反光薄膜制造技术

技术编号:7499961 阅读:249 留言:0更新日期:2012-07-11 00:36
本发明专利技术公开了一种反光薄膜,包括高分子材料本体(110),所述的反光薄膜还包括涂层结构(140),所述的涂层结构(140)涂敷在高分子材料本体(110)的一个面上。本发明专利技术优化了反光薄膜的结构,并通过在反光薄膜上涂敷涂层以及材料组份的改进,简化了加工工艺,降低了成本,并具有优异的耐候性,满足长期户外使用要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种反光材料,具体涉及一种反光薄膜
技术介绍
反光材料广泛应用于标志、标牌等产品,且随着人们安全意识的增强,在保证人身安全的劳动防护用品及其他民用产品上的用量在逐步扩大。反光薄膜作为反光材料中的一种,多用于交通标志上。交通标志大多用在户外且数量巨大,这要求反光薄膜有较高的综合性能,且主要集中在高的耐候性和加工性上。现有的应用于交通标志上的反光薄膜多为用贴合方式生产的多层薄膜,贴合方式生产的反光薄膜包括基板、胶黏剂层和聚甲基丙烯酸甲酯薄膜层,是用胶黏剂粘结贴合耐候性较好的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜来保护聚碳酸酯基板。但是,贴合保护用的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜必须预先单独制备得出,且用于制备聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的树脂基料必须进行必要的增韧改性,否则会由于未改性的聚甲基丙烯酸甲酯脆性大、敏感性高等原因,使反光薄膜无法达到制造和使用要求。由于需要预先制备出聚甲基丙烯酸甲酯薄膜并进行增韧改性,所以这种薄膜的成本非常高,而且须用胶黏剂进行粘结贴合,进一步增加了加工工艺的难度及反光薄膜的成本。
技术实现思路
本专利技术提供了一种反光薄膜,解决了现有技术制造反光薄膜成本高、加工工艺复杂的问题。为解决上述的技术问题,本专利技术采用以下技术方案一种反光薄膜,包括高分子材料本体,所述的反光薄膜还包括涂层结构,所述的涂层结构涂敷在高分子材料本体的一个面上。进一步的技术方案是,上述反光薄膜的高分子材料本体与涂层结构之间还设有复合薄膜层一。进一步的技术方案是,上述高分子材料本体在与设置有复合薄膜层一的面相对的面上还设有复合薄膜层二。进一步的技术方案是,上述的复合薄膜层二上还涂敷有涂层结构。进一步的技术方案是,上述的涂层结构为聚甲基丙烯酸甲酯涂敷层,所述涂层结构的厚度为5微米至500微米。进一步的技术方案是,上述高分子材料本体由以下成分构成质量比为89%至 94%的工程塑料,质量比为0.05%至4%的抗紫外吸收剂,质量比为0. 05%至的抗氧齐U,质量比为至6%的抗静电剂。其中,所述的工程塑料为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种,所述的抗紫外吸收剂为2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2-羟基-3. 5- 二枯基苯基)苯并三氮唑、 2-(2-羟基-5-特辛基苯基)苯并三氮唑中的至少一种,所述的抗氧剂为双(2. 4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、2. 2-草酰胺基-双丙酸酯、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)中的至少一种,所述的抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐。进一步的技术方案是,上述复合薄膜层一和复合薄膜层二由以下成分构成质量比为90%至95%的工程塑料,质量比为0. 05%至3%的抗紫外吸收剂,质量比为0. 05%至的抗氧剂,质量比为至6%的抗静电剂。其中,所述的工程塑料为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种,所述的抗紫外吸收剂为2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2-羟基-3. 5- 二枯基苯基)苯并三氮唑、 2-(2-羟基-5-特辛基苯基)苯并三氮唑中的至少一种,所述的抗氧剂为双(2. 4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、2. 2-草酰胺基-双丙酸酯、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)中的至少一种,所述的抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐。进一步的技术方案是,上述高分子材料本体、复合薄膜层一和复合薄膜层二的折射率为1.;35至1.9。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是本专利技术优化了反光薄膜的结构,并通过在反光薄膜上涂敷涂层以及材料组份的改进,简化了加工工艺,降低了成本,并具有优异的耐候性,满足长期户外使用要求。本专利技术中增加的抗紫外吸收剂可显著提高薄膜性能,防止其开裂、起泡、粉化、脱落和变色,可抗250至400nm的紫外光照;抗氧剂使得混合材料抗氧化能力增强,提高了本公路交通标志反光薄膜的使用寿命;抗静电剂使得材料表面电阻降至 10~9至10~13欧姆量级。在实际使用的本专利技术与传统贴合反光薄膜的加工工艺及经济性对比反光薄膜组加工工艺对比经济性对比成涂敷涂层结仅需涂覆聚甲基丙烯酸甲成本仅为传统方式构反光薄膜酯保护涂层的60% 70%---贴合结构反首先需对聚甲基丙烯酸甲成本高昂光薄膜酯树脂进行增韧改性,再利用其制备出薄膜,最终通过胶黏剂粘结贴合作为保护薄膜层从以上结果可以看出本专利技术可以为反光薄膜带来更简化的加工工艺和更好的经济性。附图说明图1为本专利技术反光薄膜第一实施例的剖面结构示意图2为本专利技术反光薄膜第二实施例的剖面结构示意图;图3为本专利技术反光薄膜第三实施例的剖面结构示意图;图4为本专利技术反光薄膜第四实施例的剖面结构示意图。图中,110-高分子材料本体、120-复合薄膜层二、130-复合薄膜层一、140-涂层结构。具体实施例方式下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明,但本专利技术的实施方式不限于此。实施例一如图1所示的反光薄膜,包括一个高分子材料本体110,高分子材料本体110的上表面涂敷有5微米厚的聚甲基丙烯酸甲酯的涂层结构140,高分子材料本体110的折射率为 1. 7。高分子材料本体110由94%的工程塑料、0. 05 %的抗紫外吸收剂、0. 05%的抗氧剂、5. 9%的抗静电剂经常规混合制成。其中工程塑料为聚碳酸酯,抗紫外吸收剂为2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮,抗氧剂为双(2. 4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯,抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐。涂层结构140覆盖于反光薄膜的整个上表面,能起到很好的保护作用,显著提高反光薄膜的户外耐候性;通过涂敷方式简化了材料的加工工艺,提高了可加工性,降低了材料的成本。实施例二如图2所示的反光薄膜,包括一个高分子材料本体110,高分子材料本体110的上表面共挤有复合薄膜层一 130,复合薄膜层一 130的上表面涂敷有10微米厚的聚甲基丙烯酸甲酯的涂层结构140,其中高分子材料本体110和复合薄膜层一 130的折射率为1. 35。高分子材料本体110由94%的工程塑料、4%的抗紫外吸收剂、的抗氧剂、 的抗静电剂经常规混合制成。复合薄膜层一 130由95%的工程塑料、3%的抗紫外吸收剂、的抗氧剂、的抗静电剂经常规混合制成。其中高分子材料本体110和复合薄膜层一 130所述的成分中工程塑料为聚甲基丙烯酸甲酯,抗紫外吸收剂为2- (2-羟基-3. 5- 二枯基苯基)苯并三氮唑,抗氧剂为2. 2-草酰胺基-双丙酸酯,抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐。实施例三如图3所示的反光薄膜,包括一个高分子材料本体110,高分子材料本体110的上表面共挤有复合薄膜层一 130,高分子材料本体110的下表面共挤有复合薄膜层二 120,复合薄膜层一 130的上表面涂敷有500微米厚聚甲基丙烯酸甲酯的涂层结构140,其中高分子材料本体110、复合薄膜层一 130和复合薄膜层二 120的折射率为1. 9。高分子材料本体110由89%的工程塑料、4%的抗紫外吸收剂、的抗氧剂、 6%的抗静电剂经常规混合制成。其中工程塑料为聚碳酸酯,抗紫外吸收剂为2-(2-羟基-3. 5- 二枯基苯基)苯并三氮唑,抗氧剂为2. 2-草酰胺基-双丙酸酯,抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐。复合薄膜层一 130和复合薄膜层二 120由90%的工程塑料、3%的抗紫外吸收剂、 1 %的抗氧剂、6 %的抗静电剂经常规混合制成。其中工程塑料为聚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刁锐敏
申请(专利权)人:绵阳龙华薄膜有限公司
类型:发明
国别省市:

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