双组分口腔护理产品制造技术

技术编号:7966002 阅读:197 留言:0更新日期:2012-11-09 12:19
本发明专利技术为双组分口腔护理产品。牙用组合物,其例如消除或充分减轻与牙本质过敏有关的不适和疼痛并表现出增强的抗龋和再矿化益处,该组合物含有含钙源的第一组分、含阴离子源的第二组分,并且所述组分中的至少一种含有游离形式或盐形式的碱性氨基酸,使所述第一组分和第二组分保持彼此分开,直到被分配并组合而施用于牙齿。

【技术实现步骤摘要】

本申请要求于2008年2月8日提交的序列号为61/027,422的美国申请的权益,通过引用将其内容并入本文。本专利技术涉及双组分洁齿剂配制物,其中该配制物中的活性组分在使用之前彼此隔离。在一个实施方式中,本专利技术涉及脱敏洁齿剂组合物,其消除或减轻与牙本质过敏有关的不适和疼痛,更具体地涉及脱敏牙用组合物,其含有游离形式或盐形式的碱性氨基酸和钙离子组分以及阴离子组分,该牙用组合物显示出意想不到的增强 的防蛀(anticavity)和再矿化(remineralization)性能。
技术介绍
牙本质过敏定义为对牙本质表面的物理刺激(如暴露的牙本质的热量(热或冷)刺激、渗透刺激、触觉刺激及热量、渗透及触觉刺激的组合)产生反应的急性局部化牙痛。通常归因于牙龈退缩或牙釉质损失的牙本质暴露经常导致过敏。本领域已经确定,向表面开放的牙本质小管与牙本质过敏具有高度相关性,Abs, J. Clin.Periodontal. 14,280-4(1987)。牙本质小管从牙髓通向牙骨质。当牙根的表面牙骨质被侵蚀时,牙本质小管变得暴露于外部环境。暴露的牙本质小管为传送流体流到牙髓神经提供通道,由温度、压力和本文档来自技高网...

【技术保护点】
消除或减轻与牙本质过敏有关的不适和疼痛的方法,其包括制备(1)包含钙源的第一组分和(2)包含阴离子源的第二组分,所述组分中的至少一种含有碱性氨基酸,分开容纳所述第一和第二组分,将所述第一和第二组分分配并组合,以及之后将所组合的组分施用于牙齿,由此在碱性氨基酸的存在下,使阴离子与钙离子反应,以沉淀钙络合物。

【技术特征摘要】
2008.02.08 US 61/0274221.消除或减轻与牙本质过敏有关的不适和疼痛的方法,其包括制备(I)包含钙源的第一组分和(2)包含阴离子源的第二组分,所述组分中的至少一种含有碱性氨基酸,分开容纳所述第一和第二组分,将所述第一和第二组分分配并组合,以及之后将所组合的组分施用于牙齿,由此在碱性氨基酸的存在下,使阴离子与钙离子反应,以沉淀钙络合物。2.权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:R科利R罗宾逊R萨利文D库明斯N贾亚拉曼
申请(专利权)人:高露洁棕榄公司
类型:发明
国别省市:

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