新型的铜酞菁颜料及铜酞菁微粒的制造方法技术

本发明专利技术提供含有以下的铜酞菁的铜酞菁颜料及铜酞菁微粒的制造方法：是结晶型为α型的铜酞菁、且在特定的条件下与ε型铜酞菁相比特性优异。含有以下的铜酞菁而成的铜酞菁颜料：是结晶型为α型的铜酞菁、且在３８０ｎｍ～７８０ｎｍ中的透射光谱的透射率达到最大的波长（λｍａｘ）小于４７８ｎｍ。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新型的铜酞菁颜料。
技术介绍
铜酞菁颜料，含有具有以α、β、γ、ε为代表的结晶型的铜酞菁(下述化学式) 而成，它们的结晶型，一般而言，通过粉末X射线衍射而得到确定。由于每种结晶型的耐热性、耐水性、耐溶剂性、耐光性等的坚牢性，透射光谱、吸收光谱等的光学特性，以及外观的式色等的物性不同，因此根据喷墨用油墨、滤色器、油墨(胶版印刷油墨、丝网印刷油墨、UV 油墨、苯胺印刷油墨等)、涂料、以及室外用途或室内用途等、其使用方法、用途，分开使用含有不同结晶型的铜酞菁的铜酞菁颜料。例如在滤色器中，由于其透射特性，使用含有ε型的结晶型的铜酞菁的铜酞菁颜料，通过以下方法来制造ε型的铜酞菁将通过酸糊法得到的α型的铜酞菁进行溶剂处理而得到ε型的铜酞菁的方法(专利文献1)、或者将铜酞菁颜料用含有盐的溶剂进行处理而使其变化为ε型的方法(专利文献幻等。但是，无论上述哪种方法，为了使结晶型变化， 存在工序多、需要很大的能量等问题。因而，如果能制造虽然结晶型为α型但具有ε型以上的特性的铜酞菁，则可以改善上述问题。另外，特别是为了用于蓝色滤色器的铜酞菁颜料，期待透射率达到最大的波长 (λ max)小于478nm的铜酞菁。并且除上述之外，期待结晶型为α型、但在波长400nm 450nm中的透射光谱的透射率在上述整个波长范围大于ε型铜酞菁的铜酞菁。现有技术文献专利文献专利文献1 特开2005-306841号公报专利文献2 特开2007-332317号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题鉴于上述，本专利技术以提供以下的铜酞菁颜料以及铜酞菁微粒的制造方法作为课题，所述铜酞菁是结晶型为α型的铜酞菁、并且在380nm 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长(λ max)小于478nm。进而，以提供含有以下的铜酞菁的铜酞菁颜料及铜酞菁微粒的制造方法为课题， 所述铜酞菁是结晶型为α型的铜酞菁、且在380nm 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长Umax)小于478nm、透射光谱在波长400nm 450nm中的透射光谱的透射率在上述400nm 450nm的整个波长范围大于ε型的铜酞菁。用于解决课题的手段本申请的权利要求1涉及的专利技术，为由含有以下的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，所述铜酞菁的结晶型为α型、且在380nm 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长 (λ max)小于 478nm。本申请的权利要求2涉及的专利技术，为含有以下的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，所述铜酞菁的结晶型为α型、且在380nm 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长 (入max)小于478nm、而且波长400nm 450nm中的透射光谱的透射率在上述400nm 450nm 整个波长范围大于结晶型为ε型的铜酞菁。本申请的权利要求3涉及的专利技术，为含有权利要求1或2所述的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，其特征在于，向可接近·分离且相对地位移的处理用面之间供给被处理流动体， 通过包含该流体的供给压力及施加于旋转的处理用面之间的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力平衡，将处理用面间的距离维持为微小间隔，通过将维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，被处理流动体形成薄膜流体，在该薄膜流体中作为微粒而生成。本申请的权利要求4涉及的专利技术，为由含有权利要求1至3中任一项所述的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，其特征在于，铜酞菁微粒的形状为大致球状。本申请的权利要求5涉及的专利技术，为含有权利要求4所述的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，其特征在于，铜酞菁微粒的体积平均粒径为Inm 600nm。本申请的权利要求6涉及的专利技术，为铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，向可接近·分离且相对地位移的处理用面之间供给被处理流动体，通过包含该流体的供给压力及施加于旋转的处理用面之间的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力平衡，将处理用面间的距离维持为微小间隔，通过将维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，被处理流动体形成薄膜流体，在该薄膜流体中进行微粒的析出。本申请的权利要求7涉及的专利技术，为权利要求6所述的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，具备对被处理流动体赋予压力的流体压力赋予机构、第1处理用部及相对于该第1处理用部相对地接近·分离的第2处理用部的至少2个处理用部、及使上述第1处理用部和第2处理用部相对旋转的旋转驱动机构；在上述各处理用部中相互对向的位置设有第1处理用面及第2处理用面的至少2个处理用，上述的各处理用面构成上述压力的被处理流动体流过的、被密封了的流路的一部分，在上述第1处理用部和第2处理用部中，至少第2处理用部具备受压面，而且，该受压面的至少一部分通过上述的第2处理用面构成，该受压面受到上述的流体压力赋予机构对被处理流动体赋予的压力而产生使第2处理用面从第1处理用面分离的方向移动的力，通过在可接近·分离且相对地旋转的第1处理用面和第2处理用面之间使上述压力的被处理流动提通过，上述被处理流动体形成上述薄膜流体，在该薄膜流体中进行微粒的析出。本申请专利的权利要求8所涉及的专利技术为权利要求7所述的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，被上述的流体压力赋予机构赋予了压力的一种被处理流动体在上述第1 处理用面和第2处理用面之间通过，具有不同于上述一种被处理流动体的另一种被处理流动体通过的独立的另外的导入路，与该导入路相通的至少一个开口部设于上述第1处理用面和第2处理用面的至少任一者，从该导入路将上述的另一种被处理流动体导入上述两处理用面间，在上述的薄膜流体中混合上述一种被处理流动体和另一种被处理流动体。专利技术的效果本专利技术可提供含有以下的铜酞菁的铜酞菁颜料，所述铜酞菁是在粉末X射线衍射测定中结晶型为α型的铜酞菁，在380nm 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长 (Amax)小于478nm。由于结晶型为α型，因此可以省去为了改变结晶型的工序、需要很大能量的工程，可以改善上述所列举的以往的问题。并且特别是，在权利要求2涉及的专利技术中，除上述之外，还可提供含有以下的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，所述铜酞菁在波长400nm 450nm中的透射光谱的透射率，在上述整个波长范围大于结晶型为ε型的铜酞菁。即，虽然是结晶型为α型的铜酞菁、但与ε型铜酞菁相比在上述条件下特性优异。附图说明图1 (A)是表示用于本申请专利技术的实施的装置的概念的简略纵剖面图，(B)是表示上述装置的其他实施方式的概念的简略纵剖面图，(C)是表示上述装置的另外其它实施方式的概念的简略纵剖面图，(D)是表示上述装置的进一步其他实施方式的概念的简略纵剖面图。图2㈧ ⑶分别是表示图1所示装置的进一步其它实施方式的概念的简略纵剖面图。图3㈧是图2(C)所示装置的主要部分的简略仰视图，⑶是上述装置的其他实施方式的主要部分的简略仰视图，(C)是另外其它实施方式的主要部分的简略仰视图，(D) 是表示上述装置的进一步其他实施方式的概念的简略仰视图，(E)是表示上述装置的另外进一步其他实施方式的概念的简略仰视图，(F)是表示上述装置的进一步另外其他实施方式的概念的简略仰视图。图4㈧ ⑶分别是表示图1所示装置的进一步其它实施方式的概念的简略纵剖面图。图5(A) (D)分别是表示图1所示装置的进一步其它实施方式的概念的简略纵剖面图。图6㈧ ⑶分本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种含有以下的铜酞菁而成的铜酞菁颜料，结晶型为α型，而且，在３８０ｎｍ～７８０ｎｍ中的透射光谱的透射率达到最大的波长（λｍａｘ）小于４７８ｎｍ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎村真一，
申请(专利权)人：M技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP