本实用新型专利技术为有关玻璃基板清洗机，属于机械类，其包含液压供应单元，液压供应单元连通供容置液体的清洗槽，清洗槽包括：第一槽体以及第二槽体，第一槽体设第一容置空间，且第一槽体底部两侧分别设连通第一容置空间的注入口及第一排出口，第二槽体环设于第一槽体且设第二容置空间，并第二槽体底部设连通第二容置空间的第二排出口，其中，液压供应单元连通第一排出口、第二排出口及注入口，且第一排出口与液压供应单元间装设一调节液体流量的第一调节组件，并液压供应单元与注入口间装设过滤液体所含杂质的过滤装置，液压供应单元与过滤装置间装设调节液体流量的第二调节组件。可达到减小体积以及维持液体清洁的实用进步性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及机械类，特别涉及ー种玻璃基板清洗机，尤指ー种减小体积以及維持液体清洁的玻璃基板清洗机。
技术介绍
原有基板清洗机用于清洗基板以及五金材等，如附图I及附图2所示，为原有的动作示意图及液体脏污程度示意图，由图中可清楚看出原有基板清洗机为周围具有供溢流浅盘的清洗槽Ia连通预备槽6a，随后利用液压供应单元4a抽取预备槽6a的液体5a，并将液体5a注入清洗槽Ia当中。且由附图2可看出，此设计ー开始液体5a属于干净的状态，随着使用时间增加，液体5a脏污程度随使用时间逐渐增加，当超出容许值遂进行更换液体5a，在更换液体5a后虽然脏污程度降低，却在毎次更换液体5a基板清洗的质量不同。 上述原有基板清洗机于使用吋，为确实存在下列问题与缺失尚待改进—、预备槽6a的设置，占用过多的空间，故运输不便。ニ、毎次更换液体5a之间，液体5a脏污程度逐渐递增，将使基板清洗的质量不同。
技术实现思路
本技术的目的在于提供ー种玻璃基板清洗机，解决原有基板清洗机所存在的预备槽的设置，占用过多的空间、运输不便的问题，达到减小体积和维持液体清洁的实用进步性。为达到上述的目的，本技术包含液压供应単元，液压供应单元连通供容置液体的清洗槽，清洗槽包括第一槽体以及第ニ槽体，第一槽体设有第一容置空间，且第一槽体底部两侧分别设连通第一容置空间的注入ロ及第一排出ロ，第二槽体环设于第一槽体且设第二容置空间，并第二槽体底部设连通第二容置空间的第二排出ロ，其中，液压供应単元连通第一排出ロ、第二排出ロ及注入ロ，且第一排出ロ与液压供应单元间装设ー调节液体流量的第一调节组件，并液压供应单元与注入ロ间装设过滤液体所含杂质的过滤装置，液压供应単元与过滤装置间装设调节液体流量的第二调节组件。本技术具体包括其包含一液压供应単元，该液压供应单元连通ー供容置ー液体的清洗槽，该清洗槽包括一第一槽体，该第一槽体设一第一容置空间，且该第一槽体底部两侧分别设ー连通该第一容置空间的注入ロ及第一排出ロ ； 至少ー环设该第一槽体且设ー第二容置空间的第二槽体，该第二槽体底部设至少一连通该第二容置空间的第二排出ロ。其中该液压供应单元连通该第一排出ロ、该第二排出ロ及该注入ロ ；其中该第一排出ロ与该液压供应单元间装设一调节该液体流量的第一调节组件； 其中该液压供应单元与该注入ロ间装设一过滤该液体所含杂质的过滤装置；其中该液压供应单元与该过滤装置间装设一调节该液体流量的第二调节组件。本技术的优点在于一、注入ロ更可设于第一槽体略高于底部的侧壁，藉此可避免直接冲激沉淀于底部的污垢。ニ、第二槽体因环设于第一槽体周围，可利用温度交換机制，使液体可保持一定温度。三、第二槽体环设的设计，更可有效减小清洗槽的整体体积。四、过滤装置可有效过滤污垢，因此在初期虽液体中脏污程度随时间递增，但经一段时间后，脏污程度可控制于容许范围内，可有效维持基板清洗的质量。附图说明图I为原有的动作示意图。 图2为原有的液体污垢程度示意图。图3为本技术较佳实施例的立体组合图。图4为本技术较佳实施例的剖面示意图。图5为本技术较佳实施例的动作示意图图。图6为本技术较佳实施例的液体污垢程度示意图。具体实施方式如附图3至附图5所示，为本技术较佳实施例的立体组合图、剖面示意图及动作示意图，由图中可清楚看出本技术ー种玻璃基板清洗机，其包含一液压供应単元4，该液压供应单元4连通ー供容置ー液体5的清洗槽1，该清洗槽I包括一第一槽体11以及至少ー第二槽体12，该第一槽体11设ー第一容置空间110，且该第一槽体11底部两侧分别设ー连通该第一容置空间110的注入ロ 111及第一排出ロ 112，该第二槽体12环设于该第一槽体11且设ー第二容置空间120，并该第二槽体12底部设至少一连通该第二容置空间120的第二排出ロ 121，其中，该液压供应单元4连通该第一排出ロ 112、该第二排出ロ 121及该注入ロ 111，且该第一排出ロ 112与该液压供应单元4间装设一调节该液体5流量的第一调节组件21，并该液压供应単元4与该注入ロ 111间装设一过滤该液体5所含杂质的过滤装置3，该液压供应单元4与该过滤装置3间装设一调节该液体5流量的第二调节组件22。如附图4至附图6所示，为本技术较佳实施例的剖面示意图、动作示意图及液体污垢程度示意图，由图中可清楚看出，例用液压供应単元4抽取第一槽体11及第ニ槽体12的液体5，液压供应単元4为泵浦，随后经由过滤装置3过滤液体5的污垢，液压供应单元4与过滤装置3间可设置第二调节组件22以调节流经过滤装置3及注入孔111的流量，过滤后的液体5经由注入ロ 111注入第一槽体11,其中,注入ロ 111更可设于第一槽体11略高于底部的侧壁，藉此可避免直接冲激沉淀于底部的污垢，在液压供应単元4与第一排出口 112间设置第一调节组件21，第一调节组件21可藉由开关动作控制第一排出ロ 112的排放量，且由于第一排出ロ 112设置于第一槽体11底部，因此可藉由液体5压カ排除沉淀于第一槽体11底部的污垢，而关闭第一调节组件21吋，则可增加液体5向上冲洗的流量，液体5在清洗基板后藉由超过第一槽体11壁面溢流至环设于第一槽体11周缘的第二槽体12，第二槽体12具备可容置溢出的液体5，且第二槽体12因环设于第一槽体11周围，可利用温度交換机制，使液体5可保持一定温度，另外藉由第二槽 体12环设的设计，更可有效减小清洗槽I的整体体积，达到液体5预备以及避免温度差过高的功能，且第二槽体12底部具至少ー第二排出ロ 121，可将沉淀于第二槽体12的污垢藉由液体5压カ排出，加上过滤装置3可有效过滤污垢，因此由附图6中可看出，在初期虽液体5中脏污程度在ー开始随时间递增，但经一段时间后，脏污程度可控制于容许值内，可有效维持基板清洗的质量。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种玻璃基板清洗机，其特征在于：其包含一液压供应单元，该液压供应单元连通一供容置一液体的清洗槽，该清洗槽包括：一第一槽体，该第一槽体设一第一容置空间，且该第一槽体底部两侧分别设一连通该第一容置空间的注入口及第一排出口；至少一环设该第一槽体且设一第二容置空间的第二槽体，该第二槽体底部设至少一连通该第二容置空间的第二排出口。
【技术特征摘要】
1.ー种玻璃基板清洗机，其特征在于其包含一液压供应単元，该液压供应单元连通一供容置ー液体的清洗槽，该清洗槽包括 一第一槽体，该第一槽体设一第一容置空间，且该第一槽体底部两侧分别设ー连通该第一容置空间的注入ロ及第一排出ロ； 至少ー环设该第一槽体且设ー第二容置空间的第二槽体，该第二槽体底部设至少ー连通该第二容置空间的第二排出ロ。2.根据权利要求I所述的玻璃基板清洗机，其特征在于其中该液压供应单...
【专利技术属性】
技术研发人员：林万得，
申请(专利权)人：林万得，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。