一种用于受镀环熔射时的遮护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种用于受镀环熔射时的遮护装置，所述受镀环包括环形本体，该环形本体的内壁为三级台阶状，从上至下分别为：第一台阶、第二台阶和第三台阶，所述遮护装置包括一圆盘状的遮护盘体，所述遮护盘体的外侧壁上设有一与所述受镀环第三台阶相匹配的台阶。本实用新型专利技术不会发生在熔射过程中胶带被吹开的状况；作业时间明显降低，可大幅增加作业人员作业效率，生产效率连带增加；大幅降低在使用时电弧效应产生的可能，对于生产设备的稳定度维持，有明显的帮助；保护材质为陶瓷较脆弱的受镀环，降低熔射过程中的高温、高压外部作用力对受镀环所造成的损坏。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于受镀环熔射时的遮护装置。
技术介绍
受镀环为薄膜制程设备的关键核心零件之一。生产过程中对于微尘粒子的控制十分严格，因此受镀环在使用前，除了需要高质量的洗净外，还要采用熔射的方式，覆盖一层铝熔射层，用于加强控制微尘粒子的方式。如图1所示，受镀环包括环形本体1，该环形本体1的内壁为三级台阶状，从上至下分别为第一台阶11、第二台阶12和第三台阶13。受镀环并不需要进行全面性的铝熔射，为防止在熔射过程中熔射到不应该熔射的部分，造成无谓的重复作业产生，要对不需要的区域进行遮护作业。传统的遮护作业方式是采用熔射胶带进行，将熔射胶带贴附于受镀环不需要熔射的区域，作为隔绝的方式。熔射胶带有低黏性、耐冲击、耐高温的特点，适合用于熔射这项作业，但这种方式有以下缺点1.由于胶带为低黏性，会发生在熔射过程中胶带被吹开的状况，造成遮护效果丧失不需熔射部分被污染，产生重复作业。2.进行胶带遮护作业皆采人工进行，由于受镀环内部结构复杂，人工进行遮护作业需耗费大量时间，无法于短时间中大量的进行作业，人力使用效率偏低。3.熔射胶带虽然为低黏性，当胶带去除时还是会有残胶的产生，若后续去除作业未确实，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张耀仁，
申请(专利权)人：上海科秉电子科技有限公司，科治新技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：