使用微波辐射用于处理流体的设备制造技术

一种使用微波辐射用于处理流体流的设备，所述设备包含：具有侧壁和限定大体上为圆柱形的室的相反的第一和第二端壁的容器，所述第一端壁设置为相隔第二端壁一预定的距离d1；用于使流体流动通过的管线，所述管线通过第一端壁朝向容器的第二端壁，所述室和所述管线大体上共轴，并且所述管线大体上可穿透微波辐射；和在容器的侧壁中的微波辐射入口，用于允许波长λ的微波辐射进入室，其中所述距离d1大体上等于λ/2的整数倍，因此所述室为微波共振器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于处理流体、浆料、半固体和悬浮液的微波设备和方法。所述处理包括例如加热、熔融、灭菌、巴氏杀菌、蒸煮、刺激化学反应和分馏。
技术介绍
使用微波辐射用于处理、灭菌和巴氏杀菌流体的设备和方法为已知的。典型地，这些涉及难以制造和构造并且昂贵的复杂的元件，通常需要波导管和辐射能量的高能源，如在RU2087084中举例说明的。
技术实现思路
根据本专利技术的一方面，提供了一种使用微波辐射用于处理流体流的设备，所述设备包含具有侧壁和限定大体上圆柱形室的相反的第一和第二端壁的容器，所述第一端壁设置为相隔第二端壁一预定的距离Cl1 ;用于使流体流动通过的管线，所述管线通过第一端壁朝向容器的第二端壁，所述室和所述管线大体上共轴，并且所述管线大体上可穿透微波辐射；和在容器的侧壁中的微波辐射入口，用于允许波长λ的微波辐射进入室，其中所述距离Cl1大体上等于λ /2的整数倍，因此所述室为微波共振器。本专利技术的设备提供了一种将微波辐射能量从微波辐射源转移至待处理的流体的高度有效的装置。术语“处理”、“处理”、“使用微波辐射处理”及其相关形式可包括热处理、非热处理，并且包括蒸煮、巴氏杀菌、灭菌本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种使用微波辐射用于处理流体流的设备，所述设备包含 具有侧壁和限定大体上圆柱形室的相反的第一和第二端壁的容器，所述第一端壁被设置为与第二端壁相隔预定的距离Cl1 ； 用于使流体流动通过的管线，所述管线通过第一端壁朝向容器的第二端壁，所述室和所述管线大体上共轴，并且所述管线大体上可穿透微波辐射；和 在容器的侧壁中的微波辐射入口，用于允许波长λ的微波辐射进入室，其中所述距离dl大体上等于λ /2的整数倍，因此所述室为微波共振器。2.根据权利要求I所述的设备，其中Cl1为λ/2的1-3倍。3.根据权利要求2所述的设备，其中Cl1为λ/2的I或2倍。4.根据权利要求3所述的设备，其中Cl1大体上等于λ。5.前述权利要求中任一项所述的设备，其中d2为O.6 λ -2 λ。6.根据权利要求5所述的设备，其中d2为Iλ -2 λ。7.前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述容器室壁由导电材料制成或涂有导电材料。8.前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备包含微波辐射源。9.根据权利要求8所述的设备，其中所述微波源具有频率为2.3-2. 7GHz的输出。10.前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述微波辐射入口相对于室(Cl1)的纵向范围偏离中心。11.根据权利要求10所述的设备，其中所述微波辐射入口所处位置是在该位置沿着中心纵轴的微波能量水平是最大能量水平的30-60%，有利地为40-50%。12.根据权利要求10或权利要求11所述的设备，其中当Cl1约等于λ时，则微波辐射入口位置选自从上游端壁到下游端壁Cl1的10-15%、30-35%、55-60%或75-80%。13.前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备包含用于防止微波能量反射进入源的装置。14.前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述管线大体上是水平的。15.根据权利要求1-13中任一项所述的设备，...

【专利技术属性】
技术研发人员：尤里·弗拉基米洛维奇·扎第莱卡，谢尔盖·伊万诺维奇·格里斯尼恩，玛米孔·阿拉莫维奇·米萨坎，伊戈尔·安东诺维奇·克斯尔，爱德华·米凯洛维奇·巴库达若，
申请(专利权)人：安胜达微波科技有限公司，
类型：发明
国别省市：