【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纺织质量控制领域。它涉及一种在权利要求I的前序中所述的组合式电容性和光学清纱器测量単元。
技术介绍
所谓的清纱器用于确保在纺纱机或络纱机上的纱线质量。例如在CN-1,053,649A中描述了这类清纱器。它包括具有测量单元的清纱器测量头,该测量単元包括至少ー个传感器,该传感器扫描移动的纱线,且测量至少ー个纱线參数。在CN-1,232,965A或W0-2009/143642A1中描述了ー种清纱器測量头的构造。清纱的目的是检测纱线中诸如粗段、细段或异物的纱疵,以按照特定的质量标准对这些纱疵进行评估,并根据情况将其除去。通常使用的传感器原理是电容性原理(例如參见CN-1’ 226’ 001A)和/或光学性原理 (例如參见CN-1’711’474A)。WO 2010/000078A1公开了ー种组合式电容性和光学清纱器。迄今所知的诸如在W0-2010/000078A1中描述的组合式清纱器通常具有沿纵向相互靠近的光学測量元件和电容性測量元件,该光学測量元件具有光学測量槽,该电容性测量元件具有电容性测量槽,且待测纱线沿该纵向行进通过所述测量槽。光学測量槽的宽度和电容性測量槽的宽度通常是相等的。经验已表明,光学測量元件比电容性測量元件随时间更容易磨损。由于在光学測量槽的侧壁上安装有由光学透明材料制成的窗户,光经过这些窗户表面的光学传输由于轻微磨损而随时间逐渐减弱,且该轻微磨损是由于纱线长纤维或在纱线中的异物成分可在纱线行经测量槽时碰触到侧壁而产生的。光学传输的劣化会对光学信号的长期稳定性产生不利的影响。
技术实现思路
因此,要解决的技术难题在于减轻磨损、以及由此 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2010.10.19 CH 01724/101.ー种组合式电容性和光学清纱器测量単元(I),包括电容性測量元件(2)和光学测量元件(3),所述电容性測量元件(2)的电容性元件体部具有电容性测量槽(5),所述光学測量元件(3)的光学元件体部具有光学测量槽(4);以及 具有所述电容性测量槽(5)的所述电容性測量元件(2)以及具有所述光学测量槽(4)的所述光学測量元件(3)沿纵向相互靠近,且待测纱线沿该纵向行经所述测量槽(4,5); 其特征在于 所述光学測量槽的宽度(W。)大于所述电容性測量槽的宽度(W。)。2.根据权利要求I所述的ー种组合式电容性和光学清纱器测量単元(I),其特征在于所述光学測量中槽的宽度(W。)至少是所述电容性測量槽的宽度(W。)的I. 5倍。3.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:汉斯鲁迪·万普费尔,
申请(专利权)人:乌斯特技术股份公司,
类型:实用新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。