位置及深度的检出装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种位置及深度的检出装置。此检出装置用以检出具有一表面的待测物的位置及深度，包括一电控摆动元件、一光源、一光学系统、一储存单元及一计算单元。该电控摆动元件系经由以电气驱动的一致动器控制此电控摆动元件的摆动角度。该光源系藉由此电控摆动元件将该光源的光束反射至此表面以产生光点。该光学系统用以接收投射至此表面的光点的投射信息。该储存单元用以储存投射至一预设平面的光点的预设信息。该计算单元系依据此投射信息与此预设信息计算出待测物的深度信息。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术系有关于一种位置及深度的检出装置法，特别是有关于一种光学式位置及深度的检出装置。
技术介绍
现今量测一物体表面的曲率的方式有许多种，举例来说，有投射迭纹法、干涉法、 像差法以及激光扫描三角定位法；其中迭纹量测技术一般采用穿透式或斜向反射式以形成迭纹，虽具有低成本、系统架构简单与稳定性高的优点，但穿透式量测架构只适用于透明物体表面曲率的量测，并无法运用至不具透光性的物体表面的曲率量测。而斜向反射式则存在理论计算复杂的缺点，并且受限于反射影像的强度较弱，因此影像对比度差而将导致表面曲率的误差值提高。此外，干涉法、像差法以及激光扫描三角定位法，其不仅理论计算复杂，且其量测系统及装置更是相当复杂且昂贵，因此具有高成本的缺点。因此，如何设计出简单的架构，其可量测物体的表面深浅变化，实为目前研究发展的一重要方向。
技术实现思路
本技术系有关于一种位置及深度的检出装置，其具有简易的组成构件，不需要复杂的检测方式即可检测出待测物的位置及深度信息。根据本技术的一方面，提出一种位置及深度的检出装置，用以检出具有一表面的待测物的位置及深度，此位置及深度的检出装置至少包括一电控摆动元件、一光源、一光学系统、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄澄仪，曾德生，许文鸿，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：