要求I所述的成像设备，其中所述波是声波或电磁波。3.如权利要求I或2所述的成像设备，其中所述透镜、所述源和所述出口都位于同一平面上。4.如权利要求3所述的成像设备，其中所述反射体在所述平面上的两个维度上围绕所述透镜、所述源和所述出口。5.如权利要求3或4所述的成像设备，其中所述波从所述源在所述平面上的多个方向的任何一个上发射。6.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述波沿着闭合轨迹被从所述源导引至所述出口，使得在没有所述出口时，所述波将通过所述透镜和所述反射体被导引返回至所述源。7.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述折射率分布是梯度折射率分布。8.如权利要求7所述的成像设备，其中所述折射率分布包括掺杂电介质。9.如权利要求I至6中的任一项所述的成像设备，其中所述折射率分布包括锥形波导。10.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述源包括用于将波耦合进入所述设备的装置。11.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述出口与所述源相対。12.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述出ロ包括用于吸收所发射的波的像检测器。13.如权利要求12所述的成像设备，其中所述像检测器包括光阻材料层、光电ニ极管、CXD或CMOS像素阵列或感光材料层。14.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述透镜包括各向同性电介质。15.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中所述透镜包括所述源和所述出ロ。16.如权利要求15所述的成像设备，其中所述出ロ位于所述透镜的外表面。17.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，还包括在所述透镜的边缘和所述反射体之间的间隙。18.如权利要求I至16中的任一项所述的成像设备，其中所述反射体邻近所述透镜。19.如任ー项前述权利要求所述的成像设备，其中当在平面图中观察时所述反射体实质上是环形的。20.如权利要求19所述的成像设备，其中所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：尤尔弗·伦哈特，托马斯·泰科，卢卡斯·海茨曼·加夫列利，米歇尔·利普森，
申请(专利权)人：圣安德鲁斯大学评议会，马萨里克大学，康奈尔大学，
类型：
国别省市：
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