本发明专利技术提供一种有源矩阵基板。本发明专利技术的有源矩阵基板（３）具备构成显示区域（４）的多个像素（５）和设置在该显示区域（４）的周围的多个伪像素（６、８、１０、１２），其中，由于在所述多个像素（５）的各个像素中分别形成有由一定宽度的多个倾斜配线构成的倾斜图形（１４），在所述多个伪像素（６、８、１０、１２）中的至少任意一个中，至少形成有一个由与所述一定宽度相同宽度的多个纵配线或横配线构成的测定用图形，因此，无需增加有源矩阵基板（３）的额缘区域，而能够进行图形的线宽度的测定和对准校正。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在显示区域周围配置有伪像素的结构的有源矩阵基板、具备该有源矩 阵基板的显示面板、和具备该显示面板的显示装置。
技术介绍
一直以来，在液晶显示装置中，为了提高显示品质的可靠性，进行了各种各样的研 究。其中之一是伪像素的利用。伪像素设置在液晶面板的显示区域的外侧，但不用于实际 的显示。在专利文献1公开了利用伪像素的液晶显示装置的一个例子。在专利文献1中，公开有有源矩阵式液晶显示装置，其特征在于，通过使排列于第 一基板的最外周的像素电极比其它像素电极的形状小，并且使最外周的扫描信号线和显示 信号线靠近内侧，由此作为非显示伪像素。根据该装置，不会招致图像显示上的亮度不均和液晶的密封性能的降低，从而实 现基板的有効利用。另一方面，也公开了各种改善液晶显示装置的视野角特性的技术。专利文献2中 公开了其中的一个例子。在专利文献2中公开了如下所述形状的电极单元具有从干部分 支并相对于干部倾斜呈梳形状延伸的多个电极(枝部)、和相邻的枝部间的电极的缺省部 (间隙)。根据该技术，由于使液晶分子在各种角度进行取向，因此能够改善视野角特性。专利文献专利文献1 日本国公开专利公报“特开平9-5780号公报(公开日1997年1月 10 日)”专利文献2 日本国公开专利公报“特开2004-4460号公报(公开日2004年1月 8 曰)，，
技术实现思路
在专利文献2的技术中，各像素均具有倾斜图形的像素电极。S卩，任何像素几乎都 不具有在X方向或Y方向(和基板边相同方向)上具有边缘部的图形的像素电极。由于该 原因而产生了一个问题。有源矩阵基板通过在多层中使用光刻技术而制作，在其它的层相对于某层错开形 成的情况下，即在对准发生偏离的情况下，显示品质恶化。例如，在像素电极相对于源极总 线线路偏离规定的位置而形成的情况下，对液晶施加的电压与规定值不同。因此不能获得 所期望的显示。另外，在反复进行多次曝光，形成显示区域的情况下，在某块的、像素电极相对源 极总线线路的位置偏移量与其它块的、像素电极相对源极总线线路的位置偏移量不同的情 况下，在各个的块中的源极总线线路-像素电极间的寄生容量不同，其结果是，每个块中产 生亮度不同的显示，即引起所谓的块分区。在图形宽度与规定值不同的情况下显示品质也恶化。例如，相对于源极总线线路， 像素电极的重叠的宽度与规定的宽度不同的情况下，源极总线线路-像素电极间的寄生容 量与规定值不同，对液晶施加的电压与规定值不同。因此，不能获得所期望的显示。另外， 在通过2 4um程度的宽度的精细的电极组合形成像素电极的图形的情况下，若细微的电 极的宽度与规定的宽度不同，则对液晶施加电压时的电场不同，不能获得所期望的液晶分 子的取向。如上所述，在有源矩阵基板的制造工序中，图形线宽度的测定和对准的偏移量的 测定非常重要，必要时，在曝光装置中校正曝光时间、或进行对准校正。但是，线宽度测定装 置或者曝光装置的坐标轴与通常的制造装置的坐标轴相同，以基板边作为基准。因此，在将 基于专利文献2的技术的倾斜图形的像素电极作为对象的情况下，由于几乎没有与作为基 准的坐标轴平行或者垂直的配线，因此，事实上不能进行像素的线宽度的测定和对准的校 正。因此，需要在显示区域的外侧另外设置用于测定像素的线宽度或校正对准的追加图形。 由此，产生液晶面板的窄额缘化变得困难，并且测定精度恶化的问题。另外，在专利文献1中，没有特别公开伪像素中的像素图形。因此，在专利文献1 的技术中采用在专利文献2中公开的倾斜图形的像素电极形状的情况下，伪像素的像素电 极形状也同样成为倾斜图形。因此，由于需要在伪像素的外侧另外设置测定用的图形，因此 和专利文献2同样，液晶面板的窄额缘化变得困难，而且测定精度恶化。本专利技术是鉴于上述的问题点而完成的，其目的在于提供不增加显示面板的额缘区 域，而能够进行图形的线宽度的测定和对准的校正的有源矩阵基板、具备该有源矩阵基板 的显示面板、和具备该显示面板的显示装置。为了解决上述课题，本专利技术提供一种有源矩阵基板，其特征在于具备构成显示区 域的多个像素和在该显示区域的周围设置的多个伪像素，在上述多个像素的各个像素分别形成有由一定宽度的多个倾斜配线构成的倾斜 图形，在上述多个伪像素中的至少任意一个至少形成有一个由与上述一定宽度相同宽 度的多个纵配线或横配线构成的测定用图形。根据上述的结构，在接近显示区域的伪像素内设置有具有与线宽度测定装置或对 准校正装置的基准轴成水平或垂直的配线的测定用图形。因此，将设置在伪像素内的图形 的配线作为对象，能够进行线宽度的测定和对准的校正。由此，不需要在配线(引出配线) 区域重新设置测定图形。因此，不增加有源矩阵基板的额缘区域，而能够进行线宽度的测定 和对准校正。另外，通常，在构成显示面板的有源矩阵基板的制造工序中，配线材料和绝缘膜、 或光刻工序中的抗蚀剂材料的膜厚在显示基板内各不相同。因此，若实际测定的图形从想 要测定的位置(显示区域)离开，则根据膜厚的不同而有可能在线宽度等产生差，从而不能 正确地测定线宽度等。另一方面，由于在本有源矩阵基板中显示区域和伪像素互相接近，因此伪像素内 的测定图形与显示区域接近。由此，由于可降低膜厚的不一致造成的影响，所以能够正确地 测定线宽度等。另外，在本专利技术的有源矩阵基板中，更优选的是，形成于上述伪像素的、包含上述测定用图形内的配线的全配线的密度与形成于上述像素的、包含上述倾斜配线的全配线的 密度相同。在使用干式蚀刻的精细加工中，公知由于配线的密度差而加工形状不同(加载效 果)。在此，在本有源矩阵基板中，形成于伪像素的全配线的密度和形成于显示区域内的像 素的全配线的密度彼此相同。因此，即使形成于伪像素的配线的形状与形成于像素的配线 的形状不同，也能够使所形成的配线的形状稳定化。由此，通过测定伪像素的配线的宽度， 能够稳定且正确地测定像素内的倾斜配线的线宽度。另外，在本专利技术的有源矩阵基板中，更优选的是，在上述伪像素中的与上述多个像 素的任意一个相邻的一半，形成有与形成于该像素的上述倾斜图形相同的倾斜图形。在各像素中，液晶分子的取向的状态不仅受到该像素的液晶施加电压影响，还受 到相邻的像素中的液晶分子的取向的影响。因此，在本有源矩阵基板中，与伪像素的像素相 邻一侧的一半的配线图形与该像素的配线图形相同。因此，与伪像素相邻的像素从该伪像 素受到的液晶取向上的影响与从其它的像素受到的影响几乎相同。因此，没有与伪像素相 邻的像素中的液晶取向几乎和与伪像素相邻的像素中的液晶取向为相同水平，其结果是， 显示区域内的全部像素中的显示品质彼此相同。如上所述，在本有源矩阵基板中，在显示区域整体上，能够避免仅最外像素与中央 像素的显示状态不同这样的显示品质下降。另外，在本专利技术的有源矩阵基板中，更优选的是，上述多个伪像素形成于上述显示 区域的全周。根据上述的结构，沿显示区域的全周(全部四边)形成有与基板正交或平行的配 线图形。因此，在该全周的任一边，能够进行线宽度的测定和对准的校正。即，实现更容易 进行线宽度的测定和对准的校正的效果。另外，可以容易地实施旋转系统的校正。为了解决上述课题，本专利技术提供一种显示面板，其特征在于，具备上述任一项的有 源矩阵基板。根据上述的结构，不增加有源矩阵基本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种有源矩阵基板，其特征在于：具备构成显示区域的多个像素和在该显示区域的周围设置的多个伪像素，在所述多个像素的各个像素分别形成有由一定宽度的多个倾斜配线构成的倾斜图形，在所述多个伪像素中的至少任意一个上至少形成有一个由与所述一定宽度相同宽度的多个纵配线或横配线构成的测定用图形。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：冈田胜博，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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