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一种三维书法碑刻或牌匾自动生成方法技术

技术编号:7760003 阅读:366 留言:1更新日期:2012-09-14 03:05
本发明专利技术公开的三维书法碑刻或牌匾自动生成方法,步骤依次包括:用户交互输入书法碑刻或牌匾的拓片或者照片、生成三维书法碑刻或牌匾的模型类型及碑刻或牌匾雕刻模式:阴刻、阳刻或阴阳刻;对输入的碑刻或牌匾的拓片或者照片进行轮廓检测;对检测结果进行二维欧氏距离变换,生成距离场,作为文字表面初始高度估计;根据雕刻方式调制碑刻或牌匾的距离场,再进行高斯模糊,得到文字表面高度估计,并生成刻字表面高度估计和细节高度估计,叠加刻字表面高度估计和细节高度估计得到三维书法碑刻或牌匾的模型高度估计并输出。用该方法可以高效快速地生成高质量的三维书法碑刻或牌匾效果,它可以用于传统文化遗产的数字化保护、现代碑刻、牌匾的计算机辅助设计。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及三维书法碑刻或牌匾的自动生成方法。
技术介绍
书法是文字书写的一种法则,按照文字特点及其涵义,以相应书体笔法、结构和章法写字,使之成为富有美感的艺术作品,成为一种深厚的中国传统文化艺术,它不仅是中华民族的文化瑰宝,而且在世界文化艺术宝库中独放异彩。碑刻,则是书法与雕刻相结合的产物。它把书法文字雕刻在石头上,从而可以比纸张更加长久地保存书法作品,也可以在露天环境里置放。典型的例子包括房山石经,西安碑林以及众多的碑铭志等。但由于介质和工具的改变,碑刻在力图保持书法文字艺术特征的同时,也糅合了雕刻艺术特征,即把笔画刻成有深度变化的,向内凹的立体线条(称阴刻),从而形成一种新的艺术形式。与碑刻非常类似的牌匾,除了采用碑刻里的阴刻外,还可以采用把文字笔画刻成凸起的阳刻以及文字剖面呈W状的阴阳刻法,从而形成更加复杂的立体文字表面,因而具有极高的审美价值,广泛地应用于宫殿、牌坊、寺庙、商号、民宅等建筑的显赫位置,向人们传达皇权、文化、人物、信仰、商业等信息。碑刻受到潮湿、风化、灰尘以及石材本身质地等因素影响,在碑刻表面造成剥落以及文字模糊。此外在强外力作用下碑刻还可能发生纹裂以及严重损毁。我国在古代就用宣纸在碑刻上拓印,一方面可以增加保存书法作品的媒介种类,另一方面拓印在古代也起到类似印刷的作用,可对同一件碑刻作品多次拓印得到多份拓片,然后携带到其它地方供更多人欣赏。但拓片只记录了碑刻的书法文字形状,碑刻上文字因雕刻留下的深度信息则丧失掉。如果能用拓片图像生成其碑刻效果,不仅可以清晰地再现碑刻上的文字信息,同时又能克服拓片的缺点,表现出碑刻文字的深度变化。生成的虚拟3D碑刻模型可以直接用在数字图书馆,数字博物馆等,对传统文化保护有重要意义。对于牌匾,如果通过书写在纸张上的文字信息自动生成牌匾文字的深度图,包括阴刻,阳刻以及阴阳刻的多种效果供用户选择,然后用数字雕刻机加工牌匾。与手工雕刻牌匾相比可大大提高牌匾制作效率,降低制作成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供三维书法碑刻或牌匾自动生成方法,通过该方面用户只需要输入单张书法作品的拓片或者照片,以及选择生成类型和指定少量参数就可以快速的自动生成接近实物、高质量的三维碑刻或牌匾模型。为了实现上述目的,本专利技术的三维书法碑刻或牌匾自动生成方法,包括以下步骤I)用户交互输入书法碑刻或牌匾的拓片或者照片;2)输入生成三维书法碑刻或牌匾的模型类型;3)输入碑刻或牌匾雕刻模式阴刻、阳刻或阴阳刻;4)对输入的碑刻或牌匾的拓片或者照片进行轮廓检测,步骤如下使用基于局部区域尺度可变的活动轮廓模型对输入的拓片或者照片I进行轮廓检测,将图像分割成K-I个不连续的笔画区域SRi和背景区域BR,其中笔画区域由单个孤立笔画或者有交叉的多个笔画组成,I表示成权利要求1.,包括以下步骤 1)用户交互输入书法碑刻或牌匾的拓片或者照片; 2)输入生成三维书法碑刻或牌匾的模型类型; 3)输入碑刻或牌匾雕刻模式阴刻、阳刻或阴阳刻; 4)对输入的碑刻或牌匾的拓片或者照片进行轮廓检测,步骤如下 使用基于局部区域尺度可变的活动轮廓模型对输入的拓片或者照片I进行轮廓检测,将图像分割成K-I个不连续的笔画区域SRi和背景区域BR,其中笔画区域由单个孤立笔画或者有交叉的多个笔画组成,I表示成全文摘要本专利技术公开的三维书法碑刻或牌匾自动生成方法,步骤依次包括用户交互输入书法碑刻或牌匾的拓片或者照片、生成三维书法碑刻或牌匾的模型类型及碑刻或牌匾雕刻模式阴刻、阳刻或阴阳刻;对输入的碑刻或牌匾的拓片或者照片进行轮廓检测;对检测结果进行二维欧氏距离变换,生成距离场,作为文字表面初始高度估计;根据雕刻方式调制碑刻或牌匾的距离场,再进行高斯模糊,得到文字表面高度估计,并生成刻字表面高度估计和细节高度估计,叠加刻字表面高度估计和细节高度估计得到三维书法碑刻或牌匾的模型高度估计并输出。用该方法可以高效快速地生成高质量的三维书法碑刻或牌匾效果,它可以用于传统文化遗产的数字化保护、现代碑刻、牌匾的计算机辅助设计。文档编号G06T19/00GK102663828SQ20121006505公开日2012年9月12日 申请日期2012年3月13日 优先权日2012年3月13日专利技术者于金辉, 张婷 申请人:浙江大学本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:于金辉张婷
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有1条评论
  • 来自[天津市电信IDC机房] 2015年03月09日 22:47
    碑刻在词义上可以理解为——刻在碑上的文字或图画。一般理解为用书法体刻在碑石上的书法。
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