图案化的不沾精饰层制造技术

技术编号:776184 阅读:254 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
通过用氟聚合物和磁性片的混合物涂覆并且在该聚合物涂料组合物中磁化诱发图案,形成光滑的图案化的基底,用于制造装饰性厨具。该烘烤的氟聚合物不沾涂层包括可磁化片,部分所述的片在所述基底的平面内定向,而部分所述的片被磁化再定向以在所述涂层中形成在反射光中可观察到的图案,所述的片具有大于所述涂层厚度的最长尺寸。通过置于涂覆基底下面的用于诱发图象效应或者图案的可磁化型模的边缘,施加磁力形成图案化的基底。固化的涂料组合物在基底上产生平滑、图案化的不沾精饰层。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
相关申请本申请要求申请号为60/058148,申请日为1997年9月8目的申请为优先权。本专利技术的领域本专利技术涉及具有三维效果的装饰图案的不沾的涂层制品。本专利技术还涉及在涂覆的厨具上制造装饰图案的方法,同时保持光滑的不沾表面,以使食物颗粒易于清除。本专利技术的背景一直希望制造具有装饰外观且保持良好不沾性能的涂覆的厨具。在GB1131038(Tefal)中公开了制造具有光学深度幻觉的图案的厨具的方法。该说明书公开了在作为基底上的涂层的聚四氟乙烯(PTFE)基质中产生片状磁性颗粒图案的方法。该方法通过将片与PTFE的水性分散液混合并将该分散液涂覆于基底上而实现。在涂覆步骤之后,将磁体置于基底(基材)下面,则磁体的磁场吸引该片至磁体。如‘038专利的图3所示,这种移动包括片在涂层厚度内的垂直和接近垂直方向的移动,并且这些片全部包含在涂层中,这意指其最大的尺寸小于涂层的厚度。这需要要麽厚的涂层要麽非常小的片(小的最大尺寸)。然而,使用小片所带来的问题是在涂层中并不倾向于形成细致的图案。因此,需要厚的PTFE涂层以产生可见的图案。甚至磁力线造成的片的垂直定向引起片位于涂层的表面上部,从而突出于表面,使烘烤后的涂层粗糙,对于不沾涂层来说这是所不希望的。该‘038专利还公开了具有空穴的基材,即其具有粗糙的表面,这能使片在烘烤涂层过程中为不移动的。使用‘038专利的方法使不沾涂层磁性图案化所存在的问题是需要过分厚的PTFE涂层,然而这不能在其厚度内完全含有所有的片,并且需要粗糙的基底以将涂层粘结在基底上,以及在烧结过程中使片不移动。用‘038专利制成的图案所产生的另一问题是图案“模糊”,即不清晰。当将涂覆的基底直接置于‘038专利的附图说明图1的磁体上时,在涂层中会以螺旋环的形式再现磁体的环状磁极片,这与作为图案的磁极片的环形形状产生了偏差。如‘038专利的图2所示,当将成型板穿过磁体的顶部放置时,在磁力线直接穿过的成型板的整体区域内,成型板所得到的图案特别模糊。“模糊”图案是‘038专利方法的一个体现,因为该方法产生不希望的磁力线(磁性背景效应),这种方法还产生粗糙的装饰表面。如果在‘038专利的方法中使用强磁场,以试图消除图象模糊,即使图象清晰,则产生另一不希望的背景效应,即在涂层内的图案中产生重影。除了设计之外,在锅和盆等厨具的侧壁上通常包括标有液体量的刻度标识。通常,这种标识通过在用不沾精饰层面涂之前浮雕金属基底而获得的。然而,由浮雕产生的凸起物会影响表面的不沾性能,会残留食物残渣并且形成腐蚀源。本专利技术的简述本专利技术的各个实施方案解决了过量涂层厚度的问题,同时能够在涂层中产生含有磁性诱发片图案的光滑不沾涂层(release coatings),能够使用光滑的基体并且提供了改进清晰度的图案,例如线图案,包括形成液体量标记的新颖图案。在一个实施方案中,本专利技术提供了一种其上具有烘烤的不沾涂层的基体,该涂层包括氟聚合物和可磁化的片,部分所述片在基体平面内定向,而另一部分已定位的所述片在基体的平面内磁化重新定向,所述磁化重新定向的片部分在反射光中具有与在基体平面内定向的所述片部分不同的外观,因此被磁化重新定向的所述片部分在所述涂层中形成图案,所述片的最长尺寸大于所述涂层的厚度。在将液体形式的涂料组合物涂覆于基体上时,片通常以平行于基体表面的方向定向,片的定位磁性再定向使片倾斜(再定向)于原平面方向。这种倾斜使垂直于原平面方向(即垂直于被涂覆基底表面)变化至较小程度地垂直于原平面。平面定向的片将入射光反射至观察者,而再定向的片并不如此。因此,当在涂层中存在片的磁性再定向时,在涂层中产生图案的外观。重要的是片能够将光反射至观察者,这是为什麽使用大尺寸片的原因(长尺寸大于涂层厚度)。小尺寸片不足以在再定向的片和平面分布的片之间反射产生清晰分辨的外观,或者换句话说不能在涂层中产生清晰的图案。由于片的长尺寸大于不沾涂层的厚度,再定向的片可能凸出于涂层的表面,而位于涂层平面内的片即不倾斜的片通常不凸出于不沾涂层的表面。尽管一些再定向片凸出于不沾涂层的表面,这些片的凸出部分被不沾涂料组合物涂覆形成不沾涂层的“凸峰(mounds)”,包裹着这些片的凸出部分。这些凸峰的轮廓,向涂层的平面逐渐变平,能使涂层(烘烤之后)成为不沾涂层。将手指在烘烤的涂层表面上触摸时,可感觉到图案化的不沾涂层的表面整体是光滑的,并且对反射光表现为黑色的区域的光滑度较反射光的区域的光滑度略低,但是可作为不沾涂层,例如清除存留其上的食物。在本专利技术的一个实施方案中,图案是装饰图案。当基底是厨具或者烧烤用具时,在厨具(烤具)表面可存在图案,并且可产生三维外观,尽管基底上的不沾涂层是光滑的。在优选实施方案中,不沾涂层是光滑的,该光滑表面的特征在于表面粗糙度小于1.5微米。在另一个实施方案中,图案是不沾涂层涂覆的容器侧壁上的液体量标记。这种可提供含量信息的侧壁是通过片的磁性再定向而产生的,无需浮雕厨具或烤具侧壁,并且具有含磁性再定向片的涂层,这足够光滑仍可作为不沾涂层。在另一个实施方案中,基底表面是光滑的并且涂层通过基底上的底层而粘结在基底上。在优选实施方案中,基底光滑度的特征是平均粗糙度为小于1.5微米。在另一个优选实施方案中,含有片的涂层为两部分,即中间涂层和顶涂层。在中间涂层和顶涂层中的片要麽能够保证片不凸出于整个涂层表面,要麽使凸峰平滑,使从中间涂层凸出的片包裹在凸峰中,这取决于顶涂层的厚度。中间涂层的厚度并且优选是中间涂层和顶涂层的厚度之和小于长尺寸片的长度,同时使中间涂层表面平滑,通过顶涂层的平表面,顶涂层使底层的凸峰的顶部平滑。由顶涂层所产生的平滑改进了不沾层的不沾特性。如果使用粗糙的基底,则不需要底层,所述的中间涂层为底层或者底涂层。本专利技术的涂覆的基底优选通过下述方法制得其中将含有氟聚合物和可磁化片的水性分散液涂覆于基底上,将所得的液体涂层置于定位磁力中以产生所需的再定向片图案。优选地在将水性分散液涂覆于基底上的同时施加磁力。与英国专利1,131,038的方法另一相背离之处是如何对片施加磁力,即使用扩散磁场而不是直接使用磁体本身。产生磁力的源磁体与被涂覆的基底间隔放置。通过在扩散磁场和基底上的涂层之间放置的可磁化材料型模,磁力穿过磁体和涂层中的片之间的间隔,所述的磁力是由在磁体和涂层之间产生的扩散磁场所产生的。使用扩散磁场使涂层避免直接暴露于磁体的磁场中,消除了图案中的不希望的背景效果,因此改进了图案的清晰度。可磁化型模降低了图案的“背景效果”,即与将涂层直接暴露于磁体的磁场中相比具有更大的清晰度。背景效果意指磁力对位于所需图案边缘外侧的片施加作用,从而使这样的背景片移出平面构型。这些背景效果产生不希望的模糊或者增加图案边缘的暗度。另一种不希望的背景效果是在涂层内形成的图案中再现磁体的形状。因此,根据本专利技术,图案的形状是清晰的并且不依赖于磁体的形状,并且可以是线状的,而不是如‘038专利中的磁力源的粗的印记。可将可磁化材料作为图案的型模。在另一个实施方案中,型模是一种片状金属结构,例如,形成环形,具有作为型模的片状金属形状(类似“餐刀”)的“刃”边缘。在另一个实施方案中,型模是一个或者多个杆。片状金属型模的边缘在涂层中形成了相应于型模边缘形状的线状图案本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有烘烤的氟聚合物不沾涂层的基底,所述的涂层包括可磁化片,部分所述的片在所述基底的平面内定向,而部分所述的片被磁化再定向以在所述涂层中形成在反射光中可观察到的图案,所述的片具有大于所述涂层厚度的最长尺寸。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:K巴特扎JH哈米尔顿AC赫泽TJ勒克CM雷
申请(专利权)人:纳幕尔杜邦公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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