【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于例如作为在进行半导体及液晶基板、彩色滤光片等的制造工序的曝光处理时的曝光用光源、或者作为投影机装置的光源所使用的光源装置。
技术介绍
例如，作为在进行半导体及液晶基板、彩色滤光片等的制造工序的曝光处理时所使用的曝光用光源，公知具有如图4所示的紫外线波长区域的多个LED元件多个被配置成面状而构成的LED发光部80，将从该LED发光部80放射的放射光，通过适当的聚光光学系统来加以聚光，并射出至曝光面S的构造的光源装置(例如参照专利文献1)。在图4中， 符号81是椭圆面反射镜，82是球面透镜，83是圆锥反射镜，84是透光杆，85是聚光透镜，86 是中继透镜。然而，在此种构造的光源装置中，因为仅可射出以LED元件的峰值波长为中心的波长范围比较狭窄的单色光线，故例如有无法作为需要与感光树脂的各感光强度对应的波长光，用以进行彩色滤光片等的制造工序的曝光处理的曝光用光源所利用的问题。并且，有在从LED元件放射的光线通过聚光光学系统聚光的过程中，产生各种损耗而使光线的利用效率降低，无法获得充分高亮度的光线的问题。另一方面，提案有将从具有可视区域的波长范围中被选择...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
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