对于用于在布置于物体上的光敏层内产生曝光结构的曝光设备，所述曝光设备包括容纳物体的物体载体和曝光装置，其中，物体载体和曝光装置可以彼此相对运动，以及其中，利用所述曝光装置可以位置受控制地在光敏层上产生曝光点，从曝光装置中发出曝光射束，利用曝光射束中的每条曝光射束通过成像单元可以在光敏层上产生曝光点，提出：为至少一个偏转元件分配有至少一个产生第一曝光射束的组的第一曝光单元和至少一个产生第二曝光射束的组的第二曝光单元，所述曝光单元的第一曝光射束或第二曝光射束能由同一偏转元件在其运动时偏转，以及用于第一曝光射束的镜面区和用于第二曝光射束的镜面区在列方向上彼此相对错开地布置在偏转元件上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种曝光设备，用于在布置于物体上的光敏层内产生曝光结构，所述曝光设备包括容纳物体的物体载体和曝光装置，其中，物体载体和曝光装置能在进给方向上彼此相对运动，以及其中，利用曝光装置可横向于进给方向地位置受控制地在光敏层上以如下方式产生曝光点，即曝光装置具有至少一个包括一列在列方向上彼此跟随地布置的辐照出射区的曝光单元，从这些辐照出射区中发出曝光射束，利用其中的每条曝光射束通过成像单元可以在光敏层上产生曝光点，并且其中的每条曝光射束通过至少一个具有在 运动方向上运动的包括至少一个反射面的偏转元件的偏转单元而可以在横向于列方向而且倾斜于进给方向分布的偏转方向上偏转，从而可以利用每条曝光射束在偏转方向上在大量依次的曝光点位置上产生彼此至少部分相叠的曝光点。
技术介绍
这种类型的曝光设备由现有技术，例如由WO 2008/071347有所公开。这种类型的曝光设备方面存在的问题是，曝光单元和偏转单元尽可能紧凑地彼此相对布置，这是因为各个曝光射束在偏转方向上的偏转相当小，并且此外每个曝光装置可以产生的曝光射束的数目同样受到技术上的限制。
技术实现思路
该任务在一种开头所述类型的曝光设备上依据本专利技术以如下方式得以解决，SP 为至少一个偏转元件分配至少一个产生第一曝光射束的组的第一曝光单元和至少一个产生第二曝光射束的组的第二曝光单元，所述曝光单元的第一曝光射束或第二曝光射束可以被由同一偏转元件在其运动时偏转，运动的偏转元件为各自第一组或第二组中的每条第一曝光射束以及为每条第二曝光射束设有至少一个镜面区，以及用于第一曝光射束的镜面区和用于第二曝光射束的镜面区在列方向上彼此相对错开地布置在偏转元件上。依据本专利技术的解决方案的优点在于，利用这种解决方案存在如下可能性利用一个偏转单元使至少两个曝光单元的曝光射束组偏转，并且因此实现尽可能紧凑的结构。通过偏转方向倾斜于进给方向的分布存在的可能性是，尽管偏转方向横向于列方向的分布，同时仍通过至少一个曝光单兀的不同曝光射束对横向于进给方向挨着布置的曝光点加以曝光。依据一种特别有利的解决方案，镜面区在列方向上具有错位，错位至少相应于一组曝光射束两个彼此跟随的曝光射束的间距。这样的错位可以使曝光点位置优化地布置在光敏层上。更佳的是，错位相应于一组曝光射束的两个彼此跟随的曝光射束的间距的多倍。在偏转元件的结构方面，到目前尚未进行详细说明。 具有优点的是，偏转元件在相对置的侧上受支承，以保证偏转元件精准的取向。因为偏转元件不仅必须受支承，而且也必须受驱动，以便使其在运动方向上运动，所以依据一种特别有利的解决方案，偏转元件可以通过驱动装置单侧驱动。依据本专利技术的曝光设备一种特别具有优点和紧凑的结构在如下的情况下产生，即在横向于进给方向分布的横向方向上彼此跟随地布置的偏转元件可以分别交替地在相对置的侧上利用驱动装置被驱动。因此，驱动装置可以特别节省空间地彼此相对布置。依据本专利技术的曝光设备另一种具有优点的实施方式，第一曝光单元和第二曝光单兀的第一曝光射束和第二曝光射束的镜面区关于光敏层上垂直于进给方向分布的取向区以如下方式布置，即第一曝光单元中的偏转路径之一的曝光点位置中的一个和第二曝光单元的相应偏转路径与之相对应的曝光点位置处于该取向区内。在此，取向区可以具有最大相应于偏转元件在进给方向上的伸展的二十分之一的伸展。 但为使各个曝光单元特别精确地彼此相对定位，优选设置为，取向区在进给方向上具有相应于一组曝光射束中的一个偏转路径最后的曝光点位置与下个偏转路径的第一个曝光点位置之间的间距的伸展。作为对依据本专利技术的曝光设备前面所介绍特征的选择或补充，依据另一种具有优点的实施方式，为至少一个偏转元件分配至少一个产生第一曝光射束的组的第一曝光单元和至少一个产生第二曝光射束的组的第二曝光单元，所述曝光单元的第一或第二曝光射束可以被由同一偏转元件在其运动时偏转，并且第一曝光射束和第二曝光射束彼此相对地在横向于运动方向分布的列方向上错开地打在光敏层上。这种解决方案的优点是，曝光单元因此可以彼此相对地以及相对于偏转单元得到优化地布置。在此，特别有利的是，曝光装置的所有曝光单元彼此相对地被这样布置，即在光敏层上相应偏转路径的相互对应的曝光点位置处于与进给方向垂直分布的取向区内。同样在这种情况下，取向区也可以具有最大相应于偏转元件在进给方向上的伸展的二十分之一的伸展。但特别有利的是，取向区在进给方向上具有相应于一个偏转路径最后的曝光点位置与进给方向上曝光单元中的一个的下个偏转路径的第一个曝光点位置之间的间距。在这种的解决方案中，实现了曝光单元的位置彼此相对足够小的偏差，可以使所要曝光的区域在光敏层上的固定方案被简单地实施。依据本专利技术的曝光设备另一种具有优点的实施方式，第一曝光射束组和第二曝光射束组的各自相互对应的曝光点位置与垂直于进给方向分布的取向线具有最大相应于曝光点位置的一个曝光点的直径的间距。依据另一种具有优点的解决方案设置为通过第一曝光单元的偏转路径之一的曝光点位置中的一个分布的而且垂直于进给方向取向的取向线与第二曝光单元的相应偏转路径的与之对应的曝光点位置相交，从而两个曝光单元被这样精准地彼此相对定位，即使得对所要曝光结构的曝光能非常简单地进行。在依据本专利技术的曝光设备中可以设置为至少一组第一曝光射束和至少一组第二曝光射束打在偏转元件的同一纵向侧上，并且通过在该纵向侧上形成的镜面区被反射。依据另一种优选的解决方案设置为，至少一组第一曝光射束打到偏转元件的其中一个纵向侧上，并且至少一组第二曝光射束打到与该其中一个纵向侧相对置的纵向侧上。这种解决方案的优点在于，用于产生第一曝光射束的曝光单元和用于产生第二曝光射束的曝光单元由此可以优化地节省空间布置和特别是被这样布置，即所述曝光单元的至少一个分区处于偏转元件的相对置的侧上。由此，在这种解决方案的范围内可以考虑的是，多组第一曝光射束和多组第二曝光射束打到该偏转元件上。作为对前面介绍的解决方案的选择或补充，开头所提到的任务还通过一种开头所提到类型的曝光设备得以实现，其中，依据本专利技术来自至少两组曝光射束的每条曝光射束中的各一条曝光射束打到偏转元件的同一镜面区上，并且由该镜面区反射到光敏层上。这种解决方案的优点在于，因此特别是对于高分辨率来讲，提供了一种非常紧凑的解决方案可供使用，该解决方案同样开辟了以简单方式面覆盖式地曝光光敏层的可能性。 在此，有利的是，曝光射束彼此相对成锐角地打到同一镜面区上,从而两条曝光射束从镜面区朝不同的方向偏转，并因此产生了布置于光敏层上的不同位置上的曝光点。依据一种特别适当的解决方案，曝光射束相对于中轴线对称地走向。在此，曝光射束这样偏转，即使各自一条曝光射束的曝光点可以沿相应的偏转路径运动，其中，偏转路径优选彼此平行分布，但不相互对准。在此，依据一种特别有利的解决方案，至少两条曝光射束在光敏层上产生处于一条共同的偏转线上的曝光点。在此，单条曝光射束的曝光点被这样布置在偏转线上，即使曝光射束中的一条的曝光点处于偏转线的一个分段上，另一条曝光射束的曝光点处于偏转线的另一个分段上。但因此存在的可能性是，偏转线的分段之间仍保留空隙，从而一条曝光射束曝光点的列和另一条曝光射束曝光点的列为过渡为彼此。为达到过渡为彼此，优选一条曝光射束的最后本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯·奥普韦，克劳斯·云格尔，
申请(专利权)人：克列奥股份公司，
类型：发明
国别省市：
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