【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种膜料加工装置,尤其涉及一种设置于离子辅助蒸镀系统内用于平整膜料的、可监控膜料的膜料加工装置及具有该膜料加工装置的蒸镀设备。
技术介绍
光学薄膜一般采用蒸镀法(Evaporation Deposition)、离子辅助蒸镀法 (IonAssisted deposition, IAD) , ^!!!!! (Ion Beam Sputtering Deposition, IBSD) 进行镀制。离子辅助蒸镀具有独立的离子源,安装简单,对原系统的影响低,且离子束的范围大,分布均勻,拥有良好的动能,可以较轻易地将膜层压紧,得到附着力良好的膜层等优点, 其采用程度较高。离子辅助蒸镀中,要求膜料(即蒸镀靶材)表面平整、内部结构致密,具有较好的洁净度,并避免存在颗粒状或纤维状的杂质,以确保蒸镀加工过程蒸镀速率稳定, 在镀膜件上形成质量较佳的膜层。因此,通常需要先制取供离子辅助蒸镀加工使用的表面平整、内部结构致密的膜料。目前,制取膜料一般是先将颗粒状的膜料原料放入蒸镀腔中的金属坩埚内,并采用人工的方式进行平整,然后在真空环境里利用高能电子束进行加热,使坩埚内的膜料 ...
【技术保护点】
1.一种膜料加工装置,其用于平整蒸镀膜料,所述膜料加工装置包括:一个坩埚,其具有一个收容膜料的容置孔;其特征在于:所述膜料加工装置进一步包括一个平整盖,一个驱动器,及一个监控装置;所述平整盖与所述坩埚的容置孔相配合以平整容置孔内的膜料;所述平整盖具有一个形状与所述容置孔的形状相对应的平整面,一个开设于所述平整面且朝所述平整盖内部延伸的凹槽,及开设于所述平整盖除所述平整面以外的其他表面的第一通光孔与第二通光孔,所述第一通光孔与所述第二通光孔分别与所述凹槽连通;所述驱动器具有一个与所述平整盖相耦合的驱动轴,所述驱动器驱动所述平整盖绕所述驱动轴旋转以闭合或开启所述坩埚的容置孔;所 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:裴绍凯,
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司,鸿海精密工业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:94
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