一种斜二测几何画板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种斜二测几何画板，由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体，所述板面即透明塑料板；所述镂空几何图形具有一定的宽度，镂空几何图形与板面底线形成相应的平面45度位置关系。该结构设计应用于立体作图中斜二测画法的便利使用。使用便利，作图快，且作图精准。该结构中镂空几何图形与画板底线的位置配合，使其符合斜二测画法的绘图步骤与要求，有效节约了时间，且减少了人为原因造成的作图误差。画板对称的设计可使平面图形的斜二测作图以或左或右的两种立体图像呈现。为充分利用画板面积，在主体部分的空当处加入了量角器，为几何作图增加了更多功能。本实用新型专利技术结构简单合理，使用方便、安全，成本低廉，适应范围宽。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种文具附件，特别涉及一种斜二测几何画板。
技术介绍
斜二测画法从右/左上角往下看到的几何图形的的直观图的画法，叫做斜二测画法。每个垂直的夹角都应是135度，90度及45度，看不见的部分用虚线表示。斜二测画法建立适当的平面直角坐标系建立V轴与Y ‘轴成45°的坐标系平行于X轴的线段仍平行于V轴，长度不变平行于Y轴的线段仍平行于Y ‘轴但长度减半对于立体也就是三维图形也有将X、Y轴均缩小为二分之根号二倍，交角45度或 135度，Z轴的长度不变。人们平时进行斜二测作图时，需要针对每个点先用量角器做出与点对应的Y’轴， 再用刻度尺将已确定的Y轴点的Y’轴对应点依次描出，以出现量角的偏差，且逐个点依次使用量角器和刻度直尺操作繁杂，以至于耗时费力，还有很大的可能出现误差。因此，不需要量角器的使用，直接地确定对应点，减少操作过程成为了该技术的核心专利技术点。目前，虽然已有画板能够根据几何模型画出斜二测图形，但还存在单模型单图形的局限性，不能够解决普遍的广泛的图形便捷的斜二测画法问题，适应范围较窄。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足之处，提供一种结构简单轻巧、实用性强、应用范围广的斜二测几何画板。为实现上述目的本专利技术所采用的技术方案是一种斜二测几何画板，其特征在于由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体，所述板面即透明塑料板；所述镂空几何图形具有一定的宽度，镂空几何图形与所述板面底线形成相应的平面45度位置关系。本专利技术的有益效果是该结构设计中透明的几何画板，最主要是为了使画板底线能够透过画板与平面直角坐标系相重合。然后镂空几何图形与画板底线形成45度的平面位置关系，并在镂空的边缘配上刻度尺，从而达到了无需量角器的使用，直接根据两个刻量数2 1的关系定点的简化作图过程的目的。这正是区别于之前的定模型画板的根本不同之处。该结构中的对称设计，只需要倒转画板，就能够达到斜左或斜右的作图效果，以满足不同的需要。另加量角器功能，以充分利用空间并为其他制图提供了方便，且本尺支持刻度直尺功能，所以本尺几乎满足了基本作图的需要，便于日常使用。本专利技术结构简单，设计合理，造型轻巧，使用方便，成本低廉，适应范围宽。该斜二测几何画板使使用者感到省时、省力，方便快捷，应用广泛。广泛的适用性、实用性及操作的简单性、安全性既是本技术方案的显著特征，也必将成为产品市场化的优势。本专利技术将真正克服学生上课作图慢的问题，达到提高人们做立体直观图的效率的目的，大大减少了作图的过程中原来必需的琐碎过程，从而便利了制图这一枯燥的过程。附图说明图1是本专利技术结构示意图。图中1板面，2镂空几何图形，3画板底线及刻度线，4量角器。具体实施方式以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提供的具体实施方式、结构、特征详述如下如图1所示，一种斜二测几何画板，由板面1、镂空几何图形2和板面中的画板底线及刻度线3配合形成一体，所述板面1即透明塑料板；所述镂空几何图形2具有一定的宽度，镂空几何图形2与所述画板底线及刻度线3形成相应的平面45度位置关系。其特征在于该结构设计中透明的几何画板，最主要是为了使画板底线及刻度线3能够透过画板与平面直角坐标系相重合。然后镂空几何图形2与画板底线及刻度线3形成45度的平面位置关系，并在镂空几何图形2的边缘配上刻度尺，从而达到了无需量角器的使用，直接根据两个刻量数21的关系定点的简化作图过程的目的。这正是区别于之前的定模型画板的根本不同之处。该结构中的对称设计，只需要倒转画板，就能够达到斜左或斜右的作图效果， 以满足不同的需要。另加量角器4功能，以充分利用空间并为其他制图提供了方便，且本尺支持刻度直尺功能，所以本尺几乎满足了基本作图的需要，便于日常使用。使用时只需依次使用本画板确定出特殊点，然后依次相连即可得斜二测画法图像。本专利技术适应范围宽，使用非常简单，省时省力，精准度高的效果非常显著。上述参照实施例对斜二测几何画板进行的详细描述，是说明性的而不是限定性的，可根据需要制成各种不同的规格，因此在不脱离本专利技术总体构思下的变化和修改，应属本专利技术的保护范围之内。权利要求1. 一种斜二测几何画板，其特征在于由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体，所述板面即透明塑料板；所述镂空几何图形具有一定的宽度，镂空几何图形与所述板面底线形成相应的平面45度位置关系。专利摘要本技术涉及一种斜二测几何画板，由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体，所述板面即透明塑料板；所述镂空几何图形具有一定的宽度，镂空几何图形与板面底线形成相应的平面45度位置关系。该结构设计应用于立体作图中斜二测画法的便利使用。使用便利，作图快，且作图精准。该结构中镂空几何图形与画板底线的位置配合，使其符合斜二测画法的绘图步骤与要求，有效节约了时间，且减少了人为原因造成的作图误差。画板对称的设计可使平面图形的斜二测作图以或左或右的两种立体图像呈现。为充分利用画板面积，在主体部分的空当处加入了量角器，为几何作图增加了更多功能。本技术结构简单合理，使用方便、安全，成本低廉，适应范围宽。文档编号B43L13/20GK202038063SQ20102060936公开日2011年11月16日 申请日期2010年11月16日 优先权日2010年11月16日专利技术者王旭 申请人:王旭本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种斜二测几何画板，其特征在于由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体，所述板面即透明塑料板；所述镂空几何图形具有一定的宽度，镂空几何图形与所述板面底线形成相应的平面４５度位置关系。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王旭，
申请(专利权)人：王旭，
类型：实用新型
国别省市：12