平面偏振分光器制造技术

本发明专利技术提供了一种包括平面光学结构的设备，所述平面光学结构包括：输入耦合器、第一和第二平面波导以及输出耦合器，全都位于平面衬底上。所述输入耦合器被配置为将输入光分为两个输入光束。第一和第二波导中的每一个被配置为接收两个输入光束之一。第一波导的第一芯的宽度大于第二波导的第二芯的宽度。第一或第二平面波导中的至少一个是双折射的。所述输出耦合器被配置为接收经过第一和第二波导之后的光束。来自所述输出耦合器的第一输出光束是基本上ＴＥ偏振光，来自所述输出耦合器的第二输出光束是基本上ＴＭ偏振光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开总体涉及偏振分光器以及使用该偏振分光器的方法和制造该偏振分光器的方法。
技术介绍
本部分介绍了可能有助于便于更好地理解本专利技术的方面。相应地，由此应当阅读本部分的说明。本部分的说明不应被理解为关于哪些是现有技术的内容或哪些不是现有技术的内容的承认。偏振分光器将偏振光分为横电(TE)和横磁(TM)偏振光。Mach-Zehnder干涉计型偏振分光器可以用在多个光电信应用中，例如偏振分集接收机、偏振移相键控和偏振分集复用。对于广播适用性，期望偏振分光器可在较宽的波长范围内操作，例如，在整个C频带波长范围内。然而，以低成本提供这种波长不敏感性以及提供紧凑设计的设备已经成了问题。例如，一些先前的工作需要选择性地在波导之一上或附近选择性地沉积金属层的附加处理步骤，以引起或改变波导的双折射属性，从而实现偏振光的划分。除了需要附加处理步骤以外，这种设计会具有实质的插入损耗。其他工作需要在一个波导附近沉积应力诱导 (stress-inducing)材料，以引起或改变波导的双折射属性，从而实现所期望的偏振光的划分。同样，这需要将应力诱导材料置于波导附近的附加处理步骤。另外的工作需要纳米光刻，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种设备，包括：平面光学结构，包括：平面衬底上的输入耦合器，所述输入耦合器被配置为将输入光分为两个光束；所述平面衬底上的第一和第二平面波导，所述第一和第二波导中的每一个被配置为接收所述两个波束之一，其中，所述第一波导的第一芯的宽度大于所述第二波导的第二芯的宽度，所述第一或第二平面波导中的至少一个是双折射的；以及所述平面衬底上的输出耦合器，所述输出耦合器被配置为接收经过所述第一和第二波导之后的所述光束，其中，来自所述输出耦合器的第一输出光束是基本上横电偏振光，来自所述输出耦合器的第二输出光束是基本上横磁偏振光。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯托弗·理查德·多尔，
申请(专利权)人：阿尔卡特朗讯美国公司，
类型：发明
国别省市：US