一种基于大尺寸石墨烯的饱和吸收镜的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种基于大尺寸石墨烯的饱和吸收镜的制备方法，在Cu箔上制备单层石墨烯膜，在石墨烯膜上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯PMMA，热烘后放入FeCl3溶液中室温浸泡，清洗，然后将石墨烯膜及其上的PMMA迁移到激光高反镜，用气枪弱气流吹至激光高反镜的表面。本发明专利技术方法简单、高效、抗损伤阈值高、面积大，所制备的可饱和吸收镜中的石墨烯能够保持完整的化学结构，石墨烯的尺寸在厘米量级。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种饱和吸收镜的制备方法，特别涉及，属于超短脉冲固体激光可饱和吸收镜制备

技术介绍
超短脉冲激光的特性导致它具有广泛的用途和巨大的市场。而要获得应用如此广泛的超短脉冲激光，一般通过锁模技术来实现。由于被动锁模技术能产生皮秒乃至飞秒量级的超短脉冲且其系统结构简单而备受青睐。被动锁模是利用材料的非线性吸收或非线性相变的特性来产生激光超短脉冲，常见的商用非线性材料有半导体饱和吸收体(SESAM) 等。但是，半导体饱和吸收体被动锁模技术存在很多缺点制作半导体饱和吸收体需要相对复杂和昂贵的超净间制造系统，这类器件的典型恢复时间大约几个纳秒(I(T9S)。此外，半导体饱和吸收体的光损伤阈值很低，需要特殊设计。石墨烯(graphene)是2004年英国曼彻斯特大学A. Geim研究组用剥离的方法首先发现的一种sp2杂化碳结构基元的同素异形体，是由单层碳原子紧密堆积成二维蜂窝状晶格结构的单晶功能材料。人们在研究它在微纳电子元件中的应用的同时，还发现了单层石墨烯饱和吸收特性。相对于传统的SESAM饱和吸收材料，石墨烯无需能带工程设计与复杂的外延法生长，制作成本很低；而且它具有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜守振，许士才，满宝元，刘杰，杨诚，范秀伟，刘玫，
申请(专利权)人：山东师范大学，
类型：发明
国别省市：