低场磁共振颅脑常规序列快速扫描方法技术

本发明专利技术公开了一种低场磁共振颅脑常规序列快速扫描方法，该方法为SE/FSE序列T1WI、T2WI颅脑，FOV轴位为33cm，层厚5～8cm，next1次；FOV矢冠状位为35cm，层厚4～5cm，next1次。每个序列扫描时间明显缩小至原来的1/4，一个工作日7小时从原来的检查15人次增加至30余人次；由于扫描快，总体伪影明显减少，扫描成功率高，序列重新扫描率从原来的2%下降至3‰以下；由于采用大视野扫描，累及超过2万例图像可显示常规视野不能看到的病变，因此性价比极高。用于低场磁共振MRI颅脑常规序列自旋回波序列SE、快速自旋回波序列FSE扫描。

【技术实现步骤摘要】

在本专利技术涉及ー种低场磁共振(MRI)颅脑常规序列(自旋回波序列SE、快速自旋回波序列FSE)扫描方法。
技术介绍
现有的低场磁共振(< O. 5T)在扫描方法的扫描视野(field of view, FOV)多较小，卢页脑24cm,激励次数(number of excitation ；NEX)多采用3 4次,扫描时间长,姆个序列时间约为5 7分钟。參考文献沈阳中基电子有限公司AG3500型O. 35T磁共振设备(MRI)使用说明书。现有的技术的缺陷每个序列扫描时间明显长，多5 7分钟，每个患者检查I个·部位时间需25 30分钟；病人运动伪影出现率高，尤其对于不能长时间坚持检查者及重症·患者扫描成功率低；病人等待检查时间较长，有时影响及时施治；医院检查流量低，技师及诊断医生常需加班。常规视野扫描视野小，不能多显示邻近组织及可能存在的病变，信息量较小，性价比低，不利于提升MRI设备的临床应用价值。
技术实现思路
为了克服现有的低场磁共振扫描方法的扫描时间长、扫描视野小、信息量较小缺陷，本专利技术提供ー种低场磁共振颉脑常规序列快速扫描方法，该扫描方法扫描时间短、扫描视野大、信息量较多。本专利技术本研究提示在FOV、NEX及层厚之间存在最佳结合点，按照此结合点优化组合可显著缩短扫描时间，同时图像质量有提高，移动等伪影減少。本研究_在引起国内众多低场磁共振厂家及使用者注意，对磁共振不同參数优化配置的研究起到抛砖引玉的作用，从而更合理解决临床及科研实际问题。低场MRI快速扫描的意义扫描速度快，病人移动伪影总体減少，扫描成功率高；减少病人等待检查时间，为及时施治提供时间；增加检查流量，为医院多创造效益，为技师及诊断医生減少加班时间。矢冠状位大视野扫描的意义增加视野，可多显示邻近组织及可能存在的病变，信息量増加，更有利于诊断，也有助于多发现病变，有利于提升MRI设备的临床应用价值，对患者来说，具有较高的性价比。本专利技术的技术方案是 S/FSE.序列 CTWI.· T2W》T R)￥icm)I MU Ce ) next《次) Jiia辕fc为 335+ +8I矢冠为3S4. .5I以上层厚视具体扫描方位与病变大小确定，轴位多采用厚层扫描(微细病变也采用薄层)另外，可根据具体扫描层数适当改变重复时间(TR)及回波时间(TE)。所得图像根据观察不同部位或病变可适当放大合适的倍数。本专利技术所采用线圈均为有一定空间的硬质线圈，部分扫描序列设计中的视野已超过线圈长度40-50%，可能是由于继往国内外实验室或技师多采用水模进行序列研究及测试，水模长度有一定距离限制，而人体具有连续性，因此基于大视野快速成像在人体实验更具有意义。本专利技术研究提示在FOV、NEX及层厚之间存在最佳结合点，按照此结合点优化组合可显著缩短扫描时间，同时图像质量有提高，移动等伪影減少。本专利技术基于大视野(F0V为现行常规视野的140-150%左右)，在F0V、NEX及层厚之间存在最佳结合点，按照此结合点优化组合可显著缩短扫描时间，按照此结合点优化组合 可显著缩短扫描时间，同时图像质量有提高，移动等伪影減少。本专利技术的优点 每个序列扫描时间明显缩小至原来的1/4，ー个工作日(7小吋)从原来的检查15人次增加至30余人次； 由于扫描快，总体伪影明显减少，扫描成功率高，序列重新扫描率从原来的2%下降至3%。以下； 由于采用大视野扫描，累及超过2万例图像可显示常规视野不能看到的病变(其中有必要采取进一步治疗的良恶性病变超过5000例)，因此性价比极高； 采用线圈均为有一定空间的硬质线圈，部分扫描序列设计中的视野已超过线圈长度40-50%，由于继往国内外实验室或技师多采用水模进行序列研究及测试，水模长度有一定距离限制，而人体具有连续性，因此基于大视野快速成像在人体实验更具有意义。附图说明图I是厂家轴位T2WI序列图扫描參数及时间截图。图2是本专利技术轴位T2WI序列图扫描參数及时间截图。图3是厂家的轴位T2WI根据原始參数扫描所得图像。图4是根据本专利技术的參数所得轴位T2WI序列扫描图像。图5是本专利技术的所用的头颅线圈结构示意图。图6是本专利技术所用的头颅线圈厂家提供的矢状位SETl图像。图7是根据本专利技术扫描所得的矢状位FSE序列T2WI图像。具体实施例方式本专利技术将诸參数最佳组合采用大视野(F0V)、层厚(轴位一般层厚不变，精细病变层厚减薄，矢状位多采用薄层4 5 cm)、小激励次数(next由3 4改为I),本方法姆个序列只要I分多钟。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低场磁共振颅脑常规...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁长青，张成彬，
申请(专利权)人：丰县人民医院，
类型：发明
国别省市：