【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电容触摸屏
,尤其是涉及一种新型ITO层的非搭接一体式电容触摸屏及其制造方法。
技术介绍
随着电子科技的发展,目前手机、数码相机、掌上游戏机、车载DVD、MP3、仪表仪器等的键盘或鼠标逐渐被触摸屏替代。触摸屏的产品在几年前并不是十分火热,而随着人们对于触屏产品的接触越来越多,近两年也被更多人所认可,发展速度逐渐加快。触摸屏迅速的成长,不仅激起了更加激烈的行业竞争,也间接推动了技术的发展,其多点触控的操作方式更是把触摸屏产品的影响力提升到了一个新的高度,也逐渐被人们所关注起来。 触摸屏主要由触摸检测部件和触摸屏控制器组成,触摸检测部件安装在显示器屏幕前面,用于检测用户触摸位置,接收后送触摸屏控制器;而触摸屏控制器的主要作用是从触摸点检测装置上接收触摸信息,并将它转换成触点坐标,再送给CPU,它同时能接收CPU发来的命令并加以执行。按照触摸屏的工作原理和传输信息的介质,触摸屏可分为四种,分别为电阻式、电容感应式、红外线式以及表面声波式,当前被广泛使用的是电阻式触摸屏,它是利用压力感应进行电阻控制的;电阻式触摸屏是一种多层的复合薄膜,它的主要部分是一块与显示器表面非常配合的电阻薄膜屏。电阻薄膜屏是以一层玻璃或硬塑料平板作为基层,表面涂有一层透明氧化金属(透明的导电电阻)ITO (氧化铟锡)导电层,上面再盖有一层外表面硬化处理光滑防擦的塑料层,它的内表面也涂有一层ITO涂层,在它们之间有许多细小的(小于1/1000英寸)的透明隔离点把两层导电层隔开绝缘,当手指触摸屏幕时,两层导电层在触摸点位置就有了接触,电阻发生变化,在X和Y两个方向上产生信 ...
【技术保护点】
一种新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,其特征在于:包括透明基板,依次层叠于透明基板的二氧化硅层、五氧化二铌层、黑色树脂层、ITO电极、绝缘层;所述的ITO电极为水平方向或垂直方向导通电极,具有规则图形结构;ITO电极为ITO导通电极1与ITO导通电极2组成,ITO导通电极1与ITO导通电极2在同一层面,相互独立,相互绝缘,交错设计;所述透明基板包括视窗区和非视窗区,黑色树脂层分布在显示屏非视窗区。所述的二氧化硅层厚的度为100~1000埃米,所述的五氧化二铌层的厚度为50~500埃米。
【技术特征摘要】
1.一种新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,其特征在于包括透明基板,依次层叠于透明基板的二氧化硅层、五氧化二铌层、黑色树脂层、ITO电极、绝缘层;所述的ITO电极为水平方向或垂直方向导通电极,具有规则图形结构;IT0电极为ITO导通电极I与ITO导通电极2组成,ITO导通电极I与ITO导通电极2在同一层面,相互独立,相互绝缘,交错设计;所述透明基板包括视窗区和非视窗区,黑色树脂层分布在显示屏非视窗区。所述的二氧化硅层厚的度为10(T1000埃米,所述的五氧化二铌层的厚度为50飞00埃米。2.一种新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,包括透明基板,依次层叠于透明基板的黑色树脂层、二氧化硅层、五氧化二铌层、ITO电极、绝缘层;所述的ITO电极为水平方向或垂直方向导通电极,具有规则图形结构;IT0电极为ITO导通电极I与ITO导通电极2组成,ITO导通电极I与ITO导通电极2在同一层面,相互独立,相互绝缘,交错设计;所述透明基板包括视窗区和非视窗区,黑色树脂层分布在显示屏非视窗区。所述的二氧化硅层厚的度为100 1000埃米,所述的五氧化二铌层的厚度为50飞00埃米。3.如权利要求I或2所述的新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,其特征是所述的透明基板为厚度在0. 5mnT2. Omm的化学强化玻璃基板或树脂材料基板;所述ITO电极规则结构为条形,或毛毛虫形,两者相互独立,相互绝缘。4.如权利要求3所述的新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,其特征是所述的黑色树脂层厚度为0. 3 ii nT5 ii m ;IT0电极层厚度为8(T2000埃米。5.如权利要求4所述的新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏,其特征是 所述的ITO包括In203和Sn02,其质量比为85 95 :5 15。6.一种制备新型ITO层非搭接一体式电容触摸屏的方法,包括步骤 二氧化硅层的形成经过二氧化硅镀膜,使在透明基板上形成一层透明及厚度均匀的二氧化硅膜层,其厚度为100 1000埃米; 五氧化二铌层的形成经过五氧化二铌镀膜,使在二氧化硅层上形成一层透明及厚度均匀的五氧化二铌膜层,其厚度为50飞00埃米; 黑色树脂层的形成将黑色树脂经过旋转涂布方式或刮式涂布方式均匀涂布在透明基板上,涂布厚度为0. 3um^5u m,经过加热器预烤,曝光,显影,使之形成所需之黑色树脂区域; 所述黑色树脂是感光性保护层光阻剂,所述光阻剂包括亚克力树脂,环氧树脂,负性感光剂,乙酸丙二醇单甲基醚酯及黑色颜料;其比例为树脂类乙酸丙二醇单甲基醚酯黑色颜料及负性感光剂=15 30 :60 80 =TlO ; ITO电极层的形成 形成黑色树脂层的透明基板,经过ITO镀膜,使在玻璃基板上形成一层透明及厚度均匀的ITO膜层,其厚度为80 2000埃米; 经过ITO镀膜的透明基板,在其ITO表面涂布一层厚度均匀的正性光阻材料,光阻涂布厚度为I y m^5 u m ; 经过光阻预烤,曝光,显影,蚀刻,脱光阻膜...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹晓星,
申请(专利权)人:深圳市宝明科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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