【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及焦平面图像非均匀性校正方法,具体涉及一种共光路情况下多模块拼接焦平面的图像整体非均匀性校正方法。
技术介绍
本专利技术主要针对小指向镜指向焦平面拼接成像系统,光路结构示意图如图I所示,该方法采用共光路小指向镜分时成像完成视场的无缝覆盖,其具体工作方式可以参考“小反射镜四次指向实现面阵拼接探测器大区域覆盖方法”。系统一次成像的图像拼接示意图如图2所示,图中视场由八个焦平面无缝拼接覆盖成像。 由于不同焦平面的材料非均匀性、读出电路特性、驱动电路特性的差异等原因导致各焦平面的成像存在非均匀性的问题,为了得到灰度均匀、连续的图像需要对不同焦平面的成像图像进行非均匀性校正。同时,成像灰度受积分时间、电子学特性、探测器等多方面的因素影响,无法通过一次性成像标定完成图像整体的非均匀性校正。在常规的图像拼接过程中,拼接处的灰度连续性处理一般采用过渡带平滑算法,这些算法没有对整体图像进行处理;然而在指向系统中,视场由多幅图像进行无缝拼接,只对过渡带进行平滑将造成图像明暗相间,效果较差。所以在指向系统中,需要对整体图像进行非均匀校正。
技术实现思路
本专利技术针对小指向镜 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多模块拼接焦平面的图像非均匀性校正的方法,其特征在于在ー块焦平面模块中利用成像过程中不同像素对应的不同光通量得到一个基准线性方程;然后在另外ー个焦平面模块上找到具有同样特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:雍朝良,陈凡胜,孙胜利,
申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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