【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及建筑陶瓷
,特别是涉及一种渗花瓷质砖的生产方法及用该方法生产的渗花瓷质砖。
技术介绍
目前,渗花瓷质砖产品为达到仿天然石材纹理的效果,普遍采用“渗花”抛光技术。该技术是抛光砖生产中对釉面砖印花技术的改进,通过丝网给砖坯印刷网版上固有的图案纹理,采用诸如铜离子、镍离子、锰离子等可溶性化工盐渗透到坯体的深部,经过高温烧成形成离子固有的颜色,产生图案。由于可溶性盐的渗透性,使得产品烧成和抛光后仍能留下花纹图案。采用“渗花”技术生产的渗花抛光砖图案较为丰实,但该类抛光砖需要的渗花深度较深,约为2 3_,可选的渗花液用可溶性化工盐类极其有限,导致渗花抛光砖的色彩 极为有限,发色不够鲜艳,花色不够丰富。另外,抛光砖烧成后需要进行磨边抛光和防污处理。在抛光过程中,需要进行刮平定厚,然后再粗抛、精抛,整个磨削厚度约O. 5 O. 8mm,不仅消耗大量磨料、能源和工业用水,而且产生大量抛光废渣;由于这些抛光废渣容易产生发泡作用而难以在生产中回收利用,目前只能采用填埋的方式处理,不仅占用大量土地,而且影响和污染环境。另一方面,由于现有渗花瓷质砖均为通体砖,坯体上 ...
【技术保护点】
一种渗花瓷质砖生产方法,其特征在于,它包括以下步骤:(1)按常规方法制备瓷质砖粉料,备用;(2)渗花瓷质砖用水溶性渗花墨水的制备,所述的墨水中选自以下的一种或几种物质:含有Fe的水溶性金属盐、含有Au的水溶性金属盐、含有Cr的水溶性金属盐、含有Co的水溶性金属盐;(3)渗花瓷质砖用面浆的制备,所述面浆中包括以下重量比例的组分:SiO2:60%~70%,Al2O3:15%~25%,MgO+CaO:0~3%,K2O+Na2O:3.5%~8%,ZnO:0.2%~5%,TiO2:0.2%~5%,余量为杂质,面浆的细度为325目筛余量在0.5%以内,比重为1.60~1.90g/cm3 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:余爱民,甄燕萍,夏昌奎,曾为民,朱爱余,刘开松,
申请(专利权)人:杭州诺贝尔陶瓷有限公司,
类型:发明
国别省市:
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