一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术属于低辐射镀膜玻璃生产技术领域，尤其涉及一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层、第一隔离膜层、第二抗反射膜层、Ag层、第二隔离膜层、第三隔离膜层、保护膜层，由第二隔离膜层和第三隔离膜层组成Ag层的保护层，不但提高了银层的稳定性，而且又有效的提高了膜系的光透过率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于低辐射镀膜玻璃生产
，尤其涉及一种具有稳定银层的一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃。技术背景 磁控溅射所谓溅射，即用荷能粒子轰击物体，可以使物体表面原子从目标体表面逸出。磁控溅射又称为高速、低温的溅射技术，其在本质上是按磁控模式运行的二极溅射，不依靠外加源来提高放电中的电离率，而是利用溅射产生的二次电子本身的作用。在磁控溅射装置中，增设了和电场相正交的磁场，二次电子在正交的电场和磁场的共同作用下，不再是做单纯的直线运动，而是按特定的轨迹做复杂运动。这样，二次电子到达阳极的路程大大增加，碰撞电离几率也增加了，显著提高溅射效率。此外，在磁控溅射装置中的阳极置于阴极(靶材)的周围，基片放置在阴极靶材的对面，二次电子在经过多次碰撞后，自身能量消耗殆尽，对基片的碰撞减少则可提闻锻I吴质量。溅射成膜原理在充入少量工艺气体的真空舱室内，当极间电压很小时，只有少量离子和电子存在，电流密度在10-15A/cm2数量级，当真空舱室内阴极(靶材)和阳极间电压增加时，带电粒子在电场的作用下加速运动，粒子能量增加，与电极或中性气体原子相碰撞，产生更多的带电粒子，直至电流达到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有稳定银层的高透型可异地钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内向外依次溅射在玻璃基板上的第一抗反射膜层（2）、第一隔离膜层（3）、第二抗反射膜层（4）、Ag层（5）、第二隔离膜层（6）、保护膜层（8），其中第一抗反射层（2）和保护膜层（8）的材料为Si3N4；第一隔离膜层（3）和第二隔离膜层（6）的材料为NiCr；第二抗反射膜层（4）的材料为ZnO，其特征在于：在第二隔离膜层（6）与保护膜层（8）之间利用溅射方法镀制第三隔离膜层（7）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苍利民，韩广军，张云飞，刘国龙，王建，贺超宇，
申请(专利权)人：河南安彩高科股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：