按键模块制造技术

本实用新型专利技术提供一种按键模块，包括缓冲件与键帽。缓冲件具有基部与多个裙部。键帽配置在缓冲件上，而裙部从基部朝向键帽延伸。键帽覆盖至少两个裙部。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种输入模块，尤其涉及一种按键模块。
技术介绍
随着科技的进步，各种电子产品，例如计算机、翻译机等，也充斥于一般人的日常生活中。其中，不论何种电子产品，其人机介面多需利用键盘作为输入工具。因此，键盘的按键结构的设计也逐渐为业者所重视。现有按键模块通常以缓冲件连结在塑胶键帽与底层电路板之间，以在使用者按压键帽时除能使其抵压电路板上的接点而达到其功能外，亦藉由缓冲件而让使用者有较佳的按压手感。然而，按键随着其功能不同而具有不同的外形轮廓与面积，对于使用者而言，亦 需施加不同的按压力量方能使按键模块上的每个按键顺利地运作。因此，对于部分面积较大的按键而言，由于与键帽连接的缓冲件亦随其外形轮廓而变大，常会让使用者需以较大力量进行按压，因此有损于按键模块在输入时的便利性。
技术实现思路
本技术提供一种按键模块，其具有较省力的按压结构。本技术的一实施例提出一种按键模块，适用于一电子装置。按键模块包括一缓冲件以及一键帽。缓冲件具有一基部与多个裙部。键帽配置在缓冲件上。裙部从基部朝向键帽延伸。键帽覆盖至少两个裙部。在本技术的一实施例中，上述被键帽覆盖的裙部在基部上的正投影分别为一封闭轮廓。在本技术的一实施例中，上述被键帽覆盖的裙部在基部上的这些封闭轮廓彼此独立且面积相等。在本技术的一实施例中，上述被键帽覆盖的裙部在基部上的这些封闭轮廓的外形轮廓长度，小于键帽在基部上的正投影的外形轮廓长度。在本技术的一实施例中，上述的键帽的重心在基部上的正投影，位在裙部的这些封闭轮廓的形心位置。在本技术的一实施例中，上述的缓冲件还具有多个顶部。各裙部从基部朝键帽延伸而连接至对应的顶部。键帽配置在顶部上。在本技术的一实施例中，上述被键帽覆盖的顶部与裙部在基部上的正投影面积之和，小于键帽在基部上的正投影面积。基于上述，在本技术的上述实施例中，按键模块藉由将键帽配置在缓冲件上时，让键帽覆盖至少两个裙部，亦即让缓冲件与键帽之间的支撑处位在键帽的范围内，因而能降低使用者按压大面积按键时的力道，而使按键模块具有较为省力的按压结构。为让本技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。附图说明图I是依照本技术一实施例的一种按键模块的示意图。图2是图I的按键模块的局部爆炸图。图3是图I的按键模块沿平面A的局部剖视图。图4是图I于键帽120B处的局部俯视图。附图标记100 :按键模块110:缓冲件112 :基部114A、114B:裙部116:顶部120A、120B:键帽Cl :形心Gl :重心L1、L2:环状长度L3 :外形轮廓长度具体实施方式图I是依照本技术一实施例的一种按键模块的示意图。图2是图I的按键模块的局部爆炸图。请同时参考图I与图2，在本实施例中，按键模块100适用于一电子装置(未显示)，例如计算机、打印机等需以相关人机介面进行操作者，在此并未限制电子装置的形式。按键模块100包括一缓冲件110与配置其上的多个键帽120A、键帽120B。需先说明的是，在此以键帽120A代表位在按键模块100右侧的文字键，而以键帽120B代表位在按键模块100下方的空白键，其中因按键功能布局所定义的键帽120B(空白键)的面积会大于键帽120A(数字键)的面积，而后续相关的结构皆会以此作为说明的依据。缓冲件110例如是以橡胶、硅胶等软性且具有弹性的材质所制成，其具有一基部112与突出于基部的多个裙部114A、裙部114B。键帽120A可在缓冲件110进行成型时与裙部114A —体成型，亦即裙部114A是沿着键帽120A的外形轮廓边缘而与其连接。然而，由于键帽120B的面积大于键帽120A，故若仍以和键帽120A相同制程所制作出的按键结构，将会造成使用者需以较大力道按压键帽120B方能顺利进行操作。据此，本技术在缓冲件110成型时于空白键，即键帽120A处成型出两个裙部114B与两个顶部116，其中各裙部114B从基部112延伸而与对应的顶部116连接，而后再以键帽120B贴附在此两个顶部116上，亦即在本实施例的按键模块100中，键帽120B是覆盖在两个裙部114B与两个顶部116上。换句话说，在本实施例的按键模块100中，设计者可依据每个键帽面积的不同而选择不同的结构配置。以下仅针对键帽120B的结构加以说明。图3是图I的按键模块沿平面A的局部剖视图。图4是图I于键帽120B处的局部俯视图。请同时参考图3与图4，在按键模块100中，被键帽120B覆盖的裙部114B在基部112上的正投影分别是一封闭轮廓。在本实施例中，这些裙部114B在基部112上的正投影分别具有环状外形，且这些封闭轮廓彼此独立。值得注意的是，这些封闭轮廓的环状长度LI、环状长度L2之和小于键帽120B在基部112上的正投影的外形轮廓长度L3。再者，裙部114B与顶部116在基部112上的正投影面积之和小于键帽120B在基部112上的正投影面积。换句话说，顶部116与裙部114B在基部112上的正投影是位在键帽120B在基部112上的正投影的范围之内。如此一来，裙部114B便非同裙部114A—样沿着键帽120A的底部边缘而连接，取而代之的是以小于键帽120B的范围而藉由顶部116与键帽120B连接。此举相较于键帽120A，即沿外形轮廓边缘连接的裙部114A结构而言，键帽120B与裙部114B之间的接触面积得以降低，进而让使用者以与按压键帽120A近似的按压力量得以完成键帽120B的按压动作。在此，本实施例并未限制顶部116与裙部114B的面积，更进一步地说，本实施例并未限制顶部116与裙部114B在基部112上的正投影的外形。凡能使缓冲件110与键帽120B之间的接触位置，落在键帽的范围之内者者，皆可适用于本技术。 另一方面，请再参考图4，在本实施例中，键帽120B的重心Gl在基部112上的正投影，位在这些裙部114B在基部112上的这些封闭轮廓的形心Cl位置。此举让本实施例的键帽120B在结构上是由两个顶部116与两个裙部114B所平均支撑。换句话说，使用者按压键帽120B时所施加的按压力能平均传递至两个顶部116与两个裙部114B，而让键帽120B被按压时能相对于基部112呈现上下平移的运动模式。需说明的是，在本实施例中虽是以两个裙部114B与两个顶部116作为键帽120B的支撑结构，但本技术并未限制被键帽120B覆盖的裙部114B与顶部116的数量，在让键帽120B能覆盖至少两个裙部114B的前提之下，设计者可依据键帽120B的面积大小或使用者的按压需求而予以适当地变更。综上所述，在本技术的上述实施例中，按键模块藉由让键帽覆盖至少两个裙部，其中裙部在基部上的正投影轮廓长度之和小于键帽在基部上的正投影的轮廓长度，亦或是顶部与裙部在基部上的正投影面积之和小于键帽在基部上的正投影面积，亦即让缓冲件与键帽之间的支撑处位在键帽的范围内，而降低使用者按压大面积按键时的力道，以让使用者能以较省力的方式按压按键模块。虽然本技术已以实施例揭示如上，但其并非用以限定本技术，任何本领域技术人员，在不脱离本技术的精神和范围内，当可作任意改动或等同替换，故本技术的保护范围当以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种按键模块，适用于一电子装置，其特征在于，该按键模块包括 一缓冲件，具有一基部与多个裙部；以及 一键帽，配置在该缓冲件上，该些裙部从该基部朝向该键帽延伸，且该键帽覆盖至少两个裙部。2.根据权利要求I所述的按键模块，其特征在于，其中被该键帽覆盖的该些裙部在该基部上的正投影分别为一封闭轮廓。3.根据权利要求2所述的按键模块，其特征在于，其中被该键帽覆盖的该些裙部在该基部上的该些封闭轮廓彼此独立且面积相等。4.根据权利要求2所述的按键模块，其特征在于，其中被该键帽覆盖的该些裙部在该基...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱彦楠，
申请(专利权)人：金宝电子工业股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：