一种具有优良的耐热性的金属络合物，其包含具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体以及铜(I)离子或银(I)离子，例如为组成式(8)所表示的金属络合物，(式中，M+为铜(I)离子或银(I)离子，L为配位体，X为抗衡离子。p为正数，q和r分别独立地为0以上的数。R表示氢原子、卤原子、氰基、硝基、羧基、氨基、酰基氨基、甲硅烷基、羟基、酰基、烃基、烃氧基、烃硫基或杂环基。氨基、甲硅烷基、烃基、烃氧基和烃硫基可以具有取代基)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有含氮原子的芳香环配位体的金属络合物。
技术介绍
作为有机电场发光元件中使用的发光材料，正在进行利用来自三重激发态的发光的发光材料的开发。作为利用来自三重激发态的发光的发光材料，提出了使吡啶与卤化铜(I)结合而得的金属络合物(K. R.Kyle et al.，Journal of the American Chemical Society 113,2954-2965(1991)) ο然而，该金属络合物的耐热性不充分。
技术实现思路
本专利技术提供一种具有优良的耐热性的金属络合物。本专利技术的金属络合物含有具有树枝状分子链的含氮原子的芳香环配位体、以及铜⑴离子或银⑴离子。另外，本专利技术提供该金属络合物在发光元件中的用途。进而，本专利技术提供在该金属络合物中使用的具有树枝状分子链的含氮原子的芳香环配位体。在本专利技术的金属络合物中，含氮原子的芳香环配位体和铜(I)离子或银(I)离子之间通常通过配位键结合，但是也可以通过离子键、氢键、^I-JI相互作用、范德华力来结I=I O所谓树枝状分子链(branched molecular structure)，是指对称或非对称地树枝状分支化的结构，包括树状(dendron)结构和超支化(hyperbranch)结构。这里，树状结构是支化结构为规则的结构，超支化结构为支化结构不规则的的结构。从电荷的传输性的观点出发，树枝状分子链优选具有共轭体系。树枝状分子链中的总共价键中，优选以个数基准计，30 100%的共价键是共轭的。更优选50 100%的共价键为共轭，进一步优选65 100%的共价键为共轭。树枝状分子链由分支部和末端部构成，从化学稳定性的观点出发，优选分支部为具有芳香环的基团，在其上结合有具有芳香环的末端部，更优选分支部为具有芳香环的3 价的基团，在其上结合有具有芳香环的末端部。分支部的芳香环和在其上结合的末端部的芳香环的例子，可举出可以具有取代基的由以下的式(A-I) (A-32)所表示的环，优选为式(A-I) (A-7)所表示的环，更优选式(A-I)所表示的环。权利要求1.一种金属络合物，其包含具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体、以及铜(I)离子或银⑴离子。2.如权利要求1所述的金属络合物，所述树枝状分子链具有共轭体系。3.如权利要求2所述的金属络合物，其中，树枝状分子链中的分支部是具有芳香环的3 价的基团，且在该分支部上结合有具有芳香环的末端部。4.如权利要求3所述的金属络合物，其通过分支部为式(1)所表示的3价的基团，且在其上结合有式( 所表示的末端部来形成含氮芳香环配位体，5.如权利要求4所述的金属络合物，其中Ar1和Ar2为直接键合。6.如权利要求1所述的金属络合物，具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体为式(3) 所表示的配位体，7.如权利要求1所述的金属络合物，其中，具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体为式(100)所表示的配位体，8.如权利要求1所述的金属络合物，其中，具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体为式⑷或式(5)所表示的配位体，9.如权利要求1所述的金属络合物，其为下述组成式(6)所表示的物质，10.如权利要求1所述的金属络合物，其为下述组成式(8)所表示的物质，11.如权利要求1所述的金属络合物，其为下述组成式(9)或下述式(10)或下述式 (11)所表示的物质，12.如权利要求1所述的金属络合物，其为组成式(12)所表示的物质，13.如权利要求1所述的金属络合物，其为组成式(13)所表示的物质，14.如权利要求3所述的金属络合物，分支部为式(a-Ι)至(a-16)所表示的基团，末端部为式(b_l)至(b_32)所表示的基15.一种权利要求1所述的金属络合物在发光元件中的用途。16.一种下述式(14)或(1 5)所表示的化合物，17. 一种式(16)所表示的化合物，全文摘要一种具有优良的耐热性的金属络合物，其包含具有树枝状分子链的含氮芳香环配位体以及铜(I)离子或银(I)离子，例如为组成式(8)所表示的金属络合物，(式中，M+为铜(I)离子或银(I)离子，L为配位体，X为抗衡离子。p为正数，q和r分别独立地为0以上的数。R表示氢原子、卤原子、氰基、硝基、羧基、氨基、酰基氨基、甲硅烷基、羟基、酰基、烃基、烃氧基、烃硫基或杂环基。氨基、甲硅烷基、烃基、烃氧基和烃硫基可以具有取代基)。文档编号C07F1/10GK102414178SQ20108001769公开日2012年4月11日 申请日期2010年4月19日 优先权日2009年4月23日专利技术者东村秀之, 仓持悠辅, 小林宪史 申请人:住友化学株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：仓持悠辅，小林宪史，东村秀之，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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