低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术涉及一种低辐射镀膜玻璃，该低辐射镀膜玻璃包括玻璃基体以及位于所述玻璃基体表面的膜层，膜层表面具有保护性镀层。保护性镀层具体可以为石墨镀膜层。这样，通过在膜层表面镀制保护镀层,既不会影响低辐射膜的功能膜层，而且能够很好地保护低辐射膜的功能膜层，由于镀制的保护膜直接形成于膜层表面，在使用时不需要人工撕掉。进一步地，石墨镀膜层硬度高，不易损伤膜层，同时具有一定的润滑作用，起到很好的缓冲作用，碳元素本身在常温下稳定，在后期的热弯加工或者钢化加工过程中碳化，例如分解为无害的二氧化碳，不影响膜层的实际性能，使用方便，提高了效率，降低了成本。而且，石墨镀膜层具有防划伤、保护膜层防止被侵蚀的作用。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于玻璃
，具体涉及ー种低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
辐射镀膜玻璃，是ー种对波长范围4. 5微米 25微米的远红外线有较高反射比的镀膜玻璃。通过在玻璃表面镀制包括隔热层银膜在内的多层金属或其他化合物组成的产品。由于金属银膜层具有很低的辐射率，低辐射玻璃对可见光具有较高的透过率，对红外线具有很高的反射率，因此可热性能良好。在国家新能源政策的导向下，低辐射镀膜玻璃得到了广泛的应用。磁控溅射方法镀制的膜层属于软膜，易划伤、磨损，且银膜容易氧化，因此在远途运输和中长期储藏的过程中需要特别的保护，国内大多数厂商采用贴PE 保护膜的方式，可以起到一定的保护效果。然而，低辐射镀膜玻璃在使用时需要人工撕掉PE膜，费カ费时，不易降解的PE膜在増加成本的同时还会造成环境的污染，开发一种环保材料取代之迫在眉睫。
技术实现思路
有鉴于此，提供ー种保护效果好、不需人工撕掉且环保的低辐射镀膜玻璃。一种低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基体以及位于所述玻璃基体表面的膜层，所述膜层表面具有保护性镀层，所述膜层是双银镀膜结构或三银镀膜结构，所述膜层包括介于所述玻璃基体表面和银膜之间的介质层或者介于两个银膜之间的介质层。进ー步地，所述保护性镀层为石墨镀膜层。进ー步地，所述石墨镀膜层的厚度为10 50nm。优选地，所述石墨镀膜层的厚度为12 30nm。进ー步地，所述石墨镀膜层为磁控溅射镀膜。进ー步地，所述膜层包括银膜。进ー步地，所述膜层为热处理膜层或非热处理膜层。 进ー步地，所述玻璃基体为浮法玻璃。上述低辐射镀膜玻璃中，通过在膜层表面镀制ー层保护膜，既不会影响低辐射膜的功能膜层，而且能够很好地保护低辐射膜的功能膜层，由于镀制的保护膜直接形成于膜层表面，在使用时不需要人工撕掉。进一歩地，石墨镀膜层硬度高，不易损伤膜层，同时具有一定的润滑作用，起到很好的缓冲作用，碳元素本身在常温下稳定，在后期的热弯加工或者钢化加工过程中碳化，例如分解为无害的ニ氧化碳，不影响膜层的实际性能，使用方便，提高了效率，降低了成本。而且，石墨镀膜层具有防划伤、保护膜层防止被侵蚀的作用。附图说明下面将结合附图及实施例对本技术作进ー步说明，附图中图I是本技术实施例一的低辐射镀膜玻璃的结构示意图；图2是图I中膜层的详细结构示意图；图3是本技术实施例ニ的低辐射镀膜玻璃的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一歩详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请參阅图1，示出本技术实施例一的低辐射镀膜玻璃10，其包括玻璃基体11以及位于玻璃基体11表面的膜层12，膜层12的表面具有保护性镀层13。本实施例中，玻璃基体11为浮法玻璃。玻璃基体11的表面镀有低辐射的膜层12，膜层12包括银膜，还可进一歩包括多层金属膜或多层金属氧化物膜。如图2所示，膜层12包括银膜17，在银膜17和玻璃基体11的表面之间还可以有介质层15，介质层15可以是单层或多层金属氧化物膜，或硅化合物膜。保护性镀层13优选为石墨镀膜层，为磁控溅射镀膜，例如可通过在磁控溅射镀膜线尾端镀膜室的石墨靶材形成，所述的靶材采用纯度为99. 99%以上的石墨靶材，通过直流磁控溅射的方法在低辐射的膜层12的表面再镀制ー层石墨保护膜。进ー步地，石墨镀膜层的厚度为10 50nm，优选地，石墨镀膜层的厚度为12 30nm。如图I所示，膜层12是单银镀膜结构，即低辐射镀膜玻璃10具有ー层银膜。在其他实施例中，可以采用双银镀膜结构或三银镀膜结构。进ー步，膜层12可以为热处理膜层或非热处理膜层，即，可以是可热处理的低辐射膜，或者是不可热处理的低辐射膜，例如，本实施例采用可进行热处理的膜层，后期的热处理过程中膜层可以分解为无害的ニ氧化碳，不会影响低辐射膜的功能，提高了效率，降低了成本。请參阅图3，显示本技术实施例ニ的低辐射镀膜玻璃20，其与低辐射镀膜玻璃10的结构基本相同，不同之处主要在于采用了双银镀膜结构，图I和图3中相同的元件采用相同的标号。具体地，低辐射镀膜玻璃20包括玻璃基体11和膜层22，膜层22具有两个相间隔的银膜17和17、两个银膜17和17,之间间隔有介质层15、靠内的银膜17与玻璃基体11表面之间具有介质层15，介质层15和15,结构、材料基本相同。介质层15和15,的采用根据需要而定，并不限于此。因此，实施例ニ的镀膜夹层玻璃20具有双银低辐射镀膜。石墨镀膜层13形成于膜层22的最外表面。当采用三层及以上层的银镀膜结构时，按照图3所示的结构，依此类推，构成三银镀膜结构，或构成多银低辐射镀膜，以更进ー步提高膜层22的低辐射功能。上述低辐射镀膜玻璃10可广泛应用汽车玻璃或建筑玻璃。膜层可选择需要的功能膜层。本实施例为低辐射膜，当然，也可通过进ー步选择膜层12包括其他多种材质，使得低辐射镀膜玻璃10具备多种功能，例如顔色多祥化、隔热、挡紫外线、选择性的透过率等功倉^:。因此，上述低辐射镀膜玻璃10、20中，通过在膜层12、22表面镀制ー层保护膜13，既不会影响低辐射膜的功能膜层12，而且能够很好地保护低辐射膜的功能膜层12，由于镀制的保护膜13直接形成于膜层12表面，在使用时不需要人工撕掉。进ー步地，石墨镀膜层硬度高，不易损伤膜层，同时具有一定的润滑作用，起到很好的缓冲作用，碳元素本身在常温下稳定，在后期的热弯加工或者钢化加工过程中碳化，例如分解为无害的ニ氧化碳，不会造成环境污染，不影响膜层12的实际性能，使用方便，提高了效率，降低了成本。而且，石墨镀膜层13具有防划伤、保护膜层防止被侵蚀的作用。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。·权利要求1.一种低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基体以及位于所述玻璃基体表面的膜层，其特征在于，所述膜层表面具有保护性镀层，所述膜层是双银镀膜结构或三银镀膜结构，所述膜层包括介于所述玻璃基体表面和银膜之间的介质层或者介于两个银膜之间的介质层。2.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述保护性镀层为石墨镀膜层。3.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述石墨镀膜层的厚度为10 50nmo4.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述石墨镀膜层的厚度为12 30nmo5.如权利要求2-4任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在干，所述石墨镀膜层为磁控溅射镀膜。6.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层包括银膜。7.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层为热处理膜层或非热处理膜层。8.如权利要求I所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基体为浮法玻璃。专利摘要本技术涉及一种低辐射镀膜玻璃，该低辐射镀膜玻璃包括玻璃基体以及位于所述玻璃基体表面的膜层，膜层表面具有保护性镀层。保护性镀层具体可以为石墨镀膜层。这样，通过在膜层表面镀制保护镀层,既不会影响低辐射膜的功能膜层，而且能够很好地保护低辐射膜的功能膜层，由于镀制的保护膜直接形成于膜层表面，在使用时不需要人工撕掉。进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基体以及位于所述玻璃基体表面的膜层，其特征在于，所述膜层表面具有保护性镀层，所述膜层是双银镀膜结构或三银镀膜结构，所述膜层包括介于所述玻璃基体表面和银膜之间的介质层或者介于两个银膜之间的介质层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，杨建军，辛崇飞，
申请(专利权)人：信义玻璃工程东莞有限公司，
类型：实用新型
国别省市：