带密室的建筑结构制造技术

本发明专利技术提供一种带密室的建筑结构，包括一个以上并列的办公室，各办公室均设有正门；其中一个办公室的后侧设有一个紧急出口，靠近该紧急出口的各办公室的后方设有一个密室，密室的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直；紧急出口上设有一扇从办公室开向外侧的外推门，密室入口设有一扇密室门，且外推门推至与紧急出口所在墙壁呈90°~100°时，靠住密室入口所在墙壁，并完全遮住密室门；所述紧急出口向外延伸一条紧急通道，并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门；正对所述紧急出口的紧急通道壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识。该建筑结构中的密室不仅隐蔽性好，难以发现，并且成本低，使用方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及建筑结构领域，具体地，是一种带有密室的建筑楼层平面格局。
技术介绍
在商业活动中，有时需要召开秘密会议，此时会议地点通常不希望公开，越隐蔽越 好，另外，对于技术机密的储藏，亦需要考虑安全隐秘的场所，因此，一些办公楼层中会构造密室。然而，目前的密室有一部分直接采用普通房间，仅对其采取防盗措施，如安装防盗门、密码锁等等，该种密室一者安全设施成本较大，二者仍然挡不住暴力摧毁；另外一部分密室则通过隐藏密室的入口来实现隐秘效果，该种密室主要有两种，一种是地下室，其建造成本较大；另一种是与普通房间并列的房间，通过暗门进入，然该种暗门的布置要求很高，通常需要花费很大的装饰成本，并且，在进入密室后，使暗门外部恢复原貌需要花费很多工夫，因此使用很不方便。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术的目的在于提供一种带密室的建筑结构，该建筑结构中的密室不仅隐蔽性好，难以发现，并且成本低，使用方便。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是该带密室的建筑结构包括一个以上并列的办公室，各办公室均设有正门；其中一个办公室的后侧设有一个紧急出口，靠近该紧急出口的各所述办公室的后方设有一个密室，所述密室的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直；所述紧急出口上设有一扇从办公室开向外侧的外推门，所述密室入口设有一扇密室门，且所述外推门推至与紧急出口所在墙壁呈90° 100°时，靠住所述密室入口所在墙壁，并完全遮住所述密室门；所述紧急出口向外延伸一条紧急通道，并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门；正对所述紧急出口的紧急通道壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识。作为优选，所述密室门的底部距离地面30cm以上，以避免从所述外推门的门底窥见密室门。作为优选，所述密室门的外门板由矩形石块浮雕板构成，且无外门框和锁孔，通过弹簧实现关阖，以起到掩饰作用。作为优选，各需要展开秘密会议的所述办公室之间设有互通的旁门，以便于共同进入所述密室进行交流。本专利技术的有益效果在于该带密室的建筑结构在需要进入密室时，首先需要打开紧急出口的外推门，当该外推门打开时，恰好完全遮挡住密室门，且紧急出口所正对的紧急通道壁上，设有引导通向紧急通道出口的所述安全门的标识；另外，所述安全门只能从通道内部开启，因此，外部人员在正常情况下，根本无法发现密室门，该密室不仅建造成本低，并且使用十分方便。附图说明图I是本带密室的建筑结构实施例一的结构示意图。图2是实施例一中外推门开启状态下的示意图。图3是本带密室的建筑结构实施例二的结构示意图。 具体实施例方式下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明 实施例一 在图I、图2所示的实施例一中，该带密室的建筑结构包括两个并列的办公室1、2，各办公室均设有正门10、20 ;其中办公室I的后侧设有一个紧急出口，其上设有一扇从办公室I开向外侧外推门11，靠近该紧急出口的办公室2的后方设有一个密室4，所述密室4的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直；所述密室入口设有一扇密室门40，且所述外推门11推至与紧急出口所在墙壁呈90° 100°时，靠住所述密室入口所在墙壁，并完全遮住所述密室门40，其状态如图2所示；所述紧急出口向外延伸一条紧急通道5，并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门51 ;正对所述紧急出口的紧急通道5墙壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识。上述带密室的建筑结构，所述密室门40的底部距离地面30cm以上，以避免从所述外推门11的门底窥见密室门40，构造时，可使密室门40的面积为所述外推门11面积的三分之二左右；另外，所述密室门40的外门板可由矩形石块浮雕板构成，且无外门框和锁孔，通过弹簧轴实现关阖，而其内侧可设置插销，从而使密室门40具有良好的掩饰作用。上述带密室的建筑结构，所述办公室1、2之间设有互通的旁门12，以便于共同进入所述密室4进行交流。实施例二 图3所示为本专利技术的实施例二，该实施例中，包括三个并列的办公室1、2、3，各办公室均设有正门10、20、30 ;同样，办公室I的后侧设有一个紧急出口，其上设有一扇从办公室I开向外侧外推门11，靠近该紧急出口的办公室2的后方设有一个密室4，所述密室4的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直；所述密室入口设有一扇密室门40，且所述外推门11推至与紧急出口所在墙壁呈90° 100°时，靠住所述密室入口所在墙壁，并完全遮住所述密室门40 ;所述紧急出口向外延伸一条紧急通道5，并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门51 ;正对所述紧急出口的紧急通道5墙壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识；另外，各办公室之间设有互通的旁门12、23。上述带密室的建筑结构在需要进入密室4时，首先需要打开紧急出口的外推门11，当该外推门11打开时，恰好完全遮挡住密室门40，且紧急出口所正对的紧急通道壁上，设有引导通向紧急通道出口的安全门51的标识；另外，所述安全门51只能从通道内部开启，因此，外部人员在正常情况下，根本无法发现密室门40，该密室不仅建造成本低，并且使用十分方便。 以上所述仅为本专利技术的较佳实施例，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带密室的建筑结构，包括一个以上并列的办公室(1、2、3)，各办公室均设有正门(10、20、30)，其特征在于其中一个办公室的后侧设有一个紧急出口，靠近该紧急出口的各所述办公室的后方设有一个密室(4)，所述密室(4)的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直；所述紧急出口上设有一扇从办公室开向外侧的外推门(11)，所述密室入口设有一扇密室门(40)，且所述外推门(11)推至与紧急出口所在墙壁呈90° 100°时，靠住所述密室入口所在墙壁，并完全遮住所述密室门(40);所述紧急出口向外延...

【专利技术属性】
技术研发人员：马根昌，
申请(专利权)人：苏州市伦琴工业设计有限公司，
类型：发明
国别省市：