【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利说明书涉及共同-光路干涉。更具体地，本专利说明书涉及高分辨率共 同-光路干涉成像，用于对诸如半导体器件和集成电路之类的微型光刻器件中的缺陷以及 光刻中间掩模中的缺陷进行检测和分类。
技术介绍
光学缺陷检测技术已经成为限制我们制造越来越小的晶体管的关键技术之一。至 今，它已经提供了像电子束显微镜之类的其它技术不能提供的高性能和高生产率。然而，随 着IC(集成电路)芯片中使用的几何形状继续减小，可靠地检测缺陷变得更困难。未来各 代的IC芯片的设计尺度是如此地小，以致存在这样的实际可能性，即，当前的光学缺陷检 测技术中没有一种是好用的。因此，为了使光学检验技术的寿命延长到未来各代的装置，需 要对光学缺陷检测技术进行很大地革新。当今使用的光学缺陷检测系统包括明场系统和暗场系统。与明场系统不同，暗场 系统试图排除来自图像的未散射的照射光束。然而，当前的暗场和明场缺陷检测系统存在 限制，这导致难以可靠地检测缺陷，特别当设计尺度逐渐地减小时。已经有人提出了分离 光路干涉技术，根据该技术，使用分束器产生两个光束，即探测光束和参考光束，并且通过 不同的光路或子系统将它们引入...
【技术保护点】
一种用于检测样品中的缺陷的共同－光路干涉成像系统，所述系统包括：照射源，用于产生光并把光引导到样品；光学成像系统，所述光学成像系统具有物平面和像平面，并且被安排成使样品位于物平面中，并且被配置成收集来自样品的光的散射分量和镜面反射分量，其中散射分量和镜面反射分量具有相对的相位；可变相位控制系统，相对于光学成像系统而可操作地安排所述可变相位控制系统并且将其配置成调节所述散射分量和镜面反射分量之间的相对的相位；以及检测系统，所述检测系统被安排在像平面中并且在调节所述相对的相位之后检测所述散射分量和镜面反射分量的组合的至少一些部分，并且产生用于表示所述散射分量和镜面反射分量的组合...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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