一种用于在水平输送方向上将硅晶片输送到印制设备中的装置具有两个输送单元，这些输送单元分别具有运行设备和其上的保持装置。至少两个输送单元分别设置有保持装置，其中运送单元的运行设备沿着输送方向并排延伸。所述保持装置被分别构造和布置为使得无加载的保持装置经过用硅晶片加载的保持装置。所述运行设备是轨道并且保持装置是放置于其上的滑块。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于沿着输送方向输送例如平面硅晶片的衬底的装置和一种相应的方法以及一种使用这种装置的设备。
技术介绍
通常如硅晶片的衬底在不同的加工站之间在辊道或输送带上被输送，并且一个接一个。在此，有时可以并排地设置多个辊道或多行衬底。这例如由DE 102006054846 Al已知。但是这里缺点是，这些衬底仅仅能够总是以相同的速度被移动。因此当一个衬底需要略微多一点的加工时间或者一个加工站需要比连接在前面或连接在后面的加工站更多的时间时，则在这里产生延迟，所述延迟在使用昂贵设备的情况下实际上应当被避免。 此外，例如由DE 102005039100 Al已知，将多个衬底引入到载体中并且然后将该载体连同所有衬底进行输送。这里，关于延迟适用与前面所述的第二个解决方案类似的情况，也就是当多个所述的载体一个接一个的沿着输送方向移动时。
技术实现思路
本专利技术所基于的任务是，提供开始部分所述的装置和开始部分所述的方法和设备，借助其能够解决现有技术的问题并且尤其是能够以有利的方式以大的灵活性沿着输送方向移动衬底并且尤其也用于支持所使用的加工设备。该任务通过具有权利要求I的特征的装置、具有权利要求9的特征的方法以及具有权利要求8的特征的设备来解决。本专利技术的有利的以及优选的扩展方案是其它权利要求的主题并且在下面被更详细解释。一些后面的特征仅仅针对装置或仅仅针对方法来陈述。然而它们不取决于此地应当可以适用于装置以及方法。权利要求的表述通过明确的引用而成为说明书的内容。规定，衬底在有利地为水平的输送面中被引入到或被输送到例如用于对衬底进行印制或涂层的设备中并且然后穿过该设备。按照本专利技术，设置有多个输送单元，这些输送单元分别具有其上带有保持装置的运行设备(Verfahreinrichtung)。在此,至少两个这样的输送单元分别设置有保持装置并且所述输送单元的运行设备沿着输送方向并排延伸。输送方向可以是直线的，但是其也可以是弯曲的或者具有曲线。此外，在该装置中规定，衬底有利地一个接一个地沿着输送方向并且非并排地被移动。如果应当以这种方式并排移动多个衬底，那么必须并排布置多个本专利技术的装置。保持装置分别被构造和布置为，使得无加载的第二保持装置可以驶过或经过或移动经过用衬底加载的第一保持装置。这例如可以通过如下方式进行，即用于保持或抓住衬底的保持装置部分地或者完全由较低位置被提高到较高位置并且这样保持衬底。由此，在第一保持装置上的衬底处于正常或静止位置，在该位置中第二保持装置于是可以无问题地驶过衬底以及该衬底的第一保持装置。有利的是，保持装置连同其运行设备并排设置。因此能够实现，第一保持装置抓住衬底并且以所希望的和匹配于相应过程的速度输送衬底尤其是通过提到的用于印制或涂层的设备。在该设备内，第一保持装置可以然后又以匹配于该过程的速度移动衬底并且接着将该衬底从该设备中驶出并且例如交付给下面的输送设备或仓库。该装置的第二保持装置于是已经抓住下一个衬底并且将其运行到用于印制或涂层的设备中。该现在又空闲的第一保持装置然后可以无问题地被移动经过第二保持装置以及其衬底到用于印制的设备前并且抓住下一个衬底。然后，该下一个衬底可以以高的速度被带向该设备，而在其中还被加工的衬底仅仅缓慢地沿着输送方向由其第二保持装置移动。因此能够实现良好的匹配并且该设备被最佳地卸载，因为始终有另一衬底由保持装置之一来弓丨导。此外，借助本专利技术能够实现，虽然速度不同但是在输送时保持装置仍然连续输送衬底，从而不必进行向不同保持装置的转交，所述不同保持装置始终是耗费的并且与损坏衬底的危险相关联。在本专利技术的有利扩展方案中，保持装置可以是所谓的输送滑块。于是保持装置可以有利地作为运行设备放置在轨道等等上并且在其上被移动。在此，为输送滑块设置单轨也或者双轨。作为传动可以使用本身已知的直线传动、带传动或者气压支承传动。有利的是，靠近地并且并排地设置两个这样的输送单元。所述输送单元的宽度还总是明显比要由其输送的衬底的宽度小。 在本专利技术的另外的扩展方案中，保持装置可以被构造为，通过低压或真空来抓住或吸取衬底并且然后移动衬底。由此保持装置能够相对贴服地抓住衬底。在本专利技术的有利的扩展方案中，保持装置可以具有用于由外部设备产生低压的滑接馈线或低压线，使得保持装置本身不必产生低压。此外，可以有利地规定，衬底置于保持装置上并且然后借助低压的这种吸取仅仅用于衬底相对于保持装置不改变相对位置。为了抓住衬底可以将整个保持装置、或者仅仅将保持装置的一部分或抓取部分相对于运行设备向上提高。除了用于吸取的滑接馈线之外，可以以相同的方式将其它的线、尤其是供电线延伸到保持装置。因此保持装置也可以具有自己的控制单元或其它的致动器。由此，也就是也可能的是，将保持装置构造为使得其能够相对于运行设备定位所保持的衬底或能够以一定的运动自由度与保持装置的运行无关地移动衬底。这可以是几个毫米或者几个厘米的范围。为此，保持装置的前面所述的抓取器等可以配备有伺服电动机、压电致动器等等。在此，衬底的平面中的旋转运动也是可能的。如果衬底的提高或降低应当被期望，那么这可以借助先前描述的功能来执行，使得保持装置的至少一部分可以总归被提高或者降低。由此能够实现，保持装置不必一定精确地位置准确地容纳衬底，而是可以说可以自校准或者定位。这在后面还被进一步解释。可以规定，衬底仅由保持装置移动或保持。代替地，可以规定，衬底沿着输送方向也在长形的支承装置上运行。这例如可以是在外侧的支承轨或者辊式轴承或轮轴承。对于特别贴服的支承可以设置气压支承。气压支承因此将衬底向上保持，使得保持装置基本上仅仅还需输送衬底，但是不必接受其重力。前面所述的用于保持装置的运行设备优选地在这些长形的支承装置之间运行。本专利技术的另一方面涉及用于对衬底进行印制或涂层的设备，该设备具有前面描述的装置或使用该装置。借助该装置然后可以将衬底引入到设备中。该设备具有第一加工站，在该加工站处测量输送过来的衬底，尤其是在其相对于保持装置或相对于运行设备以及由此也相对于该设备本身的相对位置方面进行测量。然后接着是第二加工站，衬底然后在该第二加工站中被印制或者被涂层，其中为此也可以设置多个加工站。在该第二加工站中，衬底在小的界限中由保持装置移动，以便将其相对于印制头等一次性对准，以便实现预先给定的或者所需要的对准。对印制或涂层的支持然后可以或者通过如下方式来进行，即保持装置向前和返回地移动被对准的衬底。代替地也可以通过衬底的借助保持装置相对于运行设备本身的可能的小的相对移动来支持印制过程。这样可以可能地减少在设备中为了印制所需的印制头或加工站的数量。此外，这些和其它特征从权利要求、也从说明书和附图获知，其中各个特征可以分别单独地或者以多个子组合的形式在本专利技术的实施形式中并且在不同的领域中实现并且可以是有利的以及本身可受保护的实施方式，对于这些实施方式在此请求保护。将本申请划分为各个段落以及小标题在其一般有效性上不限制在下面做出的表述。附图说明本专利技术的实施例在附图中被示意性示出并且下面被更详细解释。在附图中 图I示出具有印制设备的用于晶片的本专利技术输送装置的俯视图， 图2示出在具有其移动能力的输送轨上的输送滑块上的单个晶片的放大视图， 图3示出类似图2的侧视图。具体实施例方式在图本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：J索尔纳，T索特，J梅科，C布奇纳，
申请(专利权)人：施密德科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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