显示装置及其制造方法制造方法及图纸

提供了能够在早期检测通过激光转印方法形成的发光层的位置差别、宽度偏差之类的征兆的显示装置及其制造方法。在有效区域（１１０）外侧的检查区域（１５０）中设置了各自由任何一种有机发光单元（１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ）形成的检查像素（Ｐｘ２），并且使要检查的颜色两侧的检查像素（Ｐｘ２）之间的距离（Ｗ２）窄于要检查的颜色两侧的显示像素（Ｐｘ１）之间的距离（Ｗ１）。从而，可以基于检查像素（Ｐｘ２）的ＥＬ或ＰＬ的色度或光谱形状的变化来在早期检测红色发光层（１５ＣＲ）和红色发光层（１５ＣＧ）的位置差别之类的征兆。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过激光转印(laser transfer)方法形成有机发光单元的显示装置 及其制造方法。
技术介绍
近年来，已经在积极地开发下一代显示装置，并且已在关注使用有机发光单元 (有机EL (电致发光)单元)的有机发光显示装置，在这种有机发光单元中，第一电极、包 括发光层的多个有机层以及第二电极被顺次层压在驱动基板上。有机发光显示装置具有 这样的特征视野角较宽，因为它是自发光类型的；不需要背光，因此可以预期到功率的节 省；响应度高；装置的厚度可得以减小；等等。因此，强烈希望应用到诸如TV之类的大屏幕 显示装置。为了增大有机发光显示装置的大小和生产率，已经在研究对更大的母体玻璃的使 用。此时，在通过使用一般金属掩膜来形成发光层的方法中，通过经由在金属片上设有开口 图案的金属掩膜蒸镀或涂敷发光材料来对R、G和B的发光层进行图案化，因此相应于大基 板，必须增大金属掩膜的大小。然而，因为金属掩膜大小的增大，由于掩膜的重量而发生变形，并且蒸镀时的热膨 胀显著，另外还出现这样的问题，即金属掩膜本身的开口图案的精确度由于大小增大而降 低，从而，发光层的图案化精确度也未能实现。另外，由于金属掩膜与基板之间的接触而导 致的对元件的损害以及由于掩膜上的异物而导致的瑕疵不良也随着大小的增大而变得严 重。因此，希望有不需要金属掩膜的图案化技术。作为用于大型基板的无掩膜图案化方法，有喷墨方法(例如参见PLT1)和激光转 印方法(例如PLT 1和PLT 3)。激光转印方法是如下的方法形成施主单元，其中，包括 发光材料的转印层被形成在支撑构件中；将此施主单元与用于形成有机发光单元的被转印 基板相向放置；并且通过在减压环境中利用激光束照射来将该转印层转印到该被转印基板 (例如参见PLT 2和PLT 3)。相对于传统的掩膜淀积方法，激光转印方法具有两个优点清 晰度可以更高，并且能够应对大型基板。为了实现有机EL的大型TV的大规模生产，确立用 于大型基板的制造技术被认为是必要的，并且激光转印方法对于大型基板也能维持恒定的 图案化精确度从而是所述制造技术的有力候选者之一。在激光转印方法中，如图39所示，在有效区域810内，由有机发光单元810R、810G 和810B构成的显示像素Pxl被形成为矩阵，并且同种颜色的显示像素Pxl被布置在同一列 中。在同一列中的有机发光单元810R组成的显示像素Pxl中，通过激光转印方法形成连续 红色发光层815CR。类似地，在同一列中的有机发光单元810G组成的显示像素Pxl中，通过 激光转印方法形成连续绿色发光层815CG。引文列表专利文献PTL 1 日本未实审专利申请公布No. 1998-12377PTL 2 日本未实审专利申请公布No. 2002-110350PTL 3 日本未实审专利申请公布No. 2002-534782PTL 4 日本未实审专利申请公布No. 2003-107238
技术实现思路
一般地，在激光转印方法中，为了增大生产率，除了增大激光或基板的扫描速度以 外，还可以设想通过使用多激光头或多光束来减少每基板的处理时间。在这种情况下，有如 下这种可能，即由于激光头之间的距离的偏差、光束强度的不均一性或者光束之间的间距 的偏差，或者它们随着时间的变化，如图39所示，被转印的红色发光层815CR或绿色发光层 815CG的定位失准或宽度偏差将会发生。这种定位失准或宽度偏差导致诸如混色、膜厚度分 布的不均一性等等之类的不良，但是甚至就在即将发生这种不良之前，在发光中也观察不 到异常，从而措施往往都晚了。有机发光层的发光层一般具有大约IOnm到大约IOOnm的膜 厚度，从而难以识别，并且相对难以控制被转印的发光层的位置或宽度。另外，不容易识别 导致定位失准或宽度偏差的激光头或光束。另外，有这样一种可能，即当由于激光头的定位失准而导致的不良发生时，因为在 转印过程和检查过程之间存在时间滞后，所以在此期间生产的面板大多数将变得有缺陷，从而严重影响产量。在PTL 4中，公开了有机EL图案的图案化位置精确度评估图案。然而，在此传统 技术中，有机EL的图案化方法限于喷墨方法，并且测量对象不是膜而是液滴，从而，在发光 区域中最终要形成的图案的宽度是不清楚的。此外，难以识别导致位置精确度恶化的喷头 或喷嘴。本专利技术是考虑到上述问题而做出的，并且致力于提供一种能够在早期检测到通过 激光转印方法形成的发光层的诸如定位失准或宽度偏差之类的征兆的显示装置及其制造 方法。根据本专利技术的第一显示装置包括以下要素㈧和⑶。(A)有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形 成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中。(B)在基板的有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有由有机发光单元组成 的检查像素，并且在该检查区域中，作为检查对象的颜色两侧的检查像素之间的距离短于 作为检查对象的颜色两侧的显示像素之间的距离。根据本专利技术的第二显示装置包括以下要素㈧和⑶。(A)有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形 成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中。(B)在基板的有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有包括反射层的检查图 案，并且在该检查区域中，作为检查对象的颜色两侧的检查图案之间的距离短于作为检查 对象的颜色两侧的显示像素之间的距离。根据本专利技术的第三显示装置包括以下要素㈧和⑶。(A)有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形 成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中。(B)在基板的有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有由有机发光单元组成 的检查像素，并且在该检查区域中，检查像素被设置在与作为检查对象的颜色的显示像素 的列相同的列中，并且具有比显示像素的宽度更宽的宽度。根据本专利技术的第四显示装置包括以下要素㈧和⑶。(A)有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形 成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中。(B)在基板的有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有包括反射层的检查图 案，并且在该检查区域中，检查图案被设置在与作为检查对象的颜色的显示像素的列相同 的列中，并且具有比显示像素的宽度更宽的宽度。根据本专利技术的第五显示装置包括以下要素㈧和⑶。(A)有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形 成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中。(B)在基板的有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有包括反射层和刻度的 检查图案，并且在该检查区域中，检查图案是在行方向上直线状形成的，覆盖作为检查对象 的颜色的列和该列两侧的列的至少一部分。根据本专利技术的制造显示装置的第一方法包括以下步骤(A)至(E)。步骤(A)在基板的有效区域中以矩阵形式形成显示像素的第一电极，在有效区 域外侧的检查区域中形成检查像素的第一电极，并且使作为检查对象的颜色两侧的检查像 素的第一电极之间的距离短于作为检查对象的颜色两侧的显示像素的第一电极之间的距1 。步骤(B)在显示像素的第一电极和检查像素的第一电极上形成包括红色发光 层、绿色发光层和蓝色发光层中的至少一种的有机层，并且通过激光转印方法在列方向本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种显示装置，包括：有效区域，在该有效区域中，在基板上，由有机发光单元组成的显示像素被形成为矩阵，并且相同颜色的显示像素被布置在相同列中；以及在所述基板的所述有效区域的外侧的检查区域，该检查区域具有由有机发光单元组成的检查像素，并且在该检查区域中，作为检查对象的颜色两侧的检查像素之间的距离短于作为检查对象的颜色两侧的显示像素之间的距离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：松尾圭介，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP